| ■ 영문 제목 : Global EUV Photomask Blanks Market 2024 by Manufacturers, Regions, Type and Application, Forecast to 2030 | |
 | ■ 상품코드 : GIR2406C6866 ■ 조사/발행회사 : Globalinforesearch ■ 발행일 : 2024년 6월 ■ 페이지수 : 약100 ■ 작성언어 : 영어 ■ 보고서 형태 : PDF ■ 납품 방식 : E메일 (주문후 2-3일 소요) ■ 조사대상 지역 : 글로벌 ■ 산업 분야 : 전자&반도체 |
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조사회사 Global Info Research의 최신 조사에 따르면, 세계의 EUV 포토마스크 블랭크 시장 규모는 2023년에 XXX백만 달러로 분석되었으며, 검토 기간 동안 xx%의 CAGR로 2030년까지 XXX백만 달러의 재조정된 규모로 성장이 예측됩니다.
Global Info Research 보고서에는 EUV 포토마스크 블랭크 산업 체인 동향 개요, 반도체, IC (집적 회로), 기타 응용분야 및 선진 및 개발 도상국의 주요 기업의 시장 현황, EUV 포토마스크 블랭크의 최첨단 기술, 특허, 최신 용도 및 시장 동향을 분석했습니다.
지역별로는 주요 지역의 EUV 포토마스크 블랭크 시장을 분석합니다. 북미와 유럽은 정부 이니셔티브와 수요자 인식 제고에 힘입어 꾸준한 성장세를 보이고 있습니다. 아시아 태평양, 특히 중국은 탄탄한 내수 수요와 지원 정책, 강력한 제조 기반을 바탕으로 글로벌 EUV 포토마스크 블랭크 시장을 주도하고 있습니다.
[주요 특징]
본 보고서는 EUV 포토마스크 블랭크 시장에 대한 포괄적인 이해를 제공합니다. 본 보고서는 산업에 대한 전체적인 관점과 개별 구성 요소 및 이해 관계자에 대한 자세한 통찰력을 제공합니다. 본 보고서는 EUV 포토마스크 블랭크 산업 내의 시장 역학, 동향, 과제 및 기회를 분석합니다. 또한, 거시적 관점에서 시장을 분석하는 것이 포함됩니다.
시장 규모 및 세분화: 본 보고서는 판매량, 매출 및 종류별 (예 : 석영 타입, 소다 타입, 기타)의 시장 점유율을 포함한 전체 시장 규모에 대한 데이터를 수집합니다.
산업 분석: 보고서는 정부 정책 및 규제, 기술 발전, 수요자 선호도, 시장 역학 등 광범위한 산업 동향을 분석합니다. 이 분석은 EUV 포토마스크 블랭크 시장에 영향을 미치는 주요 동인과 과제를 이해하는데 도움이 됩니다.
지역 분석: 본 보고서에는 지역 또는 국가 단위로 EUV 포토마스크 블랭크 시장을 조사하는 것이 포함됩니다. 보고서는 정부 인센티브, 인프라 개발, 경제 상황 및 수요자 행동과 같은 지역 요인을 분석하여 다양한 시장 내의 변화와 기회를 식별합니다.
시장 전망: 보고서는 수집된 데이터와 분석을 통해 EUV 포토마스크 블랭크 시장에 대한 미래 전망 및 예측을 다룹니다. 여기에는 시장 성장률 추정, 시장 수요 예측, 새로운 트렌드 파악 등이 포함될 수 있습니다. 본 보고서에는 EUV 포토마스크 블랭크에 대한 보다 세분화된 접근 방식도 포함됩니다.
기업 분석: 본 보고서는 EUV 포토마스크 블랭크 제조업체, 공급업체 및 기타 관련 업계 플레이어를 다룹니다. 이 분석에는 재무 성과, 시장 포지셔닝, 제품 포트폴리오, 파트너십 및 전략에 대한 조사가 포함됩니다.
수요자 분석: 보고서는 EUV 포토마스크 블랭크에 대한 수요자 행동, 선호도 및 태도에 대한 데이터를 다룹니다. 여기에는 설문 조사, 인터뷰 및 응용 분야별 (반도체, IC (집적 회로), 기타)의 다양한 수요자 리뷰 및 피드백 분석이 포함될 수 있습니다.
기술 분석: EUV 포토마스크 블랭크과 관련된 특정 기술을 다루는 보고서입니다. EUV 포토마스크 블랭크 분야의 현재 상황 및 잠재적 미래 발전 가능성을 평가합니다.
경쟁 환경: 본 보고서는 개별 기업, 공급업체 및 수요업체를 분석하여 EUV 포토마스크 블랭크 시장의 경쟁 환경에 대한 통찰력을 제공합니다. 이 분석은 시장 점유율, 경쟁 우위 및 업계 플레이어 간의 차별화 가능성을 이해하는 데 도움이 됩니다.
시장 검증: 본 보고서에는 설문 조사, 인터뷰 및 포커스 그룹과 같은 주요 조사를 통해 결과 및 예측을 검증하는 작업이 포함됩니다.
[시장 세분화]
EUV 포토마스크 블랭크 시장은 종류 및 용도별로 나뉩니다. 2019-2030년 기간 동안 세그먼트 간의 시장규모에 대한 정확한 계산 및 예측을 볼륨 및 금액 측면에서 제공합니다.
종류별 시장 세그먼트
– 석영 타입, 소다 타입, 기타
용도별 시장 세그먼트
– 반도체, IC (집적 회로), 기타
주요 대상 기업
– AGC Inc, Hoya, Toppan Photomasks Inc., S&S Tech, Applied Materials, DNP
지역 분석은 다음을 포함합니다.
– 북미 (미국, 캐나다, 멕시코)
– 유럽 (독일, 프랑스, 영국, 러시아, 이탈리아)
– 아시아 태평양 (중국, 일본, 한국, 인도, 동남아시아, 호주)
– 남미 (브라질, 아르헨티나, 콜롬비아)
– 중동 및 아프리카 (사우디아라비아, 아랍에미리트, 이집트, 남아프리카공화국)
본 조사 보고서는 아래 항목으로 구성되어 있습니다.
– EUV 포토마스크 블랭크 제품 범위, 시장 개요, 시장 추정, 주의 사항 및 기준 연도를 설명합니다.
– 2019년부터 2024년까지 EUV 포토마스크 블랭크의 가격, 판매량, 매출 및 세계 시장 점유율과 함께 EUV 포토마스크 블랭크의 주요 제조업체를 프로파일링합니다.
– EUV 포토마스크 블랭크 경쟁 상황, 판매량, 매출 및 주요 제조업체의 글로벌 시장 점유율이 상세하게 분석 됩니다.
– EUV 포토마스크 블랭크 상세 데이터는 2019년부터 2030년까지 지역별 판매량, 소비금액 및 성장성을 보여주기 위해 지역 레벨로 표시됩니다.
– 2019년부터 2030년까지 판매량 시장 점유율 및 성장률을 종류별, 용도별로 분류합니다.
– 2017년부터 2023년까지 세계 주요 국가의 판매량, 소비금액 및 시장 점유율과 함께 국가 레벨로 판매 데이터를 분류하고, 2025년부터 2030년까지 판매량 및 매출과 함께 지역, 종류 및 용도별로 EUV 포토마스크 블랭크 시장 예측을 수행합니다.
– 시장 역학, 성장요인, 저해요인, 동향 및 포터의 다섯 가지 힘 분석.
– 주요 원자재 및 주요 공급 업체, EUV 포토마스크 블랭크의 산업 체인.
– EUV 포토마스크 블랭크 판매 채널, 유통 업체, 고객(수요기업), 조사 결과 및 결론을 설명합니다.
※납품 보고서의 구성항목 및 내용은 본 페이지에 기재된 내용과 다를 수 있습니다. 보고서 주문 전에 당사에 보고서 샘플을 요청해서 구성항목 및 기재 내용을 반드시 확인하시길 바랍니다. 보고서 샘플에 없는 내용은 납품 드리는 보고서에도 포함되지 않습니다.
■ 보고서 목차■ 시장 개요 ■ 제조업체 프로필 AGC Inc Hoya Toppan Photomasks Inc. ■ 제조업체간 경쟁 환경 ■ 지역별 소비 분석 ■ 종류별 시장 세분화 ■ 용도별 시장 세분화 ■ 북미 ■ 유럽 ■ 아시아 태평양 ■ 남미 ■ 중동 및 아프리카 ■ 시장 역학 ■ 원자재 및 산업 체인 ■ 유통 채널별 출하량 ■ 조사 결과 [그림 목록]- EUV 포토마스크 블랭크 이미지 - 종류별 세계의 EUV 포토마스크 블랭크 소비 금액 (2019 & 2023 & 2030) - 2023년 종류별 세계의 EUV 포토마스크 블랭크 소비 금액 시장 점유율 - 용도별 세계의 EUV 포토마스크 블랭크 소비 금액 (2019 & 2023 & 2030) - 2023년 용도별 세계의 EUV 포토마스크 블랭크 소비 금액 시장 점유율 - 세계의 EUV 포토마스크 블랭크 소비 금액 (2019 & 2023 & 2030) - 세계의 EUV 포토마스크 블랭크 소비 금액 및 예측 (2019-2030) - 세계의 EUV 포토마스크 블랭크 판매량 (2019-2030) - 세계의 EUV 포토마스크 블랭크 평균 가격 (2019-2030) - 2023년 제조업체별 세계의 EUV 포토마스크 블랭크 판매량 시장 점유율 - 2023년 제조업체별 세계의 EUV 포토마스크 블랭크 소비 금액 시장 점유율 - 2023년 상위 3개 EUV 포토마스크 블랭크 제조업체(소비 금액) 시장 점유율 - 2023년 상위 6개 EUV 포토마스크 블랭크 제조업체(소비 금액) 시장 점유율 - 지역별 EUV 포토마스크 블랭크 판매량 시장 점유율 - 지역별 EUV 포토마스크 블랭크 소비 금액 시장 점유율 - 북미 EUV 포토마스크 블랭크 소비 금액 - 유럽 EUV 포토마스크 블랭크 소비 금액 - 아시아 태평양 EUV 포토마스크 블랭크 소비 금액 - 남미 EUV 포토마스크 블랭크 소비 금액 - 중동 및 아프리카 EUV 포토마스크 블랭크 소비 금액 - 세계의 종류별 EUV 포토마스크 블랭크 판매량 시장 점유율 - 세계의 종류별 EUV 포토마스크 블랭크 소비 금액 시장 점유율 - 세계의 종류별 EUV 포토마스크 블랭크 평균 가격 - 세계의 용도별 EUV 포토마스크 블랭크 판매량 시장 점유율 - 세계의 용도별 EUV 포토마스크 블랭크 소비 금액 시장 점유율 - 세계의 용도별 EUV 포토마스크 블랭크 평균 가격 - 북미 EUV 포토마스크 블랭크 종류별 판매량 시장 점유율 - 북미 EUV 포토마스크 블랭크 용도별 판매 수량 시장 점유율 - 북미 EUV 포토마스크 블랭크 국가별 판매 수량 시장 점유율 - 북미 EUV 포토마스크 블랭크 국가별 소비 금액 시장 점유율 - 미국 EUV 포토마스크 블랭크 소비 금액 및 성장률 - 캐나다 EUV 포토마스크 블랭크 소비 금액 및 성장률 - 멕시코 EUV 포토마스크 블랭크 소비 금액 및 성장률 - 유럽 EUV 포토마스크 블랭크 종류별 판매량 시장 점유율 - 유럽 EUV 포토마스크 블랭크 용도별 판매량 시장 점유율 - 유럽 EUV 포토마스크 블랭크 국가별 판매량 시장 점유율 - 유럽 EUV 포토마스크 블랭크 국가별 소비 금액 시장 점유율 - 독일 EUV 포토마스크 블랭크 소비 금액 및 성장률 - 프랑스 EUV 포토마스크 블랭크 소비 금액 및 성장률 - 영국 EUV 포토마스크 블랭크 소비 금액 및 성장률 - 러시아 EUV 포토마스크 블랭크 소비 금액 및 성장률 - 이탈리아 EUV 포토마스크 블랭크 소비 금액 및 성장률 - 아시아 태평양 EUV 포토마스크 블랭크 종류별 판매량 시장 점유율 - 아시아 태평양 EUV 포토마스크 블랭크 용도별 판매량 시장 점유율 - 아시아 태평양 EUV 포토마스크 블랭크 지역별 판매 수량 시장 점유율 - 아시아 태평양 EUV 포토마스크 블랭크 지역별 소비 금액 시장 점유율 - 중국 EUV 포토마스크 블랭크 소비 금액 및 성장률 - 일본 EUV 포토마스크 블랭크 소비 금액 및 성장률 - 한국 EUV 포토마스크 블랭크 소비 금액 및 성장률 - 인도 EUV 포토마스크 블랭크 소비 금액 및 성장률 - 동남아시아 EUV 포토마스크 블랭크 소비 금액 및 성장률 - 호주 EUV 포토마스크 블랭크 소비 금액 및 성장률 - 남미 EUV 포토마스크 블랭크 종류별 판매량 시장 점유율 - 남미 EUV 포토마스크 블랭크 용도별 판매량 시장 점유율 - 남미 EUV 포토마스크 블랭크 국가별 판매 수량 시장 점유율 - 남미 EUV 포토마스크 블랭크 국가별 소비 금액 시장 점유율 - 브라질 EUV 포토마스크 블랭크 소비 금액 및 성장률 - 아르헨티나 EUV 포토마스크 블랭크 소비 금액 및 성장률 - 중동 및 아프리카 EUV 포토마스크 블랭크 종류별 판매량 시장 점유율 - 중동 및 아프리카 EUV 포토마스크 블랭크 용도별 판매량 시장 점유율 - 중동 및 아프리카 EUV 포토마스크 블랭크 지역별 판매량 시장 점유율 - 중동 및 아프리카 EUV 포토마스크 블랭크 지역별 소비 금액 시장 점유율 - 터키 EUV 포토마스크 블랭크 소비 금액 및 성장률 - 이집트 EUV 포토마스크 블랭크 소비 금액 및 성장률 - 사우디 아라비아 EUV 포토마스크 블랭크 소비 금액 및 성장률 - 남아프리카 공화국 EUV 포토마스크 블랭크 소비 금액 및 성장률 - EUV 포토마스크 블랭크 시장 성장 요인 - EUV 포토마스크 블랭크 시장 제약 요인 - EUV 포토마스크 블랭크 시장 동향 - 포터의 다섯 가지 힘 분석 - 2023년 EUV 포토마스크 블랭크의 제조 비용 구조 분석 - EUV 포토마스크 블랭크의 제조 공정 분석 - EUV 포토마스크 블랭크 산업 체인 - 직접 채널 장단점 - 간접 채널 장단점 - 방법론 - 조사 프로세스 및 데이터 소스 ※납품 보고서의 구성항목 및 내용은 본 페이지에 기재된 내용과 다를 수 있습니다. 보고서 주문 전에 당사에 보고서 샘플을 요청해서 구성항목 및 기재 내용을 반드시 확인하시길 바랍니다. 보고서 샘플에 없는 내용은 납품 드리는 보고서에도 포함되지 않습니다. |
| ※참고 정보 극자외선(EUV, Extreme Ultraviolet) 포토마스크 블랭크는 차세대 반도체 제조 공정의 핵심 부품인 EUV 포토마스크를 제작하는 데 사용되는 원재료입니다. 반도체 회로 패턴을 웨이퍼에 전사하기 위한 마스크 원판으로서, 미세하고 정밀한 회로 패턴을 구현하기 위한 EUV 공정의 특수성을 반영하여 고도의 기술력이 집약된 소재입니다. EUV 포토마스크 블랭크의 기본 구조는 여러 층의 박막으로 이루어져 있습니다. 가장 기본적인 구성 요소는 다음과 같습니다. 최하단에는 기판(Substrate)이 위치하며, 이는 마스크의 구조적 안정성을 제공합니다. 일반적으로는 저팽창 유리(Low Thermal Expansion Glass, CTE가 매우 낮은 유리)가 사용되는데, 이는 EUV 광원의 열적 영향으로 인한 마스크의 변형을 최소화하여 미세 패턴의 정확성을 유지하기 위함입니다. 그 위로는 반사 방지막(Anti-Reflection Coating, ARC)이 증착됩니다. EUV 광은 물질에 흡수되는 특성이 강하기 때문에, 마스크 표면에서 발생하는 반사를 최소화하여 웨이퍼로 전달되는 광량을 최적화하는 것이 중요합니다. 따라서 여러 금속 산화물 또는 질화물 박막으로 구성된 다층 박막 구조의 반사 방지막이 사용됩니다. 이 반사 방지막은 약 99% 이상의 높은 반사율을 가지도록 설계되어, 미세한 패턴을 선명하게 구현하는 데 기여합니다. 이 반사 방지막 위에 패턴이 형성될 흡수체 층(Absorber Layer)이 증착됩니다. EUV 광을 선택적으로 차단하여 회로 패턴을 구현하는 역할을 하며, 일반적으로는 텅스텐(Tungsten, W)이나 탄탈럼(Tantalum, Ta)과 같은 고밀도 금속 박막이 사용됩니다. 이러한 금속은 EUV 광을 효과적으로 흡수하면서도 웨이퍼로의 산란을 최소화하도록 정밀하게 제어됩니다. 마지막으로, 이 흡수체 층 위에 전자빔(Electron Beam, E-beam)이나 EUV 광을 이용하여 회로 패턴을 그리는 감광재(Photoresist)가 도포됩니다. EUV 공정에서는 일반적인 불화 아르곤(ArF) 광원보다 파장이 훨씬 짧기 때문에, 기존의 포토레지스트로는 미세 패턴 구현에 한계가 있습니다. 따라서 EUV 전용의 새로운 감광재 개발이 필수적이며, 높은 해상도와 낮은 결함 밀도를 갖는 감광재가 사용됩니다. EUV 포토마스크 블랭크의 가장 중요한 특징은 EUV 광의 특성, 즉 짧은 파장(13.5nm)과 높은 흡수율에 대응하기 위한 정밀한 박막 설계 및 제작 기술입니다. 높은 반사율을 갖는 다층 박막 반사막의 증착 정밀도는 마스크의 성능을 좌우하는 핵심 요소이며, 원자 단위의 정밀도를 요구합니다. 또한, 흡수체 층은 미세한 패턴을 정확하게 형성하기 위해 높은 해상도로 패터닝될 수 있어야 하며, 이를 위해 사용되는 E-beam 패터닝 기술 또한 매우 높은 정밀도를 요구합니다. EUV 포토마스크 블랭크는 주로 두 가지 유형으로 나눌 수 있습니다. 첫 번째는 반사형 마스크(Reflective Mask) 블랭크이며, 이는 앞서 설명한 다층 박막 반사막 구조를 포함합니다. 현재 대부분의 EUV 공정에서 사용되는 방식입니다. 두 번째는 투과형 마스크(Transmissive Mask) 블랭크에 대한 연구도 진행되고 있으나, EUV 광의 높은 흡수율 때문에 투과율을 확보하는 데 기술적인 어려움이 있어 상용화 초기 단계에서는 반사형 마스크가 주를 이루고 있습니다. EUV 포토마스크 블랭크의 주요 용도는 차세대 고성능 반도체, 특히 첨단 로직 반도체 및 메모리 반도체 생산에 필수적으로 사용됩니다. EUV 공정은 기존의 불화 아르곤(ArF) 광원보다 훨씬 짧은 파장을 사용하여 더욱 미세하고 복잡한 회로 패턴을 단일 공정으로 구현할 수 있도록 합니다. 이는 반도체 집적도를 높이고 성능을 향상시키는 데 결정적인 역할을 합니다. 예를 들어, 스마트폰, 서버, 인공지능(AI) 가속기 등에 사용되는 최첨단 프로세서 제조에 EUV 기술이 적용되고 있습니다. EUV 포토마스크 블랭크와 관련된 주요 기술로는 매우 정밀한 박막 증착 기술이 있습니다. EUV 반사막은 몰리브덴(Mo)과 실리콘(Si)과 같은 물질을 수십 겹으로 번갈아 증착하여 구성되는데, 각 층의 두께 오차가 나노미터 수준으로 제어되어야 합니다. 이러한 증착은 물리 기상 증착(Physical Vapor Deposition, PVD) 방식 중에서도 스퍼터링(Sputtering)이나 증발(Evaporation) 등의 기법을 사용하여 이루어집니다. 또한, EUV 광의 치명적인 단점 중 하나인 마스크 결함(Defect) 문제를 해결하기 위한 기술도 중요합니다. 마스크 표면에 존재하는 미세한 결함은 웨이퍼에 그대로 전사되어 반도체 성능 저하를 유발하므로, 블랭크 자체의 결함을 극도로 줄이는 기술과 결함 검출 및 수리 기술이 병행되어야 합니다. 특히, 펠리클(Pellicle)이라는 마스크 보호 필름 또한 EUV 광에 의해 손상되지 않도록 하는 기술 개발이 필수적이며, 이는 EUV 마스크 블랭크의 사용 환경과 직결되는 중요한 기술입니다. 또한, E-beam 리소그래피(Lithography) 기술은 EUV 마스크 블랭크에 회로 패턴을 새기는 데 사용되는 핵심 기술입니다. E-beam은 전자빔을 사용하여 직접적으로 감광재를 노광하기 때문에 매우 높은 해상도를 얻을 수 있습니다. 이는 EUV 공정에서 요구되는 극미세 패턴 구현에 적합합니다. E-beam의 조사량을 정밀하게 제어하여 패턴의 정확도를 높이는 기술과 함께, 생산성 향상을 위한 고속 E-beam 시스템 개발 또한 중요한 과제입니다. 결론적으로, EUV 포토마스크 블랭크는 극자외선이라는 새로운 파장을 활용하는 반도체 제조 공정의 근간을 이루는 고부가가치 소재입니다. 뛰어난 광학적 특성과 함께 나노미터 수준의 정밀도를 요구하는 복합적인 기술이 집약된 제품으로, 반도체 산업의 기술 혁신을 견인하는 핵심적인 역할을 수행하고 있습니다. 지속적인 기술 개발을 통해 결함 제로화, 생산성 향상, 비용 절감을 달성하는 것이 EUV 포토마스크 블랭크 산업의 중요한 과제라 할 수 있습니다. |
| ※본 조사보고서 [세계의 EUV 포토마스크 블랭크 시장 2024 : 기업, 종류, 용도, 시장예측] (코드 : GIR2406C6866) 판매에 관한 면책사항을 반드시 확인하세요. |
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