| ■ 영문 제목 : Global High Purity Sputtering Target Market Growth 2024-2030 | |
 | ■ 상품코드 : LPI2407D24592 ■ 조사/발행회사 : LP Information ■ 발행일 : 2024년 5월 ■ 페이지수 : 약100 ■ 작성언어 : 영어 ■ 보고서 형태 : PDF ■ 납품 방식 : E메일 (주문후 2-3일 소요) ■ 조사대상 지역 : 글로벌 ■ 산업 분야 : 부품/재료 |
| Single User (1명 열람용) | USD3,660 ⇒환산￦5,124,000 | 견적의뢰/주문/질문 |
| Multi User (5명 열람용) | USD5,490 ⇒환산￦7,686,000 | 견적의뢰/주문/질문 |
| Corporate User (동일기업내 공유가능) | USD7,320 ⇒환산￦10,248,000 | 견적의뢰/구입/질문 |
|
※가격옵션 설명 - 납기는 즉일~2일소요됩니다. 3일이상 소요되는 경우는 별도표기 또는 연락드립니다. - 지불방법은 계좌이체/무통장입금 또는 카드결제입니다. |
LP Information (LPI)사의 최신 조사에 따르면, 글로벌 고순도 스퍼터링 타겟 시장 규모는 2023년에 미화 XXX백만 달러로 산출되었습니다. 다운 스트림 시장의 수요가 증가함에 따라 고순도 스퍼터링 타겟은 조사 대상 기간 동안 XXX%의 CAGR(연평균 성장율)로 2030년까지 미화 XXX백만 달러의 시장규모로 예상됩니다.
본 조사 보고서는 글로벌 고순도 스퍼터링 타겟 시장의 성장 잠재력을 강조합니다. 고순도 스퍼터링 타겟은 향후 시장에서 안정적인 성장을 보일 것으로 예상됩니다. 그러나 제품 차별화, 비용 절감 및 공급망 최적화는 고순도 스퍼터링 타겟의 광범위한 채택을 위해 여전히 중요합니다. 시장 참여자들은 연구 개발에 투자하고, 전략적 파트너십을 구축하고, 진화하는 소비자 선호도에 맞춰 제품을 제공함으로써 고순도 스퍼터링 타겟 시장이 제공하는 막대한 기회를 활용해야 합니다.
[주요 특징]
고순도 스퍼터링 타겟 시장에 대한 보고서는 다양한 측면을 반영하고 업계에 대한 소중한 통찰력을 제공합니다.
시장 규모 및 성장: 본 조사 보고서는 고순도 스퍼터링 타겟 시장의 현재 규모와 성장에 대한 개요를 제공합니다. 여기에는 과거 데이터, 유형별 시장 세분화 (예 : 합금 타겟, 세라믹 타겟, 금속 타겟) 및 지역 분류가 포함될 수 있습니다.
시장 동인 및 과제: 본 보고서는 정부 규제, 환경 문제, 기술 발전 및 소비자 선호도 변화와 같은 고순도 스퍼터링 타겟 시장의 성장을 주도하는 요인을 식별하고 분석 할 수 있습니다. 또한 인프라 제한, 범위 불안, 높은 초기 비용 등 업계가 직면한 과제를 강조할 수 있습니다.
경쟁 환경: 본 조사 보고서는 고순도 스퍼터링 타겟 시장 내 경쟁 환경에 대한 분석을 제공합니다. 여기에는 주요 업체의 프로필, 시장 점유율, 전략 및 제공 제품이 포함됩니다. 본 보고서는 또한 신흥 플레이어와 시장에 대한 잠재적 영향을 강조할 수 있습니다.
기술 개발: 본 조사 보고서는 고순도 스퍼터링 타겟 산업의 최신 기술 개발에 대해 자세히 살펴볼 수 있습니다. 여기에는 고순도 스퍼터링 타겟 기술의 발전, 고순도 스퍼터링 타겟 신규 진입자, 고순도 스퍼터링 타겟 신규 투자, 그리고 고순도 스퍼터링 타겟의 미래를 형성하는 기타 혁신이 포함됩니다.
다운스트림 고객 선호도: 본 보고서는 고순도 스퍼터링 타겟 시장의 고객 구매 행동 및 채택 동향을 조명할 수 있습니다. 여기에는 고객의 구매 결정에 영향을 미치는 요인, 고순도 스퍼터링 타겟 제품에 대한 선호도가 포함됩니다.
정부 정책 및 인센티브: 본 조사 보고서는 정부 정책 및 인센티브가 고순도 스퍼터링 타겟 시장에 미치는 영향을 분석합니다. 여기에는 규제 프레임워크, 보조금, 세금 인센티브 및 고순도 스퍼터링 타겟 시장을 촉진하기위한 기타 조치에 대한 평가가 포함될 수 있습니다. 본 보고서는 또한 이러한 정책이 시장 성장을 촉진하는데 미치는 효과도 분석합니다.
환경 영향 및 지속 가능성: 조사 보고서는 고순도 스퍼터링 타겟 시장의 환경 영향 및 지속 가능성 측면을 분석합니다.
시장 예측 및 미래 전망: 수행된 분석을 기반으로 본 조사 보고서는 고순도 스퍼터링 타겟 산업에 대한 시장 예측 및 전망을 제공합니다. 여기에는 시장 규모, 성장률, 지역 동향, 기술 발전 및 정책 개발에 대한 예측이 포함됩니다.
권장 사항 및 기회: 본 보고서는 업계 이해 관계자, 정책 입안자, 투자자를 위한 권장 사항으로 마무리됩니다. 본 보고서는 시장 참여자들이 새로운 트렌드를 활용하고, 도전 과제를 극복하며, 고순도 스퍼터링 타겟 시장의 성장과 발전에 기여할 수 있는 잠재적 기회를 강조합니다.
[시장 세분화]
고순도 스퍼터링 타겟 시장은 종류 및 용도별로 나뉩니다. 2019-2030년 기간 동안 세그먼트 간의 성장은 종류별 및 용도별로 시장규모에 대한 정확한 계산 및 예측을 수량 및 금액 측면에서 제공합니다.
*** 종류별 세분화 ***
합금 타겟, 세라믹 타겟, 금속 타겟
*** 용도별 세분화 ***
전자/반도체, 태양 에너지, 평판 디스플레이, 기타
본 보고서는 또한 시장을 지역별로 분류합니다:
– 미주 (미국, 캐나다, 멕시코, 브라질)
– 아시아 태평양 (중국, 일본, 한국, 동남아시아, 인도, 호주)
– 유럽 (독일, 프랑스, 영국, 이탈리아, 러시아)
– 중동 및 아프리카 (이집트, 남아프리카 공화국, 이스라엘, 터키, GCC 국가)
아래 프로파일링 대상 기업은 주요 전문가로부터 수집한 정보를 바탕으로 해당 기업의 서비스 범위, 제품 포트폴리오, 시장 점유율을 분석하여 선정되었습니다.
JX Nippon Mining and Metals Corporation, Praxair, Plansee SE, Mitsui Mining and Smelting, Hitachi Metals, Honeywell, Sumitomo Chemical, ULVAC, Materion (Heraeus), GRIKIN Advanced Material Co., Ltd., TOSOH, Ningbo Jiangfeng, Heesung, Luvata, Fujian Acetron New Materials Co., Ltd, Changzhou Sujing Electronic Material, Luoyang Sifon E
[본 보고서에서 다루는 주요 질문]
– 글로벌 고순도 스퍼터링 타겟 시장의 향후 10년 전망은 어떻게 될까요?
– 전 세계 및 지역별 고순도 스퍼터링 타겟 시장 성장을 주도하는 요인은 무엇입니까?
– 시장과 지역별로 가장 빠르게 성장할 것으로 예상되는 분야는 무엇인가요?
– 최종 시장 규모에 따라 고순도 스퍼터링 타겟 시장 기회는 어떻게 다른가요?
– 고순도 스퍼터링 타겟은 종류, 용도를 어떻게 분류합니까?
※납품 보고서의 구성항목 및 내용은 본 페이지에 기재된 내용과 다를 수 있습니다. 보고서 주문 전에 당사에 보고서 샘플을 요청해서 구성항목 및 기재 내용을 반드시 확인하시길 바랍니다. 보고서 샘플에 없는 내용은 납품 드리는 보고서에도 포함되지 않습니다.
■ 보고서 목차■ 보고서의 범위 ■ 보고서의 요약 ■ 기업별 세계 고순도 스퍼터링 타겟 시장분석 ■ 지역별 고순도 스퍼터링 타겟에 대한 추이 분석 ■ 미주 시장 ■ 아시아 태평양 시장 ■ 유럽 시장 ■ 중동 및 아프리카 시장 ■ 시장 동인, 도전 과제 및 동향 ■ 제조 비용 구조 분석 ■ 마케팅, 유통업체 및 고객 ■ 지역별 고순도 스퍼터링 타겟 시장 예측 ■ 주요 기업 분석 JX Nippon Mining and Metals Corporation, Praxair, Plansee SE, Mitsui Mining and Smelting, Hitachi Metals, Honeywell, Sumitomo Chemical, ULVAC, Materion (Heraeus), GRIKIN Advanced Material Co., Ltd., TOSOH, Ningbo Jiangfeng, Heesung, Luvata, Fujian Acetron New Materials Co., Ltd, Changzhou Sujing Electronic Material, Luoyang Sifon E – JX Nippon Mining and Metals Corporation – Praxair – Plansee SE ■ 조사 결과 및 결론 [그림 목록]고순도 스퍼터링 타겟 이미지 고순도 스퍼터링 타겟 판매량 성장률 (2019-2030) 글로벌 고순도 스퍼터링 타겟 매출 성장률 (2019-2030) 지역별 고순도 스퍼터링 타겟 매출 (2019, 2023 및 2030) 글로벌 종류별 고순도 스퍼터링 타겟 판매량 시장 점유율 2023 글로벌 종류별 고순도 스퍼터링 타겟 매출 시장 점유율 (2019-2024) 글로벌 용도별 고순도 스퍼터링 타겟 판매량 시장 점유율 2023 글로벌 용도별 고순도 스퍼터링 타겟 매출 시장 점유율 기업별 고순도 스퍼터링 타겟 판매량 시장 2023 기업별 글로벌 고순도 스퍼터링 타겟 판매량 시장 점유율 2023 기업별 고순도 스퍼터링 타겟 매출 시장 2023 기업별 글로벌 고순도 스퍼터링 타겟 매출 시장 점유율 2023 지역별 글로벌 고순도 스퍼터링 타겟 판매량 시장 점유율 (2019-2024) 글로벌 고순도 스퍼터링 타겟 매출 시장 점유율 2023 미주 고순도 스퍼터링 타겟 판매량 (2019-2024) 미주 고순도 스퍼터링 타겟 매출 (2019-2024) 아시아 태평양 고순도 스퍼터링 타겟 판매량 (2019-2024) 아시아 태평양 고순도 스퍼터링 타겟 매출 (2019-2024) 유럽 고순도 스퍼터링 타겟 판매량 (2019-2024) 유럽 고순도 스퍼터링 타겟 매출 (2019-2024) 중동 및 아프리카 고순도 스퍼터링 타겟 판매량 (2019-2024) 중동 및 아프리카 고순도 스퍼터링 타겟 매출 (2019-2024) 미국 고순도 스퍼터링 타겟 시장규모 (2019-2024) 캐나다 고순도 스퍼터링 타겟 시장규모 (2019-2024) 멕시코 고순도 스퍼터링 타겟 시장규모 (2019-2024) 브라질 고순도 스퍼터링 타겟 시장규모 (2019-2024) 중국 고순도 스퍼터링 타겟 시장규모 (2019-2024) 일본 고순도 스퍼터링 타겟 시장규모 (2019-2024) 한국 고순도 스퍼터링 타겟 시장규모 (2019-2024) 동남아시아 고순도 스퍼터링 타겟 시장규모 (2019-2024) 인도 고순도 스퍼터링 타겟 시장규모 (2019-2024) 호주 고순도 스퍼터링 타겟 시장규모 (2019-2024) 독일 고순도 스퍼터링 타겟 시장규모 (2019-2024) 프랑스 고순도 스퍼터링 타겟 시장규모 (2019-2024) 영국 고순도 스퍼터링 타겟 시장규모 (2019-2024) 이탈리아 고순도 스퍼터링 타겟 시장규모 (2019-2024) 러시아 고순도 스퍼터링 타겟 시장규모 (2019-2024) 이집트 고순도 스퍼터링 타겟 시장규모 (2019-2024) 남아프리카 고순도 스퍼터링 타겟 시장규모 (2019-2024) 이스라엘 고순도 스퍼터링 타겟 시장규모 (2019-2024) 터키 고순도 스퍼터링 타겟 시장규모 (2019-2024) GCC 국가 고순도 스퍼터링 타겟 시장규모 (2019-2024) 고순도 스퍼터링 타겟의 제조 원가 구조 분석 고순도 스퍼터링 타겟의 제조 공정 분석 고순도 스퍼터링 타겟의 산업 체인 구조 고순도 스퍼터링 타겟의 유통 채널 글로벌 지역별 고순도 스퍼터링 타겟 판매량 시장 전망 (2025-2030) 글로벌 지역별 고순도 스퍼터링 타겟 매출 시장 점유율 예측 (2025-2030) 글로벌 종류별 고순도 스퍼터링 타겟 판매량 시장 점유율 예측 (2025-2030) 글로벌 종류별 고순도 스퍼터링 타겟 매출 시장 점유율 예측 (2025-2030) 글로벌 용도별 고순도 스퍼터링 타겟 판매량 시장 점유율 예측 (2025-2030) 글로벌 용도별 고순도 스퍼터링 타겟 매출 시장 점유율 예측 (2025-2030) ※납품 보고서의 구성항목 및 내용은 본 페이지에 기재된 내용과 다를 수 있습니다. 보고서 주문 전에 당사에 보고서 샘플을 요청해서 구성항목 및 기재 내용을 반드시 확인하시길 바랍니다. 보고서 샘플에 없는 내용은 납품 드리는 보고서에도 포함되지 않습니다. |
| ※참고 정보 고순도 스퍼터링 타겟은 박막 증착 공정의 핵심 소재로서, 그 순도가 매우 높은 금속 또는 합금으로 이루어진 물질을 의미합니다. 스퍼터링이란 진공 중에 불활성 가스(주로 아르곤)를 주입하고 고전압을 걸어 플라즈마를 생성시킨 후, 이 플라즈마 내의 이온들을 타겟에 충돌시켜 타겟 표면의 원자를 떼어내어 기판 위에 박막을 형성하는 기술입니다. 이때 사용되는 타겟의 순도는 증착되는 박막의 품질에 직접적인 영향을 미치기 때문에 매우 중요합니다. 고순도 스퍼터링 타겟의 주요 특징으로는 첫째, 극히 높은 순도를 들 수 있습니다. 일반적으로 99.999% (5N) 이상의 순도를 가지는 경우가 많으며, 특정 응용 분야에서는 99.9999% (6N) 이상의 초고순도 타겟이 요구되기도 합니다. 이러한 높은 순도는 박막 내 불순물의 함량을 최소화하여 전자, 광학, 자기 등 다양한 분야에서 요구되는 성능을 극대화합니다. 예를 들어, 반도체 소자의 전기적 특성이나 디스플레이 패널의 광학적 특성은 미량의 불순물에도 민감하게 반응할 수 있기 때문에 고순도 타겟의 사용이 필수적입니다. 둘째, 균일한 미세 구조를 갖는다는 점입니다. 높은 순도와 더불어 타겟 내부의 결정립 크기나 분포가 균일해야 스퍼터링 과정에서 타겟 표면의 마모가 일정하게 일어나고, 이는 박막 증착의 재현성과 균일성을 확보하는 데 중요한 역할을 합니다. 불균일한 미세 구조는 스퍼터링 과정에서 입자 방출량의 편차를 유발하여 박막의 표면 거칠기를 증가시키거나 조성비를 변화시킬 수 있습니다. 셋째, 기계적 강도와 가공성이 우수해야 한다는 점입니다. 스퍼터링 공정 중 타겟은 지속적인 이온 충돌에 노출되므로 충분한 기계적 강도가 요구됩니다. 또한, 다양한 형태와 크기로 가공되어야 하므로 적절한 가공성이 뒷받침되어야 합니다. 마지막으로, 특정 물리적, 화학적 특성을 만족해야 합니다. 예를 들어, 스퍼터링 속도, 플라즈마 생성 효율, 증착되는 박막의 조성비 등을 고려하여 타겟 재료의 특성이 설계됩니다. 고순도 스퍼터링 타겟은 그 재료에 따라 매우 다양하게 분류될 수 있습니다. 가장 일반적인 분류로는 금속 타겟, 합금 타겟, 산화물 타겟, 질화물 타겟 등으로 나눌 수 있습니다. 금속 타겟에는 알루미늄(Al), 구리(Cu), 금(Au), 백금(Pt), 타이타늄(Ti), 탄탈럼(Ta) 등이 있으며, 각각의 금속은 고유의 전기 전도도, 열 전도도, 내식성 등을 바탕으로 다양한 응용 분야에 사용됩니다. 예를 들어, 구리는 높은 전기 전도도로 인해 반도체 배선 재료로, 타이타늄은 우수한 접착력과 내식성으로 인해 다양한 표면 코팅에 활용됩니다. 합금 타겟은 두 가지 이상의 금속 또는 비금속 원소를 특정 비율로 혼합하여 제조된 것으로, 단일 금속으로는 얻기 어려운 특성을 구현하기 위해 사용됩니다. 대표적으로 니켈-크롬(Ni-Cr) 합금은 높은 비저항과 우수한 내열성으로 저항기 재료로 사용되며, 은-구리(Ag-Cu) 합금은 높은 전기 전도도와 함께 용접성을 향상시키기 위해 사용되기도 합니다. 산화물 타겟은 산소와 금속 원소가 결합된 화합물로, 예를 들어 산화인듐주석(ITO: Indium Tin Oxide)은 높은 투명도와 전기 전도도를 동시에 가져 투명 전극 재료로 널리 사용됩니다. 또한, 산화아연(ZnO), 산화규소(SiO2) 등도 다양한 광학 및 전자 소자 제작에 필수적인 타겟 재료입니다. 질화물 타겟은 질소와 금속 원소가 결합된 화합물로, 질화타이타늄(TiN)은 높은 경도와 내마모성, 우수한 내화학성으로 인해 공구 코팅이나 보호 코팅 등에 사용됩니다. 이 외에도 탄화물, 불화물 등 다양한 화합물 타겟들이 특정 용도를 위해 개발 및 사용되고 있습니다. 고순도 스퍼터링 타겟의 용도는 현대 산업 전반에 걸쳐 매우 광범위하게 활용됩니다. 반도체 산업에서는 웨이퍼 위에 미세한 회로를 형성하기 위한 전극, 배선, 절연막 등의 증착에 필수적으로 사용됩니다. 예를 들어, 구리 타겟은 저저항 배선 형성에, 타이타늄 타겟은 알루미늄 배선과의 접착력을 향상시키기 위한 확산 방지막으로 사용됩니다. 디스플레이 산업에서는 액정 디스플레이(LCD)나 유기 발광 다이오드(OLED) 패널의 투명 전극 형성, 발광층 형성 등에 고순도 타겟이 사용됩니다. ITO 타겟이 대표적인 예이며, 최근에는 보다 향상된 성능을 위해 산화아연 기반의 투명 전도막 타겟이나 은 나노 와이어 기반의 유연 투명 전극 재료 등이 연구 개발되고 있습니다. 태양전지 산업에서는 광전 변환 효율을 높이기 위한 전극 또는 반사 방지막 형성에 다양한 금속 및 산화물 타겟이 사용됩니다. 자기 기록 매체나 자기 센서 등에서도 고순도 자기 재료 타겟이 활용되어 높은 데이터 저장 밀도나 민감도를 구현합니다. 또한, 광학 코팅 분야에서는 렌즈의 반사 방지 코팅, 내구성 향상 코팅 등에 알루미늄, 실리콘, 산화규소 등의 타겟이 사용되며, 의료 기기나 장식용 코팅 등에서도 금, 백금, 티타늄 등의 고순도 타겟이 활용되어 생체 적합성이나 심미성을 높입니다. 자동차 산업에서는 엔진 부품의 내마모성 향상, 자동차 유리의 열 반사 코팅 등에 고순도 타겟을 이용한 박막 증착 기술이 적용됩니다. 고순도 스퍼터링 타겟의 제조와 관련해서는 매우 정교한 기술이 요구됩니다. 원재료의 정련 및 불순물 제거 과정이 매우 중요하며, 이를 위해 고온 진공 용해, 구역 용해, 전자빔 용해 등 다양한 정련 기술이 사용됩니다. 또한, 제조된 타겟의 물리적, 화학적 분석을 통해 순도와 미세 구조를 엄격하게 관리해야 합니다. 대표적인 분석 방법으로는 유도 결합 플라즈마 질량 분석기(ICP-MS)를 이용한 미량 원소 분석, X선 회절(XRD)을 이용한 결정 구조 분석, 주사전자현미경(SEM) 및 투과전자현미경(TEM)을 이용한 미세 구조 관찰 등이 있습니다. 타겟의 형상 가공 또한 중요한데, 스퍼터링 장비의 특성에 맞춰 원통형, 평판형 등 다양한 형태의 타겟이 정밀하게 가공됩니다. 스퍼터링 타겟의 효율적인 사용을 위한 기술로는 타겟을 효과적으로 냉각시켜 과열을 방지하는 냉각 시스템, 타겟의 수명을 연장하고 불순물 방출을 최소화하기 위한 표면 처리 기술 등이 있습니다. 또한, 최신 기술 동향으로는 고성능 스퍼터링 장비와의 조합을 통해 증착 속도를 향상시키고 균일성을 높이는 기술, 나노 복합재료나 특정 결정 구조를 갖는 타겟 개발을 통해 혁신적인 박막 특성을 구현하려는 연구 등이 활발히 진행되고 있습니다. 최근에는 희토류 원소를 포함한 특수 타겟이나 그래핀과 같은 신소재 타겟도 연구 대상이 되고 있습니다. 고순도 스퍼터링 타겟은 끊임없이 발전하는 첨단 산업의 요구에 부응하기 위해 지속적인 연구 개발과 정밀한 제조 기술이 요구되는 핵심 소재라 할 수 있습니다. |
| ※본 조사보고서 [세계의 고순도 스퍼터링 타겟 시장 2024-2030] (코드 : LPI2407D24592) 판매에 관한 면책사항을 반드시 확인하세요. |
| ※본 조사보고서 [세계의 고순도 스퍼터링 타겟 시장 2024-2030] 에 대해서 E메일 문의는 여기를 클릭하세요. |
※당 사이트에 없는 보고서도 취급 가능한 경우가 많으니 문의 주세요!