| ■ 영문 제목 : Global Light Sources for Lithography Market 2024 by Manufacturers, Regions, Type and Application, Forecast to 2030 | |
 | ■ 상품코드 : GIR2409H6238 ■ 조사/발행회사 : Globalinforesearch ■ 발행일 : 2024년 9월 ■ 페이지수 : 약100 ■ 작성언어 : 영어 ■ 보고서 형태 : PDF ■ 납품 방식 : E메일 (주문후 2-3일 소요) ■ 조사대상 지역 : 글로벌 ■ 산업 분야 : 전자&반도체 |
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조사회사 Global Info Research의 최신 조사에 따르면, 세계의 리소그래피용 광원 시장 규모는 2023년에 XXX백만 달러로 분석되었으며, 검토 기간 동안 xx%의 CAGR로 2030년까지 XXX백만 달러의 재조정된 규모로 성장이 예측됩니다.
Global Info Research 보고서에는 리소그래피용 광원 산업 체인 동향 개요, 종합 반도체 업체 (IDM), 파운드리, 기타 응용분야 및 선진 및 개발 도상국의 주요 기업의 시장 현황, 리소그래피용 광원의 최첨단 기술, 특허, 최신 용도 및 시장 동향을 분석했습니다.
지역별로는 주요 지역의 리소그래피용 광원 시장을 분석합니다. 북미와 유럽은 정부 이니셔티브와 수요자 인식 제고에 힘입어 꾸준한 성장세를 보이고 있습니다. 아시아 태평양, 특히 중국은 탄탄한 내수 수요와 지원 정책, 강력한 제조 기반을 바탕으로 글로벌 리소그래피용 광원 시장을 주도하고 있습니다.
[주요 특징]
본 보고서는 리소그래피용 광원 시장에 대한 포괄적인 이해를 제공합니다. 본 보고서는 산업에 대한 전체적인 관점과 개별 구성 요소 및 이해 관계자에 대한 자세한 통찰력을 제공합니다. 본 보고서는 리소그래피용 광원 산업 내의 시장 역학, 동향, 과제 및 기회를 분석합니다. 또한, 거시적 관점에서 시장을 분석하는 것이 포함됩니다.
시장 규모 및 세분화: 본 보고서는 판매량, 매출 및 종류별 (예 : DUV 광원 (ArF, KrF, i선), EUV 광원)의 시장 점유율을 포함한 전체 시장 규모에 대한 데이터를 수집합니다.
산업 분석: 보고서는 정부 정책 및 규제, 기술 발전, 수요자 선호도, 시장 역학 등 광범위한 산업 동향을 분석합니다. 이 분석은 리소그래피용 광원 시장에 영향을 미치는 주요 동인과 과제를 이해하는데 도움이 됩니다.
지역 분석: 본 보고서에는 지역 또는 국가 단위로 리소그래피용 광원 시장을 조사하는 것이 포함됩니다. 보고서는 정부 인센티브, 인프라 개발, 경제 상황 및 수요자 행동과 같은 지역 요인을 분석하여 다양한 시장 내의 변화와 기회를 식별합니다.
시장 전망: 보고서는 수집된 데이터와 분석을 통해 리소그래피용 광원 시장에 대한 미래 전망 및 예측을 다룹니다. 여기에는 시장 성장률 추정, 시장 수요 예측, 새로운 트렌드 파악 등이 포함될 수 있습니다. 본 보고서에는 리소그래피용 광원에 대한 보다 세분화된 접근 방식도 포함됩니다.
기업 분석: 본 보고서는 리소그래피용 광원 제조업체, 공급업체 및 기타 관련 업계 플레이어를 다룹니다. 이 분석에는 재무 성과, 시장 포지셔닝, 제품 포트폴리오, 파트너십 및 전략에 대한 조사가 포함됩니다.
수요자 분석: 보고서는 리소그래피용 광원에 대한 수요자 행동, 선호도 및 태도에 대한 데이터를 다룹니다. 여기에는 설문 조사, 인터뷰 및 응용 분야별 (종합 반도체 업체 (IDM), 파운드리, 기타)의 다양한 수요자 리뷰 및 피드백 분석이 포함될 수 있습니다.
기술 분석: 리소그래피용 광원과 관련된 특정 기술을 다루는 보고서입니다. 리소그래피용 광원 분야의 현재 상황 및 잠재적 미래 발전 가능성을 평가합니다.
경쟁 환경: 본 보고서는 개별 기업, 공급업체 및 수요업체를 분석하여 리소그래피용 광원 시장의 경쟁 환경에 대한 통찰력을 제공합니다. 이 분석은 시장 점유율, 경쟁 우위 및 업계 플레이어 간의 차별화 가능성을 이해하는 데 도움이 됩니다.
시장 검증: 본 보고서에는 설문 조사, 인터뷰 및 포커스 그룹과 같은 주요 조사를 통해 결과 및 예측을 검증하는 작업이 포함됩니다.
[시장 세분화]
리소그래피용 광원 시장은 종류 및 용도별로 나뉩니다. 2019-2030년 기간 동안 세그먼트 간의 시장규모에 대한 정확한 계산 및 예측을 볼륨 및 금액 측면에서 제공합니다.
종류별 시장 세그먼트
– DUV 광원 (ArF, KrF, i선), EUV 광원
용도별 시장 세그먼트
– 종합 반도체 업체 (IDM), 파운드리, 기타
주요 대상 기업
– Cymer(ASML)、Gigaphoton、Beijing RSLaser Opto-Electronics Technology、Optosystems、USHIO
지역 분석은 다음을 포함합니다.
– 북미 (미국, 캐나다, 멕시코)
– 유럽 (독일, 프랑스, 영국, 러시아, 이탈리아)
– 아시아 태평양 (중국, 일본, 한국, 인도, 동남아시아, 호주)
– 남미 (브라질, 아르헨티나, 콜롬비아)
– 중동 및 아프리카 (사우디아라비아, 아랍에미리트, 이집트, 남아프리카공화국)
본 조사 보고서는 아래 항목으로 구성되어 있습니다.
– 리소그래피용 광원 제품 범위, 시장 개요, 시장 추정, 주의 사항 및 기준 연도를 설명합니다.
– 2019년부터 2024년까지 리소그래피용 광원의 가격, 판매량, 매출 및 세계 시장 점유율과 함께 리소그래피용 광원의 주요 제조업체를 프로파일링합니다.
– 리소그래피용 광원 경쟁 상황, 판매량, 매출 및 주요 제조업체의 글로벌 시장 점유율이 상세하게 분석 됩니다.
– 리소그래피용 광원 상세 데이터는 2019년부터 2030년까지 지역별 판매량, 소비금액 및 성장성을 보여주기 위해 지역 레벨로 표시됩니다.
– 2019년부터 2030년까지 판매량 시장 점유율 및 성장률을 종류별, 용도별로 분류합니다.
– 2017년부터 2023년까지 세계 주요 국가의 판매량, 소비금액 및 시장 점유율과 함께 국가 레벨로 판매 데이터를 분류하고, 2025년부터 2030년까지 판매량 및 매출과 함께 지역, 종류 및 용도별로 리소그래피용 광원 시장 예측을 수행합니다.
– 시장 역학, 성장요인, 저해요인, 동향 및 포터의 다섯 가지 힘 분석.
– 주요 원자재 및 주요 공급 업체, 리소그래피용 광원의 산업 체인.
– 리소그래피용 광원 판매 채널, 유통 업체, 고객(수요기업), 조사 결과 및 결론을 설명합니다.
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■ 보고서 목차■ 시장 개요 ■ 제조업체 프로필 Cymer(ASML) Gigaphoton Beijing RSLaser Opto-Electronics Technology ■ 제조업체간 경쟁 환경 ■ 지역별 소비 분석 ■ 종류별 시장 세분화 ■ 용도별 시장 세분화 ■ 북미 ■ 유럽 ■ 아시아 태평양 ■ 남미 ■ 중동 및 아프리카 ■ 시장 역학 ■ 원자재 및 산업 체인 ■ 유통 채널별 출하량 ■ 조사 결과 [그림 목록]- 리소그래피용 광원 이미지 - 종류별 세계의 리소그래피용 광원 소비 금액 (2019 & 2023 & 2030) - 2023년 종류별 세계의 리소그래피용 광원 소비 금액 시장 점유율 - 용도별 세계의 리소그래피용 광원 소비 금액 (2019 & 2023 & 2030) - 2023년 용도별 세계의 리소그래피용 광원 소비 금액 시장 점유율 - 세계의 리소그래피용 광원 소비 금액 (2019 & 2023 & 2030) - 세계의 리소그래피용 광원 소비 금액 및 예측 (2019-2030) - 세계의 리소그래피용 광원 판매량 (2019-2030) - 세계의 리소그래피용 광원 평균 가격 (2019-2030) - 2023년 제조업체별 세계의 리소그래피용 광원 판매량 시장 점유율 - 2023년 제조업체별 세계의 리소그래피용 광원 소비 금액 시장 점유율 - 2023년 상위 3개 리소그래피용 광원 제조업체(소비 금액) 시장 점유율 - 2023년 상위 6개 리소그래피용 광원 제조업체(소비 금액) 시장 점유율 - 지역별 리소그래피용 광원 판매량 시장 점유율 - 지역별 리소그래피용 광원 소비 금액 시장 점유율 - 북미 리소그래피용 광원 소비 금액 - 유럽 리소그래피용 광원 소비 금액 - 아시아 태평양 리소그래피용 광원 소비 금액 - 남미 리소그래피용 광원 소비 금액 - 중동 및 아프리카 리소그래피용 광원 소비 금액 - 세계의 종류별 리소그래피용 광원 판매량 시장 점유율 - 세계의 종류별 리소그래피용 광원 소비 금액 시장 점유율 - 세계의 종류별 리소그래피용 광원 평균 가격 - 세계의 용도별 리소그래피용 광원 판매량 시장 점유율 - 세계의 용도별 리소그래피용 광원 소비 금액 시장 점유율 - 세계의 용도별 리소그래피용 광원 평균 가격 - 북미 리소그래피용 광원 종류별 판매량 시장 점유율 - 북미 리소그래피용 광원 용도별 판매 수량 시장 점유율 - 북미 리소그래피용 광원 국가별 판매 수량 시장 점유율 - 북미 리소그래피용 광원 국가별 소비 금액 시장 점유율 - 미국 리소그래피용 광원 소비 금액 및 성장률 - 캐나다 리소그래피용 광원 소비 금액 및 성장률 - 멕시코 리소그래피용 광원 소비 금액 및 성장률 - 유럽 리소그래피용 광원 종류별 판매량 시장 점유율 - 유럽 리소그래피용 광원 용도별 판매량 시장 점유율 - 유럽 리소그래피용 광원 국가별 판매량 시장 점유율 - 유럽 리소그래피용 광원 국가별 소비 금액 시장 점유율 - 독일 리소그래피용 광원 소비 금액 및 성장률 - 프랑스 리소그래피용 광원 소비 금액 및 성장률 - 영국 리소그래피용 광원 소비 금액 및 성장률 - 러시아 리소그래피용 광원 소비 금액 및 성장률 - 이탈리아 리소그래피용 광원 소비 금액 및 성장률 - 아시아 태평양 리소그래피용 광원 종류별 판매량 시장 점유율 - 아시아 태평양 리소그래피용 광원 용도별 판매량 시장 점유율 - 아시아 태평양 리소그래피용 광원 지역별 판매 수량 시장 점유율 - 아시아 태평양 리소그래피용 광원 지역별 소비 금액 시장 점유율 - 중국 리소그래피용 광원 소비 금액 및 성장률 - 일본 리소그래피용 광원 소비 금액 및 성장률 - 한국 리소그래피용 광원 소비 금액 및 성장률 - 인도 리소그래피용 광원 소비 금액 및 성장률 - 동남아시아 리소그래피용 광원 소비 금액 및 성장률 - 호주 리소그래피용 광원 소비 금액 및 성장률 - 남미 리소그래피용 광원 종류별 판매량 시장 점유율 - 남미 리소그래피용 광원 용도별 판매량 시장 점유율 - 남미 리소그래피용 광원 국가별 판매 수량 시장 점유율 - 남미 리소그래피용 광원 국가별 소비 금액 시장 점유율 - 브라질 리소그래피용 광원 소비 금액 및 성장률 - 아르헨티나 리소그래피용 광원 소비 금액 및 성장률 - 중동 및 아프리카 리소그래피용 광원 종류별 판매량 시장 점유율 - 중동 및 아프리카 리소그래피용 광원 용도별 판매량 시장 점유율 - 중동 및 아프리카 리소그래피용 광원 지역별 판매량 시장 점유율 - 중동 및 아프리카 리소그래피용 광원 지역별 소비 금액 시장 점유율 - 터키 리소그래피용 광원 소비 금액 및 성장률 - 이집트 리소그래피용 광원 소비 금액 및 성장률 - 사우디 아라비아 리소그래피용 광원 소비 금액 및 성장률 - 남아프리카 공화국 리소그래피용 광원 소비 금액 및 성장률 - 리소그래피용 광원 시장 성장 요인 - 리소그래피용 광원 시장 제약 요인 - 리소그래피용 광원 시장 동향 - 포터의 다섯 가지 힘 분석 - 2023년 리소그래피용 광원의 제조 비용 구조 분석 - 리소그래피용 광원의 제조 공정 분석 - 리소그래피용 광원 산업 체인 - 직접 채널 장단점 - 간접 채널 장단점 - 방법론 - 조사 프로세스 및 데이터 소스 ※납품 보고서의 구성항목 및 내용은 본 페이지에 기재된 내용과 다를 수 있습니다. 보고서 주문 전에 당사에 보고서 샘플을 요청해서 구성항목 및 기재 내용을 반드시 확인하시길 바랍니다. 보고서 샘플에 없는 내용은 납품 드리는 보고서에도 포함되지 않습니다. |
| ※참고 정보 ## 리소그래피용 광원: 미세 패턴 구현의 핵심 리소그래피는 반도체 제조 공정에서 회로 패턴을 웨이퍼 위에 전사하는 핵심 기술입니다. 이 과정에서 사용되는 광원은 패턴의 정밀도와 집적도를 결정하는 가장 중요한 요소 중 하나이며, 시대의 흐름에 따라 끊임없이 발전해 왔습니다. 리소그래피용 광원은 특정 파장의 빛을 이용하여 감광제(photoresist)가 도포된 웨이퍼에 마스크에 그려진 패턴 정보를 전달하는 역할을 수행합니다. 이 빛은 감광제의 특정 부분을 화학적으로 변화시켜, 이후 현상 공정에서 선택적으로 제거되거나 남게 함으로써 미세한 회로 패턴을 형성하게 됩니다. 리소그래피용 광원의 성능을 평가하는 중요한 지표로는 **파장(wavelength)**, **조사량(irradiance)**, **균일도(uniformity)**, **간섭성(coherence)** 등이 있습니다. 파장이 짧을수록 더 미세한 패턴을 구현할 수 있기 때문에, 반도체 기술의 발전은 더욱 짧은 파장의 광원을 개발하는 방향으로 나아가고 있습니다. 조사량은 감광제를 효과적으로 감광시키기 위한 빛의 세기를 의미하며, 충분한 조사량이 확보되지 않으면 원하는 패턴이 제대로 형성되지 않을 수 있습니다. 균일도는 웨이퍼 전체에 걸쳐 빛의 세기가 일정하게 유지되는 정도를 나타내며, 이는 웨이퍼 전반에 걸쳐 동일한 품질의 패턴을 구현하는 데 필수적입니다. 간섭성은 빛의 파동으로서의 성질을 의미하며, 특정 간섭성 조건을 만족하는 광원은 회절 효과를 제어하여 패턴의 해상도를 향상시키는 데 도움을 줍니다. 리소그래피용 광원은 초기에는 가시광선을 사용했지만, 반도체 집적도가 증가함에 따라 점차 단파장 광원으로 발전해 왔습니다. 이러한 발전 과정에서 사용된 대표적인 광원들을 살펴보면 다음과 같습니다. 첫째, **수은 램프(Mercury Lamp)**는 초기 리소그래피 공정에서 널리 사용되었습니다. 수은 램프는 다양한 파장의 빛을 방출하는데, 이 중 특정 파장 대역(예: g-line, i-line)을 필터링하여 사용했습니다. g-line(436 nm), h-line(405 nm), i-line(365 nm)과 같은 특정 파장들은 당시의 감광제와 함께 비교적 미세한 패턴을 구현하는 데 사용되었으나, 현대 반도체 제조 공정에서는 그 한계가 명확해졌습니다. 수은 램프는 비교적 저렴하고 다루기 쉽다는 장점이 있었지만, 파장이 상대적으로 길어 해상도가 제한적이었으며, 광원의 수명이나 안정성 측면에서도 단점을 가지고 있었습니다. 둘째, **Excimer Laser (여기계단 광원)**의 등장은 리소그래피 기술에 혁신적인 변화를 가져왔습니다. 특히 **KrF (Krypton Fluoride) 248 nm 레이저**와 **ArF (Argon Fluoride) 193 nm 레이저**는 수십 년간 반도체 미세 공정의 핵심 광원으로 자리매김했습니다. KrF 레이저는 248 nm의 파장을 가지며, 당시 구현 가능했던 최고 해상도를 크게 향상시켰습니다. 이후 ArF 레이저는 193 nm라는 더욱 짧은 파장을 사용하여 더욱 미세한 패턴 형성을 가능하게 했습니다. ArF 레이저는 단순한 공기 방전(dry lithography)으로도 100 nm 이하의 패턴 구현이 가능했으며, 더욱 발전된 **액침 리소그래피(Immersion Lithography)** 기술과 결합하여 50 nm 이하의 초미세 패턴 구현을 가능하게 하는 데 결정적인 역할을 했습니다. 액침 리소그래피는 렌즈와 웨이퍼 사이에 순수한 물과 같은 매질을 채워 광원의 유효 파장을 줄이는 기술로, 동일한 광원을 사용하더라도 해상도를 크게 향상시키는 효과를 가져옵니다. ArF 액침 리소그래피는 현재까지도 주요 반도체 공정에서 널리 사용되는 핵심 기술입니다. 셋째, **EUV (Extreme Ultraviolet) 리소그래피**는 차세대 리소그래피 기술의 정점으로, 13.5 nm라는 극히 짧은 파장의 빛을 사용합니다. EUV 리소그래피는 기존의 엑시머 레이저로는 달성할 수 없었던 수 나노미터(nm) 수준의 초미세 패턴 구현을 가능하게 하여, 차세대 반도체 기술의 발전을 견인하고 있습니다. EUV 광원으로는 주로 **고체 표적에 레이저 플라즈마 발생(Laser-Produced Plasma, LPP)** 방식이 사용됩니다. 이 방식은 고출력 레이저를 이용하여 액체 주석 방울을 초고온 플라즈마 상태로 만들고, 이 플라즈마에서 방출되는 13.5 nm의 EUV 빛을 집광하여 웨이퍼에 조사하는 방식입니다. LPP 방식은 높은 휘도와 짧은 파장을 안정적으로 얻을 수 있다는 장점이 있지만, 높은 에너지 효율과 시스템 복잡성 등 해결해야 할 기술적인 과제도 많습니다. EUV 리소그래피는 광원 자체의 개발뿐만 아니라, 빛의 투과율이 낮은 EUV 파장 대역에 적합한 **반사형 마스크(reflective mask)** 및 **고반사 코팅 기술**, 그리고 EUV 빛을 효율적으로 집광하는 **다층막 거울(multilayer mirror)** 기술 등이 필수적으로 요구되는 첨단 기술입니다. 이 외에도 미래 리소그래피 기술을 위한 다양한 광원 연구가 진행되고 있습니다. 예를 들어, **FEL (Free-Electron Laser)**과 같은 새로운 광원 기술은 특정 파장 대역에서 매우 높은 휘도와 간섭성을 제공할 수 있어 차세대 리소그래피 기술의 가능성을 열어줄 것으로 기대됩니다. 또한, 파장을 줄이기 위한 노력과 더불어 **다중 패터닝(multi-patterning)**과 같은 공정 기술과 광원의 효율적인 활용을 극대화하는 기술들이 함께 발전하고 있습니다. 리소그래피용 광원의 선택과 성능은 단순히 패턴을 형성하는 것을 넘어, 반도체 칩의 성능, 소비 전력, 그리고 제조 단가에까지 직접적인 영향을 미칩니다. 더욱 미세하고 복잡한 회로를 구현하기 위한 반도체 산업의 끊임없는 발전 속에서, 리소그래피용 광원 기술은 앞으로도 지속적인 혁신과 발전을 거듭할 것입니다. 이는 곧 우리 삶의 기술적 진보를 뒷받침하는 중요한 동력이 될 것입니다. |
| ※본 조사보고서 [세계의 리소그래피용 광원 시장 2024 : 기업, 종류, 용도, 시장예측] (코드 : GIR2409H6238) 판매에 관한 면책사항을 반드시 확인하세요. |
| ※본 조사보고서 [세계의 리소그래피용 광원 시장 2024 : 기업, 종류, 용도, 시장예측] 에 대해서 E메일 문의는 여기를 클릭하세요. |
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