| ■ 영문 제목 : Global Dry Etching Machine for Compound Semiconductor Market 2024 by Manufacturers, Regions, Type and Application, Forecast to 2030 | |
 | ■ 상품코드 : GIR2407E16182 ■ 조사/발행회사 : Globalinforesearch ■ 발행일 : 2024년 4월 ■ 페이지수 : 약100 ■ 작성언어 : 영어 ■ 보고서 형태 : PDF ■ 납품 방식 : E메일 (주문후 2-3일 소요) ■ 조사대상 지역 : 글로벌 ■ 산업 분야 : IT/전자 |
| Single User (1명 열람용) | USD3,480 ⇒환산￦4,872,000 | 견적의뢰/주문/질문 |
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조사회사 Global Info Research의 최신 조사에 따르면, 세계의 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 시장 규모는 2023년에 XXX백만 달러로 분석되었으며, 검토 기간 동안 xx%의 CAGR로 2030년까지 XXX백만 달러의 재조정된 규모로 성장이 예측됩니다.
Global Info Research 보고서에는 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 산업 체인 동향 개요, 로직 및 메모리, 전력 장치, MEMS, 기타 응용분야 및 선진 및 개발 도상국의 주요 기업의 시장 현황, 화합물 반도체용 건식 에칭 기계의 최첨단 기술, 특허, 최신 용도 및 시장 동향을 분석했습니다.
지역별로는 주요 지역의 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 시장을 분석합니다. 북미와 유럽은 정부 이니셔티브와 수요자 인식 제고에 힘입어 꾸준한 성장세를 보이고 있습니다. 아시아 태평양, 특히 중국은 탄탄한 내수 수요와 지원 정책, 강력한 제조 기반을 바탕으로 글로벌 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 시장을 주도하고 있습니다.
[주요 특징]
본 보고서는 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 시장에 대한 포괄적인 이해를 제공합니다. 본 보고서는 산업에 대한 전체적인 관점과 개별 구성 요소 및 이해 관계자에 대한 자세한 통찰력을 제공합니다. 본 보고서는 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 산업 내의 시장 역학, 동향, 과제 및 기회를 분석합니다. 또한, 거시적 관점에서 시장을 분석하는 것이 포함됩니다.
시장 규모 및 세분화: 본 보고서는 판매량, 매출 및 종류별 (예 : 물리적 에칭, 화학적 에칭)의 시장 점유율을 포함한 전체 시장 규모에 대한 데이터를 수집합니다.
산업 분석: 보고서는 정부 정책 및 규제, 기술 발전, 수요자 선호도, 시장 역학 등 광범위한 산업 동향을 분석합니다. 이 분석은 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 시장에 영향을 미치는 주요 동인과 과제를 이해하는데 도움이 됩니다.
지역 분석: 본 보고서에는 지역 또는 국가 단위로 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 시장을 조사하는 것이 포함됩니다. 보고서는 정부 인센티브, 인프라 개발, 경제 상황 및 수요자 행동과 같은 지역 요인을 분석하여 다양한 시장 내의 변화와 기회를 식별합니다.
시장 전망: 보고서는 수집된 데이터와 분석을 통해 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 시장에 대한 미래 전망 및 예측을 다룹니다. 여기에는 시장 성장률 추정, 시장 수요 예측, 새로운 트렌드 파악 등이 포함될 수 있습니다. 본 보고서에는 화합물 반도체용 건식 에칭 기계에 대한 보다 세분화된 접근 방식도 포함됩니다.
기업 분석: 본 보고서는 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 제조업체, 공급업체 및 기타 관련 업계 플레이어를 다룹니다. 이 분석에는 재무 성과, 시장 포지셔닝, 제품 포트폴리오, 파트너십 및 전략에 대한 조사가 포함됩니다.
수요자 분석: 보고서는 화합물 반도체용 건식 에칭 기계에 대한 수요자 행동, 선호도 및 태도에 대한 데이터를 다룹니다. 여기에는 설문 조사, 인터뷰 및 응용 분야별 (로직 및 메모리, 전력 장치, MEMS, 기타)의 다양한 수요자 리뷰 및 피드백 분석이 포함될 수 있습니다.
기술 분석: 화합물 반도체용 건식 에칭 기계과 관련된 특정 기술을 다루는 보고서입니다. 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 분야의 현재 상황 및 잠재적 미래 발전 가능성을 평가합니다.
경쟁 환경: 본 보고서는 개별 기업, 공급업체 및 수요업체를 분석하여 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 시장의 경쟁 환경에 대한 통찰력을 제공합니다. 이 분석은 시장 점유율, 경쟁 우위 및 업계 플레이어 간의 차별화 가능성을 이해하는 데 도움이 됩니다.
시장 검증: 본 보고서에는 설문 조사, 인터뷰 및 포커스 그룹과 같은 주요 조사를 통해 결과 및 예측을 검증하는 작업이 포함됩니다.
[시장 세분화]
화합물 반도체용 건식 에칭 기계 시장은 종류 및 용도별로 나뉩니다. 2019-2030년 기간 동안 세그먼트 간의 시장규모에 대한 정확한 계산 및 예측을 볼륨 및 금액 측면에서 제공합니다.
종류별 시장 세그먼트
– 물리적 에칭, 화학적 에칭
용도별 시장 세그먼트
– 로직 및 메모리, 전력 장치, MEMS, 기타
주요 대상 기업
– Lam Research, Tokyo Electron Limited, Applied Materials, Panasonic, Oxford Instruments, Hitachi High-Technologies, SPTS Technologies, AMEC, Plasma Etch, Inc., Shibaura Mechatronics Group, GigaLane, NAURA, Samco Inc.
지역 분석은 다음을 포함합니다.
– 북미 (미국, 캐나다, 멕시코)
– 유럽 (독일, 프랑스, 영국, 러시아, 이탈리아)
– 아시아 태평양 (중국, 일본, 한국, 인도, 동남아시아, 호주)
– 남미 (브라질, 아르헨티나, 콜롬비아)
– 중동 및 아프리카 (사우디아라비아, 아랍에미리트, 이집트, 남아프리카공화국)
본 조사 보고서는 아래 항목으로 구성되어 있습니다.
– 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 제품 범위, 시장 개요, 시장 추정, 주의 사항 및 기준 연도를 설명합니다.
– 2019년부터 2024년까지 화합물 반도체용 건식 에칭 기계의 가격, 판매량, 매출 및 세계 시장 점유율과 함께 화합물 반도체용 건식 에칭 기계의 주요 제조업체를 프로파일링합니다.
– 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 경쟁 상황, 판매량, 매출 및 주요 제조업체의 글로벌 시장 점유율이 상세하게 분석 됩니다.
– 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 상세 데이터는 2019년부터 2030년까지 지역별 판매량, 소비금액 및 성장성을 보여주기 위해 지역 레벨로 표시됩니다.
– 2019년부터 2030년까지 판매량 시장 점유율 및 성장률을 종류별, 용도별로 분류합니다.
– 2017년부터 2023년까지 세계 주요 국가의 판매량, 소비금액 및 시장 점유율과 함께 국가 레벨로 판매 데이터를 분류하고, 2025년부터 2030년까지 판매량 및 매출과 함께 지역, 종류 및 용도별로 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 시장 예측을 수행합니다.
– 시장 역학, 성장요인, 저해요인, 동향 및 포터의 다섯 가지 힘 분석.
– 주요 원자재 및 주요 공급 업체, 화합물 반도체용 건식 에칭 기계의 산업 체인.
– 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 판매 채널, 유통 업체, 고객(수요기업), 조사 결과 및 결론을 설명합니다.
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■ 보고서 목차■ 시장 개요 ■ 제조업체 프로필 Lam Research Tokyo Electron Limited Applied Materials ■ 제조업체간 경쟁 환경 ■ 지역별 소비 분석 ■ 종류별 시장 세분화 ■ 용도별 시장 세분화 ■ 북미 ■ 유럽 ■ 아시아 태평양 ■ 남미 ■ 중동 및 아프리카 ■ 시장 역학 ■ 원자재 및 산업 체인 ■ 유통 채널별 출하량 ■ 조사 결과 [그림 목록]- 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 이미지 - 종류별 세계의 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 소비 금액 (2019 & 2023 & 2030) - 2023년 종류별 세계의 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 소비 금액 시장 점유율 - 용도별 세계의 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 소비 금액 (2019 & 2023 & 2030) - 2023년 용도별 세계의 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 소비 금액 시장 점유율 - 세계의 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 소비 금액 (2019 & 2023 & 2030) - 세계의 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 소비 금액 및 예측 (2019-2030) - 세계의 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 판매량 (2019-2030) - 세계의 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 평균 가격 (2019-2030) - 2023년 제조업체별 세계의 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 판매량 시장 점유율 - 2023년 제조업체별 세계의 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 소비 금액 시장 점유율 - 2023년 상위 3개 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 제조업체(소비 금액) 시장 점유율 - 2023년 상위 6개 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 제조업체(소비 금액) 시장 점유율 - 지역별 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 판매량 시장 점유율 - 지역별 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 소비 금액 시장 점유율 - 북미 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 소비 금액 - 유럽 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 소비 금액 - 아시아 태평양 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 소비 금액 - 남미 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 소비 금액 - 중동 및 아프리카 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 소비 금액 - 세계의 종류별 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 판매량 시장 점유율 - 세계의 종류별 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 소비 금액 시장 점유율 - 세계의 종류별 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 평균 가격 - 세계의 용도별 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 판매량 시장 점유율 - 세계의 용도별 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 소비 금액 시장 점유율 - 세계의 용도별 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 평균 가격 - 북미 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 종류별 판매량 시장 점유율 - 북미 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 용도별 판매 수량 시장 점유율 - 북미 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 국가별 판매 수량 시장 점유율 - 북미 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 국가별 소비 금액 시장 점유율 - 미국 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 소비 금액 및 성장률 - 캐나다 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 소비 금액 및 성장률 - 멕시코 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 소비 금액 및 성장률 - 유럽 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 종류별 판매량 시장 점유율 - 유럽 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 용도별 판매량 시장 점유율 - 유럽 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 국가별 판매량 시장 점유율 - 유럽 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 국가별 소비 금액 시장 점유율 - 독일 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 소비 금액 및 성장률 - 프랑스 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 소비 금액 및 성장률 - 영국 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 소비 금액 및 성장률 - 러시아 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 소비 금액 및 성장률 - 이탈리아 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 소비 금액 및 성장률 - 아시아 태평양 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 종류별 판매량 시장 점유율 - 아시아 태평양 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 용도별 판매량 시장 점유율 - 아시아 태평양 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 지역별 판매 수량 시장 점유율 - 아시아 태평양 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 지역별 소비 금액 시장 점유율 - 중국 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 소비 금액 및 성장률 - 일본 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 소비 금액 및 성장률 - 한국 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 소비 금액 및 성장률 - 인도 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 소비 금액 및 성장률 - 동남아시아 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 소비 금액 및 성장률 - 호주 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 소비 금액 및 성장률 - 남미 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 종류별 판매량 시장 점유율 - 남미 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 용도별 판매량 시장 점유율 - 남미 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 국가별 판매 수량 시장 점유율 - 남미 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 국가별 소비 금액 시장 점유율 - 브라질 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 소비 금액 및 성장률 - 아르헨티나 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 소비 금액 및 성장률 - 중동 및 아프리카 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 종류별 판매량 시장 점유율 - 중동 및 아프리카 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 용도별 판매량 시장 점유율 - 중동 및 아프리카 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 지역별 판매량 시장 점유율 - 중동 및 아프리카 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 지역별 소비 금액 시장 점유율 - 터키 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 소비 금액 및 성장률 - 이집트 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 소비 금액 및 성장률 - 사우디 아라비아 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 소비 금액 및 성장률 - 남아프리카 공화국 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 소비 금액 및 성장률 - 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 시장 성장 요인 - 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 시장 제약 요인 - 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 시장 동향 - 포터의 다섯 가지 힘 분석 - 2023년 화합물 반도체용 건식 에칭 기계의 제조 비용 구조 분석 - 화합물 반도체용 건식 에칭 기계의 제조 공정 분석 - 화합물 반도체용 건식 에칭 기계 산업 체인 - 직접 채널 장단점 - 간접 채널 장단점 - 방법론 - 조사 프로세스 및 데이터 소스 ※납품 보고서의 구성항목 및 내용은 본 페이지에 기재된 내용과 다를 수 있습니다. 보고서 주문 전에 당사에 보고서 샘플을 요청해서 구성항목 및 기재 내용을 반드시 확인하시길 바랍니다. 보고서 샘플에 없는 내용은 납품 드리는 보고서에도 포함되지 않습니다. |
| ※참고 정보 ## 화합물 반도체용 건식 에칭 기계의 개념 화합물 반도체는 실리콘 단결정 반도체와는 다른 고유한 물리적, 전기적 특성을 지니고 있어 현대 전자 산업의 다양한 분야에서 핵심적인 역할을 수행합니다. 이러한 화합물 반도체 소자를 제작하는 데 있어 미세하고 정밀한 패턴을 형성하는 것은 매우 중요한 공정이며, 이 과정에서 '건식 에칭' 기술이 필수적으로 활용됩니다. 건식 에칭 기계는 이러한 화합물 반도체 제조 공정에서 물질을 물리적 또는 화학적으로 제거하여 원하는 형태의 회로 패턴을 구현하는 장비입니다. 건식 에칭 기계는 기본적으로 고진공 환경 하에서 플라즈마 상태의 반응성 가스를 이용하여 웨이퍼 표면의 특정 물질을 선택적으로 제거하는 원리로 작동합니다. 습식 에칭과는 달리 액체 시약을 사용하지 않기 때문에 에칭 후 잔여물이나 오염 발생 가능성이 적고, 등방성(isotropic) 에칭 특성을 가지는 습식 에칭과 달리 비등방성(anisotropic) 에칭, 즉 수직 방향으로 깊게 에칭하는 것이 가능합니다. 이러한 비등방성 에칭 능력은 화합물 반도체 소자의 고집적화 및 고성능화를 달성하는 데 결정적인 역할을 합니다. 특히, 화합물 반도체는 실리콘과 달리 단결정 구조가 파괴되거나 조성비가 변하는 것에 민감하기 때문에, 에칭 공정의 정밀성과 제어 능력이 더욱 중요합니다. 화합물 반도체용 건식 에칭 기계의 가장 큰 특징은 사용되는 화합물 반도체 재료의 종류에 따라 매우 다양한 에칭 메커니즘과 공정 조건을 요구한다는 점입니다. 예를 들어, 갈륨비소(GaAs) 계열 화합물 반도체의 경우 염소(Cl2) 기반의 플라즈마를, 질화물 반도체(GaN, AlN 등)의 경우 불소(F2) 또는 염소 기반의 플라즈마와 함께 다양한 첨가 가스를 사용하여 에칭을 수행합니다. 또한, 에칭 속도, 선택비(에칭 대상 물질과 마스크 물질 간의 에칭 속도 비율), 표면 거칠기, 에칭 프로파일(단면 형상) 등을 정밀하게 제어하는 것이 중요합니다. 이를 위해 다양한 종류의 에칭 방식과 장비들이 개발되어 사용되고 있습니다. 화합물 반도체용 건식 에칭 기계의 주요 종류로는 크게 이온빔 식각(Ion Beam Etching, IBE), 반응성 이온 식각(Reactive Ion Etching, RIE), 유도 결합 플라즈마 식각(Inductively Coupled Plasma Etching, ICP) 등이 있습니다. 이온빔 식각은 이온화된 가스나 입자를 직접 웨이퍼에 충돌시켜 물리적으로 물질을 제거하는 방식으로, 높은 비등방성과 낮은 손상을 특징으로 하지만, 에칭 속도가 느리고 대면적 공정에는 한계가 있을 수 있습니다. 반응성 이온 식각은 플라즈마 내의 반응성 이온과 중성 라디칼을 이용하여 화학적 에칭과 물리적 에칭을 동시에 수행하는 방식입니다. 특히, 챔버 내의 전극에 바이어스 전압을 인가하여 이온을 에너지화시켜 기판으로 끌어당김으로써 비등방성 에칭 효과를 극대화할 수 있습니다. ICP 식각은 고주파 코일에 의해 생성된 플라즈마를 이용하여 높은 플라즈마 밀도를 얻는 방식으로, 빠른 에칭 속도와 우수한 선택비를 제공하며, 특히 미세 패턴 형성에 유리합니다. 최근에는 이러한 기본 방식들을 조합하거나 새로운 개념을 도입한 다양한 형태의 건식 에칭 장비들이 개발되고 있습니다. 화합물 반도체용 건식 에칭 기계의 주요 용도는 다양한 화합물 반도체 소자의 제작 공정에 활용됩니다. 고성능 트랜지스터(MESFET, HEMT 등)의 게이트 패턴 형성, 고속 스위칭 소자의 트렌치(trench) 형성, 광통신에 사용되는 레이저 다이오드 및 포토다이오드의 구조 형성, 고효율 태양전지의 표면 패턴 형성, 마이크로파 및 밀리미터파 집적 회로(MMIC)의 전극 형성 등 매우 광범위하게 사용됩니다. 특히, 질화물 반도체 기반의 고출력 고주파 소자나 LED의 격자 구조 형성 등, 높은 집적도와 정밀한 3차원 구조 구현이 요구되는 응용 분야에서 건식 에칭 기술의 중요성은 더욱 강조됩니다. 건식 에칭 기술과 관련하여 중요한 기술로는 에칭 마스크 개발, 플라즈마 소스 기술, 공정 제어 기술, 그리고 분석 및 측정 기술 등이 있습니다. 에칭 마스크는 에칭 대상 물질과 에칭 시약 간의 반응성을 조절하여 특정 부분만 선택적으로 에칭되도록 하는 역할을 합니다. 화합물 반도체 공정에서는 주로 금속 마스크나 유기물 기반의 포토레지스트가 사용되며, 에칭 조건에 대한 높은 내구성과 해상도를 확보하는 것이 중요합니다. 플라즈마 소스 기술은 균일하고 높은 밀도의 플라즈마를 생성하여 일관된 에칭 성능을 보장하는 핵심 기술입니다. RIE나 ICP와 같은 플라즈마 생성 방식의 발전은 에칭 속도와 균일도를 향상시키는 데 기여했습니다. 또한, 실시간으로 에칭 공정의 진행 상황을 모니터링하고 제어하는 공정 제어 기술은 수율 향상과 불량률 감소에 필수적입니다. 이를 위해 링검(ring-down) 측정, 광학 방출 분광법(Optical Emission Spectroscopy, OES), 질량 분석법(Mass Spectrometry, MS) 등 다양한 분석 및 측정 기술들이 건식 에칭 공정에 적용됩니다. 이러한 기술들은 에칭 부산물의 종류와 농도, 플라즈마의 조성 등을 파악하여 최적의 에칭 조건을 설정하고 공정의 안정성을 확보하는 데 중요한 역할을 합니다. 최근 화합물 반도체 산업은 5G/6G 통신, 자율 주행, 인공지능 등 첨단 기술의 발달과 함께 더욱 가파른 성장이 예상되고 있으며, 이에 따라 더욱 미세하고 복잡한 구조를 갖는 화합물 반도체 소자에 대한 요구가 증가하고 있습니다. 이러한 요구를 충족시키기 위해 건식 에칭 기계 역시 더욱 높은 해상도, 정밀한 공정 제어, 낮은 표면 손상, 그리고 향상된 에칭 속도와 선택비를 제공하는 방향으로 끊임없이 발전하고 있습니다. 예를 들어, 원자층 식각(Atomic Layer Etching, ALE)과 같이 원자층 단위로 물질을 제거하는 기술은 기존 건식 에칭의 한계를 극복하고 극도로 정밀한 3차원 구조를 구현하는 데 기여할 것으로 기대됩니다. 또한, 인공지능과 머신러닝 기술을 활용한 공정 최적화 및 실시간 제어 기술의 도입은 화합물 반도체 제조의 효율성과 수율을 한 단계 높일 것으로 전망됩니다. |
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