| ■ 영문 제목 : Global Photoresist & Photoresist Ancillaries Market Growth 2025-2031 | |
 | ■ 상품코드 : LPK23JU0220 ■ 조사/발행회사 : LP Information ■ 발행일 : 2025년 3월 ■ 페이지수 : 109 ■ 작성언어 : 영어 ■ 보고서 형태 : PDF ■ 납품 방식 : E메일 ■ 조사대상 지역 : 글로벌 ■ 산업 분야 : 화학&재료 |
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| LP인포메이션 (LPI) 의 최신 조사 자료는 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품의 과거 판매실적을 살펴보고 2024년의 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 판매실적을 검토하여 2025년부터 2031년까지 예상되는 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 판매에 대한 지역 및 시장 세그먼트별 포괄적인 분석을 제공합니다. 글로벌 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모는 2024년 xxx백만 달러에서 연평균 xx% 성장하여 2031년에는 xxx백만 달러에 달할 것으로 예측되고 있습니다. 본 보고서의 시장규모 데이터는 무역 전쟁 및 러시아-우크라이나 전쟁의 영향을 반영했습니다. 본 조사 자료는 글로벌 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장에 관해서 조사, 분석한 보고서로서, 기업별 시장 점유율, 지역별 시장규모 (미주, 미국, 캐나다, 멕시코, 브라질, 아시아 태평양, 중국, 일본, 한국, 동남아시아, 인도, 유럽, 독일, 프랑스, 영국, 이탈리아, 러시아, 중동/아프리카, 이집트, 남아프리카, 터키, 중동GCC국 등), 시장동향, 판매/유통업자/고객 리스트, 시장예측 (2026년-2031년), 주요 기업동향 (기업정보, 제품, 판매량, 매출, 가격, 매출총이익) 등의 정보를 수록하고 있습니다. 또한, 주요지역의 종류별 (포토레지스트, 포토레지스트 부속품) 시장규모와 용도별 (반도체 및 IC, LCD, PCB, 기타) 시장규모 데이터도 포함되어 있습니다. ***** 목차 구성 ***** 보고서의 범위 경영자용 요약 - 글로벌 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모 2020년-2031년 - 지역별 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장분석 - 종류별 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모 2020년-2025년 (포토레지스트, 포토레지스트 부속품) - 용도별 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모 2020년-2025년 (반도체 및 IC, LCD, PCB, 기타) 기업별 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장분석 - 기업별 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 판매량 - 기업별 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 매출액 - 기업별 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 판매가격 - 주요기업의 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 생산거점, 판매거점 - 시장 집중도 분석 지역별 분석 - 지역별 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 판매량 2020년-2025년 - 지역별 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 매출액 2020년-2025년 미주 시장 - 미주의 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모 2020년-2025년 - 미주의 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모 : 종류별 - 미주의 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모 : 용도별 - 미국 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모 - 캐나다 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모 - 멕시코 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모 - 브라질 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모 아시아 태평양 시장 - 아시아 태평양의 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모 2020년-2025년 - 아시아 태평양의 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모 : 종류별 - 아시아 태평양의 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모 : 용도별 - 중국 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모 - 일본 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모 - 한국 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모 - 동남아시아 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모 - 인도 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모 유럽 시장 - 유럽의 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모 2020년-2025년 - 유럽의 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모 : 종류별 - 유럽의 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모 : 용도별 - 독일 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모 - 프랑스 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모 - 영국 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모 중동/아프리카 시장 - 중동/아프리카의 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모 2020년-2025년 - 중동/아프리카의 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모 : 종류별 - 중동/아프리카의 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모 : 용도별 - 이집트 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모 - 남아프리카 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모 - 중동GCC 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모 시장의 성장요인, 과제, 동향 - 시장의 성장요인, 기회 - 시장의 과제, 리스크 - 산업 동향 제조원가 구조 분석 - 원재료 및 공급업체 - 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품의 제조원가 구조 분석 - 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품의 제조 프로세스 분석 - 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품의 산업체인 구조 마케팅, 유통업체, 고객 - 판매채널 - 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품의 유통업체 - 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품의 주요 고객 지역별 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장 예측 - 지역별 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모 예측 2026년-2031년 - 미주 시장 예측 - 아시아 태평양 시장 예측 - 유럽 시장 예측 - 중동/아프리카 시장 예측 - 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품의 종류별 시장예측 (포토레지스트, 포토레지스트 부속품) - 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품의 용도별 시장예측 (반도체 및 IC, LCD, PCB, 기타) 주요 기업 분석 (기업정보, 제품, 판매량, 매출, 가격, 매출총이익) - Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd, JSR Corporation, DuPont, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd, Fujifilm Corporation, Sumitomo Chemical Co., Ltd., ALLRESIST, Merck Group, Micro Resist Technology, DJ MicroLaminates, Eternal Materials, Chang Chun Group 조사의 결과/결론 |
The photoresist and photoresist ancillaries market products are mainly solvent-based solutions which include electronic-grade solvents, polymer resins, stabilizers, surfactants, photosensitive chemicals, and cross-linking agents.
LPI (LP Information)’ newest research report, the “Photoresist & Photoresist Ancillaries Industry Forecast” looks at past sales and reviews total world Photoresist & Photoresist Ancillaries sales in 2024, providing a comprehensive analysis by region and market sector of projected Photoresist & Photoresist Ancillaries sales for 2025 through 2031. With Photoresist & Photoresist Ancillaries sales broken down by region, market sector and sub-sector, this report provides a detailed analysis in US$ millions of the world Photoresist & Photoresist Ancillaries industry.
This Insight Report provides a comprehensive analysis of the global Photoresist & Photoresist Ancillaries landscape and highlights key trends related to product segmentation, company formation, revenue, and market share, latest development, and M&A activity. This report also analyzes the strategies of leading global companies with a focus on Photoresist & Photoresist Ancillaries portfolios and capabilities, market entry strategies, market positions, and geographic footprints, to better understand these firms’ unique position in an accelerating global Photoresist & Photoresist Ancillaries market.
This Insight Report evaluates the key market trends, drivers, and affecting factors shaping the global outlook for Photoresist & Photoresist Ancillaries and breaks down the forecast by type, by application, geography, and market size to highlight emerging pockets of opportunity. With a transparent methodology based on hundreds of bottom-up qualitative and quantitative market inputs, this study forecast offers a highly nuanced view of the current state and future trajectory in the global Photoresist & Photoresist Ancillaries.
The global Photoresist & Photoresist Ancillaries market size is projected to grow from US$ million in 2024 to US$ million in 2031; it is expected to grow at a CAGR of % from 2025 to 2031.
United States market for Photoresist & Photoresist Ancillaries is estimated to increase from US$ million in 2024 to US$ million by 2031, at a CAGR of % from 2025 through 2031.
China market for Photoresist & Photoresist Ancillaries is estimated to increase from US$ million in 2024 to US$ million by 2031, at a CAGR of % from 2025 through 2031.
Europe market for Photoresist & Photoresist Ancillaries is estimated to increase from US$ million in 2024 to US$ million by 2031, at a CAGR of % from 2025 through 2031.
Global key Photoresist & Photoresist Ancillaries players cover Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd, JSR Corporation, DuPont, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd, Fujifilm Corporation, Sumitomo Chemical Co., Ltd., ALLRESIST, Merck Group and Micro Resist Technology, etc. In terms of revenue, the global two largest companies occupied for a share nearly % in 2024.
This report presents a comprehensive overview, market shares, and growth opportunities of Photoresist & Photoresist Ancillaries market by product type, application, key manufacturers and key regions and countries.
[Market Segmentation]
Segmentation by type
Photoresist
Photoresist Ancillaries
Segmentation by application
Semiconductors & ICs
LCDs
Printed Circuit Boards
Others
This report also splits the market by region:
Americas
United States
Canada
Mexico
Brazil
APAC
China
Japan
Korea
Southeast Asia
India
Australia
Europe
Germany
France
UK
Italy
Russia
Middle East & Africa
Egypt
South Africa
Israel
Turkey
GCC Countries
The below companies that are profiled have been selected based on inputs gathered from primary experts and analyzing the company’s coverage, product portfolio, its market penetration.
Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd
JSR Corporation
DuPont
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd
Fujifilm Corporation
Sumitomo Chemical Co., Ltd.
ALLRESIST
Merck Group
Micro Resist Technology
DJ MicroLaminates
Eternal Materials
Chang Chun Group
[Key Questions Addressed in this Report]
What is the 10-year outlook for the global Photoresist & Photoresist Ancillaries market?
What factors are driving Photoresist & Photoresist Ancillaries market growth, globally and by region?
Which technologies are poised for the fastest growth by market and region?
How do Photoresist & Photoresist Ancillaries market opportunities vary by end market size?
How does Photoresist & Photoresist Ancillaries break out type, application?
What are the influences of trade war and Russia-Ukraine war?
1 Scope of the Report |
| ※참고 정보 포토레지스트와 포토레지스트 부속품은 반도체 제조 공정에서 미세 패턴을 형성하는 데 필수적인 핵심 재료들입니다. 포토레지스트는 빛에 반응하여 현상액에 대한 용해도가 변하는 감광성 물질이며, 이를 통해 웨이퍼 표면에 원하는 회로 패턴을 전사하는 역할을 합니다. 포토레지스트 부속품은 이러한 포토레지스트의 성능을 극대화하고 공정의 안정성과 효율성을 높이는 데 기여하는 다양한 보조 재료들을 총칭합니다. 이 글에서는 포토레지스트와 그 부속품들의 개념을 정의, 특징, 종류 및 관련 기술 등을 중심으로 상세하게 설명하고자 합니다. 먼저 포토레지스트의 핵심적인 개념은 ‘빛에 반응하여 성질이 변하는 물질’이라는 점입니다. 이는 매우 얇은 막 형태로 웨이퍼 표면에 도포되며, 특정 파장의 빛(주로 자외선)에 노광되면 화학적 변화를 일으킵니다. 이러한 화학적 변화는 포토레지스트의 용해도를 변화시키는데, 현상액에 의해 용해도가 높아진 부분은 제거되고, 용해도가 낮은 부분은 웨이퍼 표면에 남아 패턴을 형성하게 됩니다. 이러한 과정을 통해 회로 설계 데이터에 기반한 미세한 패턴이 웨이퍼 위에 새겨지는 것입니다. 포토레지스트의 가장 중요한 특징 중 하나는 감도(Sensitivity)입니다. 이는 특정 양의 빛에 반응하여 원하는 변화를 일으키는 데 필요한 빛 에너지의 양을 의미합니다. 감도가 높을수록 더 적은 빛 에너지로도 패턴 형성이 가능하며, 이는 공정 시간을 단축하고 생산성을 향상시키는 데 기여합니다. 하지만 감도가 너무 높으면 원하지 않는 부분까지 빛이 투과하여 패턴 해상도가 저하될 수 있으므로, 공정 조건에 맞는 적절한 감도를 가진 포토레지스트를 선택하는 것이 중요합니다. 또 다른 중요한 특징은 해상도(Resolution)입니다. 이는 포토레지스트가 얼마나 미세한 패턴을 구현할 수 있는지를 나타내는 지표입니다. 반도체 기술이 발전함에 따라 더욱 집적도가 높은 미세 회로를 구현해야 하므로, 높은 해상도를 가진 포토레지스트의 중요성은 더욱 커지고 있습니다. 해상도는 포토레지스트 자체의 특성뿐만 아니라 사용되는 광원의 파장, 노광 장비의 성능, 그리고 현상 공정 등 다양한 요인에 의해 결정됩니다. 포토레지스트의 종류는 크게 두 가지로 나눌 수 있습니다. 첫 번째는 **양성 포토레지스트(Positive Photoresist)**입니다. 양성 포토레지스트는 빛에 노광된 부분이 현상액에 의해 제거되는 특성을 가집니다. 즉, 빛이 닿은 부분은 녹아서 없어지고, 빛이 닿지 않은 부분이 웨이퍼 표면에 남아 패턴을 형성합니다. 이는 주로 패턴이 회로 설계의 ‘패턴 형상’ 그대로 웨이퍼에 남는다는 점에서 직관적이며, 반도체 공정에서 가장 널리 사용되는 방식입니다. 두 번째는 **음성 포토레지스트(Negative Photoresist)**입니다. 음성 포토레지스트는 빛에 노광된 부분이 현상액에 의해 제거되지 않고 오히려 딱딱하게 굳는(경화되는) 특성을 가집니다. 따라서 빛이 닿은 부분은 남아있고, 빛이 닿지 않은 부분이 제거되어 패턴이 형성됩니다. 음성 포토레지스트는 일반적으로 양성 포토레지스트보다 높은 해상도를 구현할 수 있다는 장점이 있으며, 특정 공정이나 미세 패턴 구현에 유리하게 사용될 수 있습니다. 포토레지스트의 종류는 사용되는 광원의 파장에 따라서도 구분할 수 있습니다. 과거에는 g-line(436nm), i-line(365nm) 등의 수은 램프를 이용한 광화학 반응을 활용하는 포토레지스트가 주로 사용되었습니다. 그러나 반도체 집적도가 높아짐에 따라 더욱 짧은 파장의 빛을 사용해야 했고, 이에 따라 KrF 엑시머 레이저(248nm), ArF 엑시머 레이저(193nm)를 이용하는 포토레지스트가 개발되었습니다. 최근에는 EUV(Extreme Ultraviolet, 극자외선, 13.5nm) 리소그래피 기술이 등장하면서 EUV용 포토레지스트 연구 개발이 활발히 진행되고 있으며, 이는 나노미터(nm) 단위의 초미세 패턴 구현을 가능하게 하는 핵심 기술입니다. 포토레지스트의 용도는 주로 반도체 회로 패턴 형성 외에도 디스플레이 패널 제조, 마이크로 전자 기계 시스템(MEMS) 제작 등 다양한 미세 가공 기술에 응용됩니다. 웨이퍼 위에 집적될 회로의 복잡성과 미세함이 증가함에 따라 포토레지스트의 요구 성능도 더욱 까다로워지고 있습니다. 예를 들어, 고집적 반도체 칩을 만들기 위해서는 매우 얇고 균일한 포토레지스트 막 형성 능력과 함께, 극자외선(EUV)과 같은 단파장 빛에 대한 높은 감도 및 해상도가 요구됩니다. 또한, 포토레지스트는 공정 과정에서 발생할 수 있는 다양한 화학적, 물리적 스트레스에 대한 내구성을 가져야 합니다. 포토레지스트와 더불어 포토레지스트 부속품들도 공정의 성공과 품질에 매우 중요한 역할을 합니다. 포토레지스트 부속품은 크게 다음과 같은 범주로 나눌 수 있습니다. 첫째, **기판 표면 처리제(Substrate Surface Treatment Agents)**입니다. 이는 웨이퍼 표면과 포토레지스트 사이의 접착력을 향상시키는 역할을 합니다. 웨이퍼 표면은 실리콘 산화막, 질화막 등 다양한 물질로 구성될 수 있으며, 이러한 표면의 화학적 특성에 따라 포토레지스트의 도포 균일성과 박리 방지 성능이 달라집니다. 대표적인 표면 처리제로는 HMDS(Hexamethyldisilazane)와 같은 실란 커플링제가 사용되며, 이는 웨이퍼 표면에 소수성(hydrophobic) 특성을 부여하여 포토레지스트의 퍼짐성을 좋게 하고 핀홀(pinhole) 발생을 줄여줍니다. 둘째, **반사 방지 코팅제(Anti-Reflective Coating, ARC)**입니다. 포토레지스트는 빛을 이용하는 공정이므로, 웨이퍼 표면에서 빛이 반사되어 포토레지스트 내부로 불균일하게 투과하는 현상, 즉 ‘광간섭(optical interference)’ 현상이 발생할 수 있습니다. 이러한 광간섭은 패턴의 측벽 형태를 왜곡시키거나 해상도를 저하시키는 원인이 됩니다. ARC는 포토레지스트 아래 또는 위에 도포되어 웨이퍼 표면에서의 빛 반사를 억제함으로써 이러한 문제를 해결하고 패턴 형상의 정밀도를 높여줍니다. ARC는 사용되는 광원의 파장에 맞춰 특정 파장의 빛을 효과적으로 흡수하거나 상쇄시키는 방식으로 작동합니다. 셋째, **탑 코트(Top Coat) 또는 고해상도 코트(High Resolution Coat)**입니다. 이는 포토레지스트 상부에 도포되는 얇은 막으로, 포토레지스트의 표면 특성을 개선하고, 현상 공정 중 발생하는 포토레지스트의 팽윤(swelling)을 억제하여 해상도를 향상시키는 역할을 합니다. 특히, 아크릴레이트(acrylate) 계열의 고분자를 기반으로 하는 탑 코트는 포토레지스트의 표면 장력을 낮추고 균일한 현상 과정을 유도하여 보다 선명하고 미세한 패턴 구현에 기여합니다. 넷째, **박리제(Stripper)**입니다. 포토레지스트를 사용하여 원하는 패턴을 형성한 후, 후속 공정(예: 식각, 이온 주입)을 진행하기 전에 웨이퍼 표면에 남아있는 포토레지스트를 제거해야 합니다. 박리제는 포토레지스트를 화학적으로 분해하거나 용해시켜 웨이퍼 표면에서 깨끗하게 제거하는 역할을 합니다. 효과적인 박리제는 포토레지스트만을 선택적으로 제거하고 웨이퍼 표면에 손상을 주지 않아야 하며, 잔류물이 남지 않도록 하는 것이 중요합니다. 관련 기술 측면에서 포토레지스트 분야는 끊임없이 발전하고 있습니다. 특히 **초미세 패턴 구현을 위한 리소그래피 기술의 발전**은 포토레지스트 기술의 발전을 견인하는 가장 큰 요인입니다. EUV 리소그래피 기술은 기존 ArF 리소그래피보다 훨씬 짧은 파장의 빛을 사용하므로, EUV 빛에 감응하고 고해상도를 구현할 수 있는 새로운 포토레지스트 재료의 개발이 필수적입니다. 이는 새로운 광산 발생 메커니즘을 가진 포토레지스트, 금속 유기 화합물을 이용하는 포토레지스트 등 다양한 연구를 포함합니다. 또한, **더욱 낮은 에너지로도 충분한 반응을 일으키는 고감도 포토레지스트** 개발도 중요한 과제입니다. 이는 노광 시간을 단축하여 생산성을 높이고, 에너지 소비를 줄이는 데 기여합니다. 또한, **잔류물 없는 깨끗한 현상 특성**과 **다양한 공정 조건에서의 안정성** 또한 포토레지스트의 성능을 평가하는 중요한 지표입니다. 이러한 포토레지스트 및 부속품들의 개발은 반도체 산업의 미세화, 고성능화, 그리고 집적도 향상이라는 끊임없는 요구에 부응하기 위한 핵심적인 기술이며, 향후 차세대 반도체 개발을 위해서도 지속적인 연구 개발이 이루어질 것입니다. 궁극적으로 포토레지스트와 그 부속품들은 복잡한 반도체 회로를 웨이퍼 위에 정확하고 효율적으로 구현하는 데 없어서는 안 될 필수적인 요소들입니다. |
| ※본 조사보고서 [글로벌 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장 2025-2031] (코드 : LPK23JU0220) 판매에 관한 면책사항을 반드시 확인하세요. |
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