| ■ 영문 제목 : Global EUV Mask Blanks Market Growth 2025-2031 | |
 | ■ 상품코드 : LPK23JL1280 ■ 조사/발행회사 : LP Information ■ 발행일 : 2025년 3월 ■ 페이지수 : 104 ■ 작성언어 : 영어 ■ 보고서 형태 : PDF ■ 납품 방식 : E메일 ■ 조사대상 지역 : 글로벌 ■ 산업 분야 : 전자&반도체 |
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| LPI (LP Information)의 최신 조사 보고서는 EUV 마스크 블랭크의 과거 판매실적을 살펴보고 2024년의 EUV 마스크 블랭크 판매실적을 검토하여 2025년부터 2031년까지 예상되는 EUV 마스크 블랭크 판매에 대한 지역 및 시장 세그먼트별 포괄적인 분석을 제공합니다. 세계의 EUV 마스크 블랭크 시장규모는 2024년 xxx백만 달러에서 연평균 xx% 성장하여 2031년에는 xxx백만 달러에 달할 것으로 예측되고 있습니다. 본 보고서의 시장규모 데이터는 무역 전쟁 및 러시아-우크라이나 전쟁의 영향을 반영했습니다. 본 보고서는 EUV 마스크 블랭크의 세계시장에 관해서 조사, 분석한 자료로서, 기업별 시장 점유율, 지역별 시장규모 (미주, 미국, 캐나다, 멕시코, 브라질, 아시아, 중국, 일본, 한국, 동남아시아, 인도, 유럽, 독일, 프랑스, 영국, 이탈리아, 러시아, 중동/아프리카, 이집트, 남아프리카, 터키, 중동GCC국 등), 시장동향, 판매/유통업자/고객 리스트, 시장예측 (2026년-2031년), 주요 기업동향 (기업정보, 제품, 판매량, 매출, 가격, 매출총이익) 등의 정보를 포함하고 있습니다. 또한, 주요지역의 종류별 시장규모 (석영 마스크, 소다 마스크)와 용도별 시장규모 (LCD, IC, 반도체) 데이터도 수록되어 있습니다. ***** 목차 구성 ***** 보고서의 범위 경영자용 요약 - 세계의 EUV 마스크 블랭크 시장규모 2020년-2031년 - 지역별 EUV 마스크 블랭크 시장분석 - 종류별 EUV 마스크 블랭크 시장규모 2020년-2025년 (석영 마스크, 소다 마스크) - 용도별 EUV 마스크 블랭크 시장규모 2020년-2025년 (LCD, IC, 반도체) 기업별 EUV 마스크 블랭크 시장분석 - 기업별 EUV 마스크 블랭크 판매량 - 기업별 EUV 마스크 블랭크 매출액 - 기업별 EUV 마스크 블랭크 판매가격 - 주요기업의 EUV 마스크 블랭크 생산거점, 판매거점 - 시장 집중도 분석 지역별 분석 - 지역별 EUV 마스크 블랭크 판매량 2020년-2025년 - 지역별 EUV 마스크 블랭크 매출액 2020년-2025년 미주 시장 - 미주의 EUV 마스크 블랭크 시장규모 2020년-2025년 - 미주의 EUV 마스크 블랭크 시장규모 : 종류별 - 미주의 EUV 마스크 블랭크 시장규모 : 용도별 - 미국 EUV 마스크 블랭크 시장규모 - 캐나다 EUV 마스크 블랭크 시장규모 - 멕시코 EUV 마스크 블랭크 시장규모 - 브라질 EUV 마스크 블랭크 시장규모 아시아 시장 - 아시아의 EUV 마스크 블랭크 시장규모 2020년-2025년 - 아시아의 EUV 마스크 블랭크 시장규모 : 종류별 - 아시아의 EUV 마스크 블랭크 시장규모 : 용도별 - 중국 EUV 마스크 블랭크 시장규모 - 일본 EUV 마스크 블랭크 시장규모 - 한국 EUV 마스크 블랭크 시장규모 - 동남아시아 EUV 마스크 블랭크 시장규모 - 인도 EUV 마스크 블랭크 시장규모 유럽 시장 - 유럽의 EUV 마스크 블랭크 시장규모 2020년-2025년 - 유럽의 EUV 마스크 블랭크 시장규모 : 종류별 - 유럽의 EUV 마스크 블랭크 시장규모 : 용도별 - 독일 EUV 마스크 블랭크 시장규모 - 프랑스 EUV 마스크 블랭크 시장규모 - 영국 EUV 마스크 블랭크 시장규모 중동/아프리카 시장 - 중동/아프리카의 EUV 마스크 블랭크 시장규모 2020년-2025년 - 중동/아프리카의 EUV 마스크 블랭크 시장규모 : 종류별 - 중동/아프리카의 EUV 마스크 블랭크 시장규모 : 용도별 - 이집트 EUV 마스크 블랭크 시장규모 - 남아프리카 EUV 마스크 블랭크 시장규모 - 중동GCC EUV 마스크 블랭크 시장규모 시장의 성장요인, 과제, 동향 - 시장의 성장요인, 기회 - 시장의 과제, 리스크 - 산업 동향 제조원가 구조 분석 - 원재료 및 공급업체 - EUV 마스크 블랭크의 제조원가 구조 분석 - EUV 마스크 블랭크의 제조 프로세스 분석 - EUV 마스크 블랭크의 산업체인 구조 마케팅, 유통업체, 고객 - 판매채널 - EUV 마스크 블랭크의 유통업체 - EUV 마스크 블랭크의 주요 고객 지역별 EUV 마스크 블랭크 시장 예측 - 지역별 EUV 마스크 블랭크 시장규모 예측 2026년-2031년 - 미주 지역 예측 - 아시아 지역 예측 - 유럽 지역 예측 - 중동/아프리카 지역 예측 - EUV 마스크 블랭크의 종류별 시장예측 (석영 마스크, 소다 마스크) - EUV 마스크 블랭크의 용도별 시장예측 (LCD, IC, 반도체) 주요 기업 분석 (기업정보, 제품, 판매량, 매출, 가격, 매출총이익) - AGC Inc, DNP, Toppan, Photronics Inc, Shin-Etsu, Applied Materials, Mitsui Chemicals, TSMC, Hubei Feilihua Quartz, Shenzhen Qingyi Photomask, LG-IT 조사의 결론 |
EUV mask blanks are a low-thermal expansion glass substrate with various kinds of optical coating films on its surface. The EUV mask blank consists of 40 to 50 or more alternating layers of silicon and molybdenum on the substrate. Although only Hoya and AGC are currently on the market with commercial delivery capabilities, we also included research samples or low-volume products for use, based on the real situation of the technology in this market.
LPI (LP Information)’ newest research report, the “EUV Mask Blanks Industry Forecast” looks at past sales and reviews total world EUV Mask Blanks sales in 2024, providing a comprehensive analysis by region and market sector of projected EUV Mask Blanks sales for 2025 through 2031. With EUV Mask Blanks sales broken down by region, market sector and sub-sector, this report provides a detailed analysis in US$ millions of the world EUV Mask Blanks industry.
This Insight Report provides a comprehensive analysis of the global EUV Mask Blanks landscape and highlights key trends related to product segmentation, company formation, revenue, and market share, latest development, and M&A activity. This report also analyzes the strategies of leading global companies with a focus on EUV Mask Blanks portfolios and capabilities, market entry strategies, market positions, and geographic footprints, to better understand these firms’ unique position in an accelerating global EUV Mask Blanks market.
This Insight Report evaluates the key market trends, drivers, and affecting factors shaping the global outlook for EUV Mask Blanks and breaks down the forecast by type, by application, geography, and market size to highlight emerging pockets of opportunity. With a transparent methodology based on hundreds of bottom-up qualitative and quantitative market inputs, this study forecast offers a highly nuanced view of the current state and future trajectory in the global EUV Mask Blanks.
The global EUV Mask Blanks market size is projected to grow from US$ 156.6 million in 2024 to US$ 535.2 million in 2031; it is expected to grow at a CAGR of 535.2 from 2025 to 2031.
Global EUV mask blanks key players include AGC Inc, Hoya, S&S Tech, etc. Global top 2 players hold a share about 90%. The EUV mask blanks are mainly produced in North America and Japan, these regions are dominating the global market, hold a market share about 70 percent.In terms of application, the largest application is semiconductor, followed by IC (integrated circuit).
This report presents a comprehensive overview, market shares, and growth opportunities of EUV Mask Blanks market by product type, application, key manufacturers and key regions and countries.
[Market Segmentation]
Segmentation by type
Quartz Mask
Soda Mask
Segmentation by application
LCD
IC
Semiconductor
This report also splits the market by region:
Americas
United States
Canada
Mexico
Brazil
APAC
China
Japan
Korea
Southeast Asia
India
Australia
Europe
Germany
France
UK
Italy
Russia
Middle East & Africa
Egypt
South Africa
Israel
Turkey
GCC Countries
The below companies that are profiled have been selected based on inputs gathered from primary experts and analyzing the company’s coverage, product portfolio, its market penetration.
AGC Inc
DNP
Toppan
Photronics Inc
Shin-Etsu
Applied Materials
Mitsui Chemicals
TSMC
Hubei Feilihua Quartz
Shenzhen Qingyi Photomask
LG-IT
[Key Questions Addressed in this Report]
What is the 10-year outlook for the global EUV Mask Blanks market?
What factors are driving EUV Mask Blanks market growth, globally and by region?
Which technologies are poised for the fastest growth by market and region?
How do EUV Mask Blanks market opportunities vary by end market size?
How does EUV Mask Blanks break out type, application?
What are the influences of trade war and Russia-Ukraine war?
1 Scope of the Report |
| ※참고 정보 극자외선(EUV) 마스크 블랭크는 반도체 제조 공정에서 극도로 미세한 회로 패턴을 웨이퍼에 전사하기 위한 핵심 소재입니다. 이는 일반적인 포토마스크와는 달리, 극자외선이라는 특수한 파장의 빛을 사용하기 때문에 그 구조와 재료에 있어서 상당한 차이를 보입니다. 극자외선은 현재 반도체 미세화 기술의 한계에 도전하는 데 필수적인 기술로, 이에 따라 EUV 마스크 블랭크의 중요성 역시 나날이 커지고 있습니다. EUV 마스크 블랭크의 기본적인 개념은 빛을 반사하거나 흡수하는 방식으로 패턴을 구현하는 반사형 마스크라는 점입니다. 일반적인 포토마스크가 빛을 통과시키는 투과형 방식인 것과는 근본적으로 다릅니다. 이러한 반사형 방식은 빛이 매질을 통과하면서 발생하는 왜곡이나 손실을 줄여주어 더 정밀한 패턴 전사를 가능하게 합니다. EUV 마스크 블랭크는 크게 세 가지 주요 부분으로 구성됩니다. 첫 번째는 빛을 반사하는 기판인 '반사층(Reflective Layer)'입니다. 이는 일반적으로 몰리브덴(Mo)과 실리콘(Si)의 다층 박막으로 이루어져 있으며, 이러한 주기적인 박막 구조는 극자외선 영역에서 높은 반사율을 나타내도록 설계됩니다. 반사율은 마스크의 성능에 직접적인 영향을 미치므로, 수백 개의 Mo/Si 박막을 매우 정밀하게 증착하는 기술이 요구됩니다. 두 번째 구성 요소는 반사층 위에 패턴을 형성하기 위한 흡수체 패턴(Absorber Pattern)입니다. 이 흡수체는 극자외선 빛을 효과적으로 흡수하여 마스크의 '어두운' 영역을 형성합니다. 일반적으로텅스텐(W)이나 그 화합물이 흡수체로 사용되며, 이 역시 매우 얇은 두께로 정밀하게 증착되어야 합니다. 흡수체의 두께, 재질, 형상 등이 패턴 해상도와 콘트라스트에 큰 영향을 미치므로, 최적의 재료 선택과 공정 제어가 중요합니다. 세 번째는 패턴이 없는 마스크 블랭크의 기본 기판, 즉 '투명 기판(Substrate)'입니다. 과거에는 석영(Quartz)과 같은 재료가 사용되기도 했으나, EUV 광원과의 상호작용 및 후속 공정을 고려하여 현재는 EUV 광원이 투과되지 않는 불투명한 재료, 예를 들어 '유리 기판(Glass Substrate)' 또는 '석영 기판' 위에 반사층이 형성되는 구조가 일반적입니다. 이 기판은 마스크 전체의 평탄도를 유지하고, 물리적인 강도를 제공하는 역할을 합니다. EUV 마스크 블랭크의 가장 큰 특징은 극자외선이라는 특정 파장 대역(13.5nm)에 최적화되어 있다는 점입니다. 이 파장의 빛은 공기 중에서 쉽게 흡수되기 때문에, EUV 마스크 시스템은 진공 환경에서 작동해야 하며 마스크 블랭크 역시 이러한 환경에 적합하도록 설계되어야 합니다. 또한, 극자외선은 에너지 준위가 매우 높아 마스크 소재에 손상을 줄 수 있으므로, 마스크 블랭크는 높은 내구성과 안정성을 갖추어야 합니다. 특히 반사층과 흡수체 재료의 손상 임계값(Damage Threshold)이 중요한 고려 사항입니다. EUV 마스크 블랭크는 그 목적에 따라 다양한 종류로 구분될 수 있습니다. 가장 기본적인 분류는 '패턴화되지 않은 마스크 블랭크(Unpatterned Mask Blank)'와 '패턴화된 마스크 블랭크(Patterned Mask Blank)'입니다. 패턴화되지 않은 마스크 블랭크는 완성된 마스크의 초기 상태로, 반사층과 보호막 등이 증착된 상태이며, 여기에 레이저나 전자빔 등을 이용하여 패턴을 형성하게 됩니다. 패턴화된 마스크 블랭크는 이미 원하는 회로 패턴이 형성된 상태의 마스크를 의미합니다. 또한, EUV 마스크는 기능적인 측면에서 '블랙 매트릭스(Black Matrix)'가 적용된 마스크와 '아이솔레이터(Isolator)'가 적용된 마스크 등으로 나눌 수 있습니다. 블랙 매트릭스는 인접한 패턴 사이의 빛 번짐을 줄여 해상도를 높이는 역할을 하며, 아이솔레이터는 패턴의 전기적 간섭을 방지하는 역할을 합니다. 이러한 기능성 향상을 위한 추가적인 재료와 구조가 마스크 블랭크에 적용될 수 있습니다. EUV 마스크 블랭크의 주요 용도는 첨단 반도체 소자의 포토 리소그래피 공정입니다. 특히 7nm 이하의 미세 공정에서 요구되는 극히 미세한 회로 패턴을 구현하기 위해 필수적으로 사용됩니다. 스마트폰, 고성능 컴퓨터, AI 관련 칩 등 최첨단 반도체 제품 생산에 직접적으로 활용됩니다. EUV 마스크 블랭크와 관련된 기술은 매우 광범위합니다. 먼저, 마스크 블랭크 자체를 제작하는 핵심 기술로는 **박막 증착 기술(Thin Film Deposition Technology)**이 있습니다. 특히 몰리브덴과 실리콘의 수백 층을 원자 수준의 정밀도로 균일하게 증착하는 고도의 기술이 요구됩니다. 이는 물리 증착(PVD) 방식인 스퍼터링(Sputtering) 등이 주로 사용되며, 박막의 두께, 조성이 균일하고 표면 거칠기가 매우 낮은 상태로 제작하는 것이 중요합니다. 패턴을 형성하는 **전자빔 리소그래피(Electron Beam Lithography)** 기술도 필수적입니다. EUV 광원은 일반적으로 패턴 전사에 사용되지만, 마스크 자체의 미세 패턴을 형성하는 데는 전자빔이 사용됩니다. 매우 높은 해상도로 복잡한 패턴을 그릴 수 있는 전자빔 시스템이 필요하며, 이 과정에서 발생하는 '산란' 현상을 제어하는 기술 또한 중요합니다. 마스크의 결함을 검출하고 수정하는 **마스크 검사 및 수리 기술(Mask Inspection and Repair Technology)** 또한 매우 중요합니다. 극히 미세한 결함 하나가 전체 웨이퍼 수율에 치명적인 영향을 미칠 수 있기 때문에, 고감도 검사 장비와 정밀한 수리 기술이 요구됩니다. 예를 들어, 원자 단위의 결함까지 감지하고 레이저 등을 이용하여 수정하는 기술이 개발되고 있습니다. 마지막으로, EUV 마스크 블랭크는 극자외선 노출 시 발생하는 **광학적 특성 제어 기술** 또한 중요합니다. 이는 마스크의 반사율, 흡수율, 위상 변화 등을 정밀하게 제어하여 패턴 전사 과정에서 발생하는 광학적 왜곡을 최소화하는 기술을 포함합니다. 이러한 기술들은 궁극적으로 반도체 회로의 성능과 수율을 결정짓는 중요한 요소가 됩니다. 결론적으로 EUV 마스크 블랭크는 반도체 미세화의 최전선에 서 있는 핵심 소재로서, 첨단 공정 기술의 집약체라고 할 수 있습니다. 극자외선이라는 특수한 환경과 요구사항에 맞춰 설계된 독창적인 구조와 재료, 그리고 이를 구현하기 위한 첨단 기술들은 앞으로도 지속적인 발전을 거듭하며 차세대 반도체 산업을 이끌어갈 것입니다. |
| ※본 조사보고서 [세계의 EUV 마스크 블랭크 시장예측 2025년-2031년] (코드 : LPK23JL1280) 판매에 관한 면책사항을 반드시 확인하세요. |
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