| ■ 영문 제목 : Global Chromium Sputtering Target Market 2024 by Manufacturers, Regions, Type and Application, Forecast to 2030 | |
 | ■ 상품코드 : GIR2407E10390 ■ 조사/발행회사 : Globalinforesearch ■ 발행일 : 2024년 4월 ■ 페이지수 : 약100 ■ 작성언어 : 영어 ■ 보고서 형태 : PDF ■ 납품 방식 : E메일 (주문후 2-3일 소요) ■ 조사대상 지역 : 글로벌 ■ 산업 분야 : 부품/재료 |
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조사회사 Global Info Research의 최신 조사에 따르면, 세계의 크로뮴 스퍼터링 타겟 시장 규모는 2023년에 XXX백만 달러로 분석되었으며, 검토 기간 동안 xx%의 CAGR로 2030년까지 XXX백만 달러의 재조정된 규모로 성장이 예측됩니다.
Global Info Research 보고서에는 크로뮴 스퍼터링 타겟 산업 체인 동향 개요, 박막 증착, 식각 및 분석 기술, 마그네트론 스퍼터링 소스, 기타 응용분야 및 선진 및 개발 도상국의 주요 기업의 시장 현황, 크로뮴 스퍼터링 타겟의 최첨단 기술, 특허, 최신 용도 및 시장 동향을 분석했습니다.
지역별로는 주요 지역의 크로뮴 스퍼터링 타겟 시장을 분석합니다. 북미와 유럽은 정부 이니셔티브와 수요자 인식 제고에 힘입어 꾸준한 성장세를 보이고 있습니다. 아시아 태평양, 특히 중국은 탄탄한 내수 수요와 지원 정책, 강력한 제조 기반을 바탕으로 글로벌 크로뮴 스퍼터링 타겟 시장을 주도하고 있습니다.
[주요 특징]
본 보고서는 크로뮴 스퍼터링 타겟 시장에 대한 포괄적인 이해를 제공합니다. 본 보고서는 산업에 대한 전체적인 관점과 개별 구성 요소 및 이해 관계자에 대한 자세한 통찰력을 제공합니다. 본 보고서는 크로뮴 스퍼터링 타겟 산업 내의 시장 역학, 동향, 과제 및 기회를 분석합니다. 또한, 거시적 관점에서 시장을 분석하는 것이 포함됩니다.
시장 규모 및 세분화: 본 보고서는 판매량, 매출 및 종류별 (예 : 순도 99%, 순도 99.5%, 순도 99.9%, 순도 99.95%, 순도 99.99%, 순도 99.999%)의 시장 점유율을 포함한 전체 시장 규모에 대한 데이터를 수집합니다.
산업 분석: 보고서는 정부 정책 및 규제, 기술 발전, 수요자 선호도, 시장 역학 등 광범위한 산업 동향을 분석합니다. 이 분석은 크로뮴 스퍼터링 타겟 시장에 영향을 미치는 주요 동인과 과제를 이해하는데 도움이 됩니다.
지역 분석: 본 보고서에는 지역 또는 국가 단위로 크로뮴 스퍼터링 타겟 시장을 조사하는 것이 포함됩니다. 보고서는 정부 인센티브, 인프라 개발, 경제 상황 및 수요자 행동과 같은 지역 요인을 분석하여 다양한 시장 내의 변화와 기회를 식별합니다.
시장 전망: 보고서는 수집된 데이터와 분석을 통해 크로뮴 스퍼터링 타겟 시장에 대한 미래 전망 및 예측을 다룹니다. 여기에는 시장 성장률 추정, 시장 수요 예측, 새로운 트렌드 파악 등이 포함될 수 있습니다. 본 보고서에는 크로뮴 스퍼터링 타겟에 대한 보다 세분화된 접근 방식도 포함됩니다.
기업 분석: 본 보고서는 크로뮴 스퍼터링 타겟 제조업체, 공급업체 및 기타 관련 업계 플레이어를 다룹니다. 이 분석에는 재무 성과, 시장 포지셔닝, 제품 포트폴리오, 파트너십 및 전략에 대한 조사가 포함됩니다.
수요자 분석: 보고서는 크로뮴 스퍼터링 타겟에 대한 수요자 행동, 선호도 및 태도에 대한 데이터를 다룹니다. 여기에는 설문 조사, 인터뷰 및 응용 분야별 (박막 증착, 식각 및 분석 기술, 마그네트론 스퍼터링 소스, 기타)의 다양한 수요자 리뷰 및 피드백 분석이 포함될 수 있습니다.
기술 분석: 크로뮴 스퍼터링 타겟과 관련된 특정 기술을 다루는 보고서입니다. 크로뮴 스퍼터링 타겟 분야의 현재 상황 및 잠재적 미래 발전 가능성을 평가합니다.
경쟁 환경: 본 보고서는 개별 기업, 공급업체 및 수요업체를 분석하여 크로뮴 스퍼터링 타겟 시장의 경쟁 환경에 대한 통찰력을 제공합니다. 이 분석은 시장 점유율, 경쟁 우위 및 업계 플레이어 간의 차별화 가능성을 이해하는 데 도움이 됩니다.
시장 검증: 본 보고서에는 설문 조사, 인터뷰 및 포커스 그룹과 같은 주요 조사를 통해 결과 및 예측을 검증하는 작업이 포함됩니다.
[시장 세분화]
크로뮴 스퍼터링 타겟 시장은 종류 및 용도별로 나뉩니다. 2019-2030년 기간 동안 세그먼트 간의 시장규모에 대한 정확한 계산 및 예측을 볼륨 및 금액 측면에서 제공합니다.
종류별 시장 세그먼트
– 순도 99%, 순도 99.5%, 순도 99.9%, 순도 99.95%, 순도 99.99%, 순도 99.999%
용도별 시장 세그먼트
– 박막 증착, 식각 및 분석 기술, 마그네트론 스퍼터링 소스, 기타
주요 대상 기업
– American Elements, MSE Supplies, Kurt J. Lesker, NANOSHEL, Goodfellow, Alfa Aesar, Stanford Advanced Materials, Special Metals Fabrication, ALB Materials Inc, Plasmaterials, Inc, International Advanced Materials, Advanced Engineering Materials, EVOCHEM Advanced Materials, Otto Chemie Pvt Ltd, Changsha Xinkang Advanced Materials Corporation
지역 분석은 다음을 포함합니다.
– 북미 (미국, 캐나다, 멕시코)
– 유럽 (독일, 프랑스, 영국, 러시아, 이탈리아)
– 아시아 태평양 (중국, 일본, 한국, 인도, 동남아시아, 호주)
– 남미 (브라질, 아르헨티나, 콜롬비아)
– 중동 및 아프리카 (사우디아라비아, 아랍에미리트, 이집트, 남아프리카공화국)
본 조사 보고서는 아래 항목으로 구성되어 있습니다.
– 크로뮴 스퍼터링 타겟 제품 범위, 시장 개요, 시장 추정, 주의 사항 및 기준 연도를 설명합니다.
– 2019년부터 2024년까지 크로뮴 스퍼터링 타겟의 가격, 판매량, 매출 및 세계 시장 점유율과 함께 크로뮴 스퍼터링 타겟의 주요 제조업체를 프로파일링합니다.
– 크로뮴 스퍼터링 타겟 경쟁 상황, 판매량, 매출 및 주요 제조업체의 글로벌 시장 점유율이 상세하게 분석 됩니다.
– 크로뮴 스퍼터링 타겟 상세 데이터는 2019년부터 2030년까지 지역별 판매량, 소비금액 및 성장성을 보여주기 위해 지역 레벨로 표시됩니다.
– 2019년부터 2030년까지 판매량 시장 점유율 및 성장률을 종류별, 용도별로 분류합니다.
– 2017년부터 2023년까지 세계 주요 국가의 판매량, 소비금액 및 시장 점유율과 함께 국가 레벨로 판매 데이터를 분류하고, 2025년부터 2030년까지 판매량 및 매출과 함께 지역, 종류 및 용도별로 크로뮴 스퍼터링 타겟 시장 예측을 수행합니다.
– 시장 역학, 성장요인, 저해요인, 동향 및 포터의 다섯 가지 힘 분석.
– 주요 원자재 및 주요 공급 업체, 크로뮴 스퍼터링 타겟의 산업 체인.
– 크로뮴 스퍼터링 타겟 판매 채널, 유통 업체, 고객(수요기업), 조사 결과 및 결론을 설명합니다.
※납품 보고서의 구성항목 및 내용은 본 페이지에 기재된 내용과 다를 수 있습니다. 보고서 주문 전에 당사에 보고서 샘플을 요청해서 구성항목 및 기재 내용을 반드시 확인하시길 바랍니다. 보고서 샘플에 없는 내용은 납품 드리는 보고서에도 포함되지 않습니다.
■ 보고서 목차■ 시장 개요 ■ 제조업체 프로필 American Elements MSE Supplies Kurt J. Lesker ■ 제조업체간 경쟁 환경 ■ 지역별 소비 분석 ■ 종류별 시장 세분화 ■ 용도별 시장 세분화 ■ 북미 ■ 유럽 ■ 아시아 태평양 ■ 남미 ■ 중동 및 아프리카 ■ 시장 역학 ■ 원자재 및 산업 체인 ■ 유통 채널별 출하량 ■ 조사 결과 [그림 목록]- 크로뮴 스퍼터링 타겟 이미지 - 종류별 세계의 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 (2019 & 2023 & 2030) - 2023년 종류별 세계의 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 시장 점유율 - 용도별 세계의 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 (2019 & 2023 & 2030) - 2023년 용도별 세계의 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 시장 점유율 - 세계의 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 (2019 & 2023 & 2030) - 세계의 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 예측 (2019-2030) - 세계의 크로뮴 스퍼터링 타겟 판매량 (2019-2030) - 세계의 크로뮴 스퍼터링 타겟 평균 가격 (2019-2030) - 2023년 제조업체별 세계의 크로뮴 스퍼터링 타겟 판매량 시장 점유율 - 2023년 제조업체별 세계의 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 시장 점유율 - 2023년 상위 3개 크로뮴 스퍼터링 타겟 제조업체(소비 금액) 시장 점유율 - 2023년 상위 6개 크로뮴 스퍼터링 타겟 제조업체(소비 금액) 시장 점유율 - 지역별 크로뮴 스퍼터링 타겟 판매량 시장 점유율 - 지역별 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 시장 점유율 - 북미 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 - 유럽 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 - 아시아 태평양 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 - 남미 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 - 중동 및 아프리카 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 - 세계의 종류별 크로뮴 스퍼터링 타겟 판매량 시장 점유율 - 세계의 종류별 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 시장 점유율 - 세계의 종류별 크로뮴 스퍼터링 타겟 평균 가격 - 세계의 용도별 크로뮴 스퍼터링 타겟 판매량 시장 점유율 - 세계의 용도별 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 시장 점유율 - 세계의 용도별 크로뮴 스퍼터링 타겟 평균 가격 - 북미 크로뮴 스퍼터링 타겟 종류별 판매량 시장 점유율 - 북미 크로뮴 스퍼터링 타겟 용도별 판매 수량 시장 점유율 - 북미 크로뮴 스퍼터링 타겟 국가별 판매 수량 시장 점유율 - 북미 크로뮴 스퍼터링 타겟 국가별 소비 금액 시장 점유율 - 미국 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 성장률 - 캐나다 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 성장률 - 멕시코 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 성장률 - 유럽 크로뮴 스퍼터링 타겟 종류별 판매량 시장 점유율 - 유럽 크로뮴 스퍼터링 타겟 용도별 판매량 시장 점유율 - 유럽 크로뮴 스퍼터링 타겟 국가별 판매량 시장 점유율 - 유럽 크로뮴 스퍼터링 타겟 국가별 소비 금액 시장 점유율 - 독일 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 성장률 - 프랑스 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 성장률 - 영국 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 성장률 - 러시아 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 성장률 - 이탈리아 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 성장률 - 아시아 태평양 크로뮴 스퍼터링 타겟 종류별 판매량 시장 점유율 - 아시아 태평양 크로뮴 스퍼터링 타겟 용도별 판매량 시장 점유율 - 아시아 태평양 크로뮴 스퍼터링 타겟 지역별 판매 수량 시장 점유율 - 아시아 태평양 크로뮴 스퍼터링 타겟 지역별 소비 금액 시장 점유율 - 중국 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 성장률 - 일본 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 성장률 - 한국 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 성장률 - 인도 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 성장률 - 동남아시아 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 성장률 - 호주 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 성장률 - 남미 크로뮴 스퍼터링 타겟 종류별 판매량 시장 점유율 - 남미 크로뮴 스퍼터링 타겟 용도별 판매량 시장 점유율 - 남미 크로뮴 스퍼터링 타겟 국가별 판매 수량 시장 점유율 - 남미 크로뮴 스퍼터링 타겟 국가별 소비 금액 시장 점유율 - 브라질 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 성장률 - 아르헨티나 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 성장률 - 중동 및 아프리카 크로뮴 스퍼터링 타겟 종류별 판매량 시장 점유율 - 중동 및 아프리카 크로뮴 스퍼터링 타겟 용도별 판매량 시장 점유율 - 중동 및 아프리카 크로뮴 스퍼터링 타겟 지역별 판매량 시장 점유율 - 중동 및 아프리카 크로뮴 스퍼터링 타겟 지역별 소비 금액 시장 점유율 - 터키 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 성장률 - 이집트 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 성장률 - 사우디 아라비아 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 성장률 - 남아프리카 공화국 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 성장률 - 크로뮴 스퍼터링 타겟 시장 성장 요인 - 크로뮴 스퍼터링 타겟 시장 제약 요인 - 크로뮴 스퍼터링 타겟 시장 동향 - 포터의 다섯 가지 힘 분석 - 2023년 크로뮴 스퍼터링 타겟의 제조 비용 구조 분석 - 크로뮴 스퍼터링 타겟의 제조 공정 분석 - 크로뮴 스퍼터링 타겟 산업 체인 - 직접 채널 장단점 - 간접 채널 장단점 - 방법론 - 조사 프로세스 및 데이터 소스 ※납품 보고서의 구성항목 및 내용은 본 페이지에 기재된 내용과 다를 수 있습니다. 보고서 주문 전에 당사에 보고서 샘플을 요청해서 구성항목 및 기재 내용을 반드시 확인하시길 바랍니다. 보고서 샘플에 없는 내용은 납품 드리는 보고서에도 포함되지 않습니다. |
| ※참고 정보 크로뮴 스퍼터링 타겟은 물리 기상 증착(Physical Vapor Deposition, PVD) 공정의 핵심 소재 중 하나로, 특히 스퍼터링(Sputtering) 방식을 통해 박막을 형성하는 데 사용되는 크로뮴(Cr) 금속 또는 합금 소재의 원형 또는 직사각형 형태의 판을 의미합니다. 이 타겟은 고진공 환경에서 이온 충돌을 통해 크로뮴 원자를 기판 표면으로 증착시켜 원하는 두께와 특성을 가진 크로뮴 박막을 형성하는 역할을 합니다. 크로뮴 스퍼터링 타겟의 가장 두드러진 특징은 그 자체의 물리적, 화학적 특성이 우수하다는 점입니다. 크로뮴은 경도가 높고 내마모성이 뛰어나며, 우수한 내식성을 자랑합니다. 특히 공기 중 산소와 반응하여 매우 얇고 안정적인 산화 크로뮴(Cr$_2$O$_3$) 보호막을 형성하기 때문에 부식에 강한 특성을 나타냅니다. 또한, 크로뮴은 비교적 낮은 전기 저항 값을 가지면서도 열 전도성이 양호하여 다양한 전자 소자 및 코팅 분야에 활용될 수 있습니다. 융점이 높아 고온 환경에서도 안정성을 유지할 수 있다는 점 또한 장점입니다. 이러한 특성들은 크로뮴 박막이 표면 보호, 광학적 특성 부여, 전기적 특성 조절 등 다양한 기능성 코팅에 적용될 수 있도록 합니다. 크로뮴 스퍼터링 타겟은 그 조성에 따라 크게 순수 크로뮴 타겟과 크로뮴 합금 타겟으로 구분할 수 있습니다. 순수 크로뮴 타겟은 99.9% 이상의 고순도 크로뮴으로 이루어져 있으며, 이는 불순물로 인한 성능 저하를 최소화해야 하는 정밀 전자 소자나 광학 코팅에 주로 사용됩니다. 크로뮴 합금 타겟의 경우, 특정 성능을 향상시키거나 다른 기능을 추가하기 위해 다른 금속 원소가 첨가된 형태입니다. 예를 들어, 니켈(Ni)이 첨가된 크로뮴-니켈(Cr-Ni) 합금 타겟은 접착력이나 기계적 강도를 향상시키는 데 사용될 수 있으며, 산소나 질소가 첨가된 크로뮴 산화물(Cr$_2$O$_3$) 또는 크로뮴 질화물(CrN) 타겟은 세라믹 코팅을 얻거나 특정 전기적 특성을 조절하는 데 사용됩니다. 또한, 스퍼터링 방식에 따라 타겟의 형태나 크기, 심지어는 타겟을 고정하는 백플레인(Backing Plate)의 재질도 달라질 수 있습니다. 예를 들어, 회전하는 실린더 형태의 로터리 타겟(Rotary Target)은 넓은 면적을 균일하게 코팅하는 데 유리하며, 평평한 판 형태의 플랫 타겟(Flat Target)은 일반적인 스퍼터링 공정에 널리 사용됩니다. 크로뮴 스퍼터링 타겟의 활용 분야는 매우 광범위합니다. 가장 대표적인 용도는 반도체 산업에서의 금속 배선 및 계면층 형성입니다. 크로뮴은 실리콘과 같은 반도체 기판과의 접착력이 우수하고, 후속 증착될 금속 박막(예: 알루미늄, 구리)의 확산을 막는 확산 방지막(Diffusion Barrier) 역할을 합니다. 또한, 자기 기록 매체(HDD 헤드 등)의 기록층이나 보호층으로도 사용되며, 광학 필름의 반사 방지막이나 고반사막, 그리고 자동차 부품, 건축 자재, 장식용 코팅 등 다양한 산업 분야에서 내마모성, 내식성, 경도 향상을 위한 표면 강화 코팅으로 활용됩니다. 최근에는 전극 재료로서 슈퍼커패시터나 배터리 연구에도 크로뮴 기반 박막이 적용되는 사례가 늘고 있습니다. 크로뮴 스퍼터링 타겟과 관련된 주요 기술로는 타겟의 제조 기술, 스퍼터링 공정 제어 기술, 그리고 타겟의 성능 평가 기술 등이 있습니다. 타겟 제조 기술에는 분말 야금법(Powder Metallurgy), 용융 금속 주조법(Melting and Casting), 진공 유도 용융(Vacuum Induction Melting, VIM) 등 다양한 방법이 사용되며, 고순도 및 균일한 미세구조를 얻기 위한 정밀한 공정 제어가 중요합니다. 스퍼터링 공정 제어 기술은 자기장 강화 스퍼터링(Magnetron Sputtering), 반응성 스퍼터링(Reactive Sputtering), 고주파(RF) 스퍼터링, 직류(DC) 스퍼터링 등 다양한 스퍼터링 방법을 활용하여 박막의 증착 속도, 밀도, 조성, 표면 거칠기, 결정 구조 등을 정밀하게 조절하는 기술을 포함합니다. 또한, 타겟의 표면 상태, 불순물 함량, 밀도, 기계적 강도 등을 평가하는 기술도 타겟의 품질을 보증하고 최적의 박막 성능을 확보하는 데 필수적입니다. 최근에는 고에너지 이온빔을 사용하는 이온빔 보조 증착(Ion Beam Assisted Deposition, IBAD)이나 양극 이온화 증착(Unbalanced Magnetron Sputtering)과 같은 고급 스퍼터링 기술을 통해 더욱 우수한 특성의 크로뮴 박막을 형성하려는 연구도 활발히 진행되고 있습니다. 이러한 첨단 기술들은 크로뮴 스퍼터링 타겟의 성능을 극대화하고 새로운 응용 분야를 개척하는 데 기여하고 있습니다. |
| ※본 조사보고서 [세계의 크로뮴 스퍼터링 타겟 시장 2024 : 기업, 종류, 용도, 시장예측] (코드 : GIR2407E10390) 판매에 관한 면책사항을 반드시 확인하세요. |
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