| ■ 영문 제목 : Global Niobium Sputtering Target Market Growth 2025-2031 | |
 | ■ 상품코드 : LPK23JU0920 ■ 조사/발행회사 : LP Information ■ 발행일 : 2025년 3월 ■ 페이지수 : 95 ■ 작성언어 : 영어 ■ 보고서 형태 : PDF ■ 납품 방식 : E메일 ■ 조사대상 지역 : 글로벌 ■ 산업 분야 : 화학&재료 |
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| LP인포메이션 (LPI) 의 최신 조사 자료는 니오븀 스퍼터링 타겟의 과거 판매실적을 살펴보고 2024년의 니오븀 스퍼터링 타겟 판매실적을 검토하여 2025년부터 2031년까지 예상되는 니오븀 스퍼터링 타겟 판매에 대한 지역 및 시장 세그먼트별 포괄적인 분석을 제공합니다. 글로벌 니오븀 스퍼터링 타겟 시장규모는 2024년 xxx백만 달러에서 연평균 xx% 성장하여 2031년에는 xxx백만 달러에 달할 것으로 예측되고 있습니다. 본 보고서의 시장규모 데이터는 무역 전쟁 및 러시아-우크라이나 전쟁의 영향을 반영했습니다. 본 조사 자료는 글로벌 니오븀 스퍼터링 타겟 시장에 관해서 조사, 분석한 보고서로서, 기업별 시장 점유율, 지역별 시장규모 (미주, 미국, 캐나다, 멕시코, 브라질, 아시아 태평양, 중국, 일본, 한국, 동남아시아, 인도, 유럽, 독일, 프랑스, 영국, 이탈리아, 러시아, 중동/아프리카, 이집트, 남아프리카, 터키, 중동GCC국 등), 시장동향, 판매/유통업자/고객 리스트, 시장예측 (2026년-2031년), 주요 기업동향 (기업정보, 제품, 판매량, 매출, 가격, 매출총이익) 등의 정보를 수록하고 있습니다. 또한, 주요지역의 종류별 (순도 99.99%~99.999%, 순도 99.9%~99.99%, 순도 99%~99.9%) 시장규모와 용도별 (가공 및 제조, 화학, 에너지, 전자, 기타) 시장규모 데이터도 포함되어 있습니다. ***** 목차 구성 ***** 보고서의 범위 경영자용 요약 - 글로벌 니오븀 스퍼터링 타겟 시장규모 2020년-2031년 - 지역별 니오븀 스퍼터링 타겟 시장분석 - 종류별 니오븀 스퍼터링 타겟 시장규모 2020년-2025년 (순도 99.99%~99.999%, 순도 99.9%~99.99%, 순도 99%~99.9%) - 용도별 니오븀 스퍼터링 타겟 시장규모 2020년-2025년 (가공 및 제조, 화학, 에너지, 전자, 기타) 기업별 니오븀 스퍼터링 타겟 시장분석 - 기업별 니오븀 스퍼터링 타겟 판매량 - 기업별 니오븀 스퍼터링 타겟 매출액 - 기업별 니오븀 스퍼터링 타겟 판매가격 - 주요기업의 니오븀 스퍼터링 타겟 생산거점, 판매거점 - 시장 집중도 분석 지역별 분석 - 지역별 니오븀 스퍼터링 타겟 판매량 2020년-2025년 - 지역별 니오븀 스퍼터링 타겟 매출액 2020년-2025년 미주 시장 - 미주의 니오븀 스퍼터링 타겟 시장규모 2020년-2025년 - 미주의 니오븀 스퍼터링 타겟 시장규모 : 종류별 - 미주의 니오븀 스퍼터링 타겟 시장규모 : 용도별 - 미국 니오븀 스퍼터링 타겟 시장규모 - 캐나다 니오븀 스퍼터링 타겟 시장규모 - 멕시코 니오븀 스퍼터링 타겟 시장규모 - 브라질 니오븀 스퍼터링 타겟 시장규모 아시아 태평양 시장 - 아시아 태평양의 니오븀 스퍼터링 타겟 시장규모 2020년-2025년 - 아시아 태평양의 니오븀 스퍼터링 타겟 시장규모 : 종류별 - 아시아 태평양의 니오븀 스퍼터링 타겟 시장규모 : 용도별 - 중국 니오븀 스퍼터링 타겟 시장규모 - 일본 니오븀 스퍼터링 타겟 시장규모 - 한국 니오븀 스퍼터링 타겟 시장규모 - 동남아시아 니오븀 스퍼터링 타겟 시장규모 - 인도 니오븀 스퍼터링 타겟 시장규모 유럽 시장 - 유럽의 니오븀 스퍼터링 타겟 시장규모 2020년-2025년 - 유럽의 니오븀 스퍼터링 타겟 시장규모 : 종류별 - 유럽의 니오븀 스퍼터링 타겟 시장규모 : 용도별 - 독일 니오븀 스퍼터링 타겟 시장규모 - 프랑스 니오븀 스퍼터링 타겟 시장규모 - 영국 니오븀 스퍼터링 타겟 시장규모 중동/아프리카 시장 - 중동/아프리카의 니오븀 스퍼터링 타겟 시장규모 2020년-2025년 - 중동/아프리카의 니오븀 스퍼터링 타겟 시장규모 : 종류별 - 중동/아프리카의 니오븀 스퍼터링 타겟 시장규모 : 용도별 - 이집트 니오븀 스퍼터링 타겟 시장규모 - 남아프리카 니오븀 스퍼터링 타겟 시장규모 - 중동GCC 니오븀 스퍼터링 타겟 시장규모 시장의 성장요인, 과제, 동향 - 시장의 성장요인, 기회 - 시장의 과제, 리스크 - 산업 동향 제조원가 구조 분석 - 원재료 및 공급업체 - 니오븀 스퍼터링 타겟의 제조원가 구조 분석 - 니오븀 스퍼터링 타겟의 제조 프로세스 분석 - 니오븀 스퍼터링 타겟의 산업체인 구조 마케팅, 유통업체, 고객 - 판매채널 - 니오븀 스퍼터링 타겟의 유통업체 - 니오븀 스퍼터링 타겟의 주요 고객 지역별 니오븀 스퍼터링 타겟 시장 예측 - 지역별 니오븀 스퍼터링 타겟 시장규모 예측 2026년-2031년 - 미주 시장 예측 - 아시아 태평양 시장 예측 - 유럽 시장 예측 - 중동/아프리카 시장 예측 - 니오븀 스퍼터링 타겟의 종류별 시장예측 (순도 99.99%~99.999%, 순도 99.9%~99.99%, 순도 99%~99.9%) - 니오븀 스퍼터링 타겟의 용도별 시장예측 (가공 및 제조, 화학, 에너지, 전자, 기타) 주요 기업 분석 (기업정보, 제품, 판매량, 매출, 가격, 매출총이익) - American Elements, ALB Materials, Stanford Advanced Materials, Ningxia Orient Tantalum Industry, ESPI Metals, Edgetech Industries, Thermo Fisher Scientific, Kurt J. Lesker, Plasmaterials 조사의 결과/결론 |
Niobium sputtering target shares properties with their source material. Niobium is a light grey, crystalline, and ductile transition metal. Niobium sputter targets are used for thin film deposition, typically for fuel cell, decoration, semiconductor, display, LED and photovoltaic devices, glass coating, etc.
LPI (LP Information)’ newest research report, the “Niobium Sputtering Target Industry Forecast” looks at past sales and reviews total world Niobium Sputtering Target sales in 2024, providing a comprehensive analysis by region and market sector of projected Niobium Sputtering Target sales for 2025 through 2031. With Niobium Sputtering Target sales broken down by region, market sector and sub-sector, this report provides a detailed analysis in US$ millions of the world Niobium Sputtering Target industry.
This Insight Report provides a comprehensive analysis of the global Niobium Sputtering Target landscape and highlights key trends related to product segmentation, company formation, revenue, and market share, latest development, and M&A activity. This report also analyzes the strategies of leading global companies with a focus on Niobium Sputtering Target portfolios and capabilities, market entry strategies, market positions, and geographic footprints, to better understand these firms’ unique position in an accelerating global Niobium Sputtering Target market.
This Insight Report evaluates the key market trends, drivers, and affecting factors shaping the global outlook for Niobium Sputtering Target and breaks down the forecast by type, by application, geography, and market size to highlight emerging pockets of opportunity. With a transparent methodology based on hundreds of bottom-up qualitative and quantitative market inputs, this study forecast offers a highly nuanced view of the current state and future trajectory in the global Niobium Sputtering Target.
The global Niobium Sputtering Target market size is projected to grow from US$ million in 2024 to US$ million in 2031; it is expected to grow at a CAGR of % from 2025 to 2031.
United States market for Niobium Sputtering Target is estimated to increase from US$ million in 2024 to US$ million by 2031, at a CAGR of % from 2025 through 2031.
China market for Niobium Sputtering Target is estimated to increase from US$ million in 2024 to US$ million by 2031, at a CAGR of % from 2025 through 2031.
Europe market for Niobium Sputtering Target is estimated to increase from US$ million in 2024 to US$ million by 2031, at a CAGR of % from 2025 through 2031.
Global key Niobium Sputtering Target players cover American Elements, ALB Materials, Stanford Advanced Materials, Ningxia Orient Tantalum Industry, ESPI Metals, Edgetech Industries, Thermo Fisher Scientific, Kurt J. Lesker and Plasmaterials, etc. In terms of revenue, the global two largest companies occupied for a share nearly % in 2024.
This report presents a comprehensive overview, market shares, and growth opportunities of Niobium Sputtering Target market by product type, application, key manufacturers and key regions and countries.
[Market Segmentation]
Segmentation by type
Purity 99.99%- 99.999%
Purity 99.9%-99.99%
Purity 99%- 99.9%
Segmentation by application
Processing and Manufacturing
Chemical
Energy
Electronic
Other
This report also splits the market by region:
Americas
United States
Canada
Mexico
Brazil
APAC
China
Japan
Korea
Southeast Asia
India
Australia
Europe
Germany
France
UK
Italy
Russia
Middle East & Africa
Egypt
South Africa
Israel
Turkey
GCC Countries
The below companies that are profiled have been selected based on inputs gathered from primary experts and analyzing the company’s coverage, product portfolio, its market penetration.
American Elements
ALB Materials
Stanford Advanced Materials
Ningxia Orient Tantalum Industry
ESPI Metals
Edgetech Industries
Thermo Fisher Scientific
Kurt J. Lesker
Plasmaterials
[Key Questions Addressed in this Report]
What is the 10-year outlook for the global Niobium Sputtering Target market?
What factors are driving Niobium Sputtering Target market growth, globally and by region?
Which technologies are poised for the fastest growth by market and region?
How do Niobium Sputtering Target market opportunities vary by end market size?
How does Niobium Sputtering Target break out type, application?
What are the influences of trade war and Russia-Ukraine war?
1 Scope of the Report |
| ※참고 정보 니오븀 스퍼터링 타겟은 물리 기상 증착(Physical Vapor Deposition, PVD) 공정의 핵심 재료로서, 고순도의 니오븀(Niobium, Nb) 금속 또는 니오븀 합금으로 제조된 원판 형태의 재료입니다. 스퍼터링(Sputtering)은 진공 상태에서 불활성 기체(주로 아르곤) 이온을 타겟 표면에 충돌시켜 타겟 표면의 원자들을 물리적으로 떼어내어 기판 위에 박막을 형성하는 기술입니다. 니오븀 스퍼터링 타겟은 이러한 스퍼터링 공정을 통해 니오븀 또는 니오븀 기반 화합물의 박막을 다양한 기판 위에 증착하는 데 사용됩니다. 니오븀은 주기율표 5족에 속하는 전이 금속으로, 높은 녹는점(2468 °C), 우수한 내식성, 높은 초전도 임계 온도, 양호한 연성 및 가공성 등 독특한 물리화학적 특성을 지니고 있습니다. 이러한 특성 덕분에 니오븀 박막은 광학, 전자, 에너지, 의료 등 다양한 첨단 산업 분야에서 중요한 역할을 수행합니다. 니오븀 스퍼터링 타겟의 가장 중요한 특징은 **고순도**입니다. 스퍼터링 공정을 통해 증착되는 박막의 성능은 사용되는 타겟 재료의 순도에 크게 좌우됩니다. 불순물이 포함된 타겟을 사용하면 증착되는 박막의 결정 구조, 전기적 특성, 광학적 특성 등이 저하될 수 있습니다. 따라서 전자 산업이나 반도체 제조와 같이 고성능이 요구되는 분야에서는 99.95% 이상의 고순도 니오븀 타겟이 필수적으로 요구됩니다. 이러한 고순도 니오븀은 전자빔 용융(Electron Beam Melting) 또는 진공 아크 용해(Vacuum Arc Remelting)와 같은 정제 과정을 거쳐 제조됩니다. 둘째, **균일한 미세 구조** 역시 중요한 특징입니다. 타겟의 미세 구조는 스퍼터링 과정에서의 물질 방출 효율과 증착되는 박막의 밀도 및 균일성에 영향을 미칩니다. 입자 크기가 작고 균일한 미세 구조를 가진 타겟은 스퍼터링 시 표면으로부터의 원자 방출이 보다 효율적이고 일정하게 일어나도록 하여, 두께 편차를 최소화하고 고품질의 박막을 얻는 데 기여합니다. 셋째, **적절한 기계적 강도와 가공성**을 지니고 있어야 합니다. 스퍼터링 장비에 타겟을 장착하고 고정하는 과정에서 타겟은 물리적인 힘을 받게 됩니다. 따라서 타겟은 충분한 기계적 강도를 가져야 하며, 동시에 스퍼터링 공정에 적합한 크기와 형태로 가공될 수 있어야 합니다. 니오븀은 비교적 연성이 좋은 금속이어서 다양한 형태와 크기로 가공하기 용이하다는 장점이 있습니다. 넷째, **낮은 불순물 함량**은 고성능 니오븀 박막을 구현하는 데 필수적입니다. 특히 산소(O), 질소(N), 탄소(C)와 같은 개재물은 니오븀 박막의 전기 전도도나 초전도 특성을 크게 저하시킬 수 있습니다. 따라서 이러한 불순물 원소의 함량을 ppb(parts per billion) 수준으로 엄격하게 관리하는 것이 중요합니다. 니오븀 스퍼터링 타겟은 크게 **합금 성분에 따라** 분류될 수 있습니다. 가장 기본적인 형태는 **순수 니오븀 타겟(Pure Niobium Target)**으로, 99.95% 이상의 고순도 니오븀 금속으로 이루어져 있습니다. 이는 순수한 니오븀 박막 증착에 사용되며, 니오븀 자체의 우수한 특성을 활용하고자 할 때 적합합니다. 그 외에도 특정 성능 향상을 위해 니오븀에 다른 원소를 첨가한 **니오븀 합금 타겟(Niobium Alloy Target)**도 있습니다. 예를 들어, 니오븀-타이타늄(Nb-Ti) 합금 타겟은 초전도 자석 제조에 사용되는 니오븀-타이타늄 합금 선재 제조 시 초전도층을 형성하는 데 활용될 수 있습니다. 또한, 니오븀-산화물(NbOx)이나 니오븀-질화물(NbNx)과 같은 **니오븀 화합물 타겟**도 특정 화학량론적 조성을 갖는 니오븀 산화물 또는 질화물 박막을 직접 증착하기 위해 사용될 수 있습니다. 이러한 화합물 타겟은 화학량론적 제어가 용이하고, 산화 분위기나 질소 분위기에서 별도의 반응 가스를 사용하지 않고도 원하는 화합물 박막을 얻을 수 있다는 장점이 있습니다. 니오븀 스퍼터링 타겟의 주요 용도는 다음과 같습니다. 첫째, **초전도 박막 형성**입니다. 니오븀은 상대적으로 높은 임계 온도(9.2 K)를 갖는 초전도체입니다. 니오븀 또는 니오븀 기반 합금의 박막은 자기 공명 영상(MRI) 장치, 입자 가속기, 양자 컴퓨팅 소자 등에 사용되는 초전도 자석이나 초전도 전자 소자의 핵심 부품으로 활용됩니다. 고품질의 균일한 니오븀 초전도 박막을 증착하기 위해서는 매우 순도가 높고 미세 구조가 제어된 니오븀 스퍼터링 타겟이 요구됩니다. 둘째, **내마모성 및 내식성 코팅**입니다. 니오븀은 매우 단단하고 화학적으로 안정하여 우수한 내마모성과 내식성을 제공합니다. 니오븀 또는 니오븀 화합물 박막은 공구, 의료 기기, 자동차 부품 등에 코팅되어 수명을 연장하고 성능을 향상시키는 데 사용됩니다. 특히 화학 반응에 노출되는 부품이나 부식 환경에 놓이는 부품에 니오븀 코팅은 효과적인 보호층을 제공합니다. 셋째, **광학 코팅**입니다. 니오븀 박막은 높은 굴절률을 가지며, 투명성과 내구성이 뛰어나 광학 렌즈, 반사 방지 코팅, 광학 필터 등에 적용될 수 있습니다. 또한, 니오븀 산화물 박막은 독특한 광학적 특성을 나타내어 디스플레이나 태양 전지와 같은 분야에서 활용 가능성이 높습니다. 넷째, **반도체 및 전자 부품**입니다. 니오븀은 양호한 전기 전도성을 가지며, 특정 반도체 공정에서 전극이나 배선 재료로 사용될 수 있습니다. 또한, 니오븀은 실리콘과의 상호 확산이 적어 높은 온도에서도 안정적인 전기적 특성을 유지하는 데 유리하여 고온 작동 전자 소자나 신뢰성이 중요한 전자 부품에 적용될 수 있습니다. 다섯째, **수소 저장**입니다. 니오븀은 수소를 잘 흡수하고 방출하는 특성을 가지고 있어 수소 저장 재료로서의 가능성도 연구되고 있습니다. 니오븀 기반 박막은 수소 센서나 수소 저장 장치의 성능 향상에 기여할 수 있습니다. 니오븀 스퍼터링 타겟과 관련된 주요 기술로는 **타겟 제조 기술**과 **스퍼터링 공정 기술**을 들 수 있습니다. 타겟 제조 기술 측면에서는, 먼저 **고순도 니오븀 재료 확보 및 정제 기술**이 중요합니다. 광물에서 니오븀을 추출한 후, 불순물을 제거하기 위한 전자빔 용융, 진공 아크 용해, 도가니 용해 등의 정제 공정이 정밀하게 이루어져야 합니다. 또한, **소결 기술**이나 **압축 성형 기술**을 통해 니오븀 분말이나 스폰지 형태의 재료를 고밀도의 타겟 형태로 만드는 공정이 개발되어야 합니다. 타겟의 **기계적 가공 기술** 또한 중요한데, 스퍼터링 공정의 효율성을 높이기 위해 타겟의 형상, 크기, 표면 조도 등을 정밀하게 제어해야 합니다. 최근에는 타겟의 미세 구조를 제어하여 스퍼터링 효율과 박막 품질을 향상시키기 위한 연구가 활발히 진행되고 있습니다. 스퍼터링 공정 기술 측면에서는, **직류(DC) 스퍼터링, 고주파(RF) 스퍼터링, 반응성 스퍼터링, 마그네트론 스퍼터링** 등 다양한 스퍼터링 방식이 니오븀 박막 증착에 사용됩니다. 특히, 마그네트론 스퍼터링은 높은 스퍼터링 속도와 박막 밀도를 제공하여 널리 사용됩니다. **반응성 스퍼터링**은 니오븀 타겟을 아르곤과 산소 또는 질소 혼합 가스 분위기에서 스퍼터링하여 니오븀 산화물이나 질화물 박막을 직접 증착하는 기술입니다. 이 경우 가스 압력, 유량, 전력 밀도 등 공정 변수의 정밀한 제어를 통해 원하는 화학량론과 박막 특성을 구현하는 것이 중요합니다. 또한, **고밀도 플라즈마 스퍼터링(HIPIMS, High Power Impulse Magnetron Sputtering)**과 같은 고급 스퍼터링 기술은 이온화된 플라즈마 밀도를 높여 박막의 밀도, 경도, 접착력 등을 향상시키는 데 사용될 수 있습니다. 박막 증착 후 **후처리 공정**으로서 열처리(annealing)는 니오븀 박막의 결정성을 향상시키고 내부 응력을 완화하여 전기적, 기계적 특성을 더욱 최적화하는 데 중요한 역할을 합니다. 결론적으로 니오븀 스퍼터링 타겟은 첨단 기술 분야에서 필수적인 핵심 재료로서, 고순도, 균일한 미세 구조, 그리고 특정 합금 조성 등을 요구하며, 이러한 요구 사항을 충족시키기 위한 정밀한 제조 및 가공 기술과 함께 최적의 스퍼터링 공정 기술의 개발 및 적용이 니오븀 박막의 성능을 극대화하는 데 중요한 역할을 합니다. |
| ※본 조사보고서 [글로벌 니오븀 스퍼터링 타겟 시장 2025-2031] (코드 : LPK23JU0920) 판매에 관한 면책사항을 반드시 확인하세요. |
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