| ■ 영문 제목 : Etching Gas Market, Global Outlook and Forecast 2024-2030 | |
 | ■ 상품코드 : MONT2408K14563 ■ 조사/발행회사 : Market Monitor Global ■ 발행일 : 2024년 8월 (2025년 또는 2026년) 갱신판이 있습니다. 문의주세요. ■ 페이지수 : 약100 ■ 작성언어 : 영어 ■ 보고서 형태 : PDF ■ 납품 방식 : E메일 (주문후 2-3일 소요) ■ 조사대상 지역 : 글로벌 ■ 산업 분야 : 화학&재료 |
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본 조사 보고서는 현재 동향, 시장 역학 및 미래 전망에 초점을 맞춰, 식각 가스 시장에 대한 포괄적인 분석을 제공합니다. 본 보고서는 북미, 유럽, 아시아 태평양 및 신흥 시장과 같은 주요 지역을 포함한 전 세계 식각 가스 시장을 대상으로 합니다. 또한 식각 가스의 성장을 주도하는 주요 요인, 업계가 직면한 과제 및 시장 참여자를 위한 잠재적 기회도 기재합니다.
글로벌 식각 가스 시장은 최근 몇 년 동안 환경 문제, 정부 인센티브 및 기술 발전의 증가로 인해 급속한 성장을 목격했습니다. 식각 가스 시장은 태블릿 패널 디스플레이, 광전지 신에너지, 집적 회로를 포함한 다양한 이해 관계자에게 기회를 제공합니다. 민간 부문과 정부 간의 협력은 식각 가스 시장에 대한 지원 정책, 연구 개발 노력 및 투자를 가속화 할 수 있습니다. 또한 증가하는 소비자 수요는 시장 확장의 길을 제시합니다.
글로벌 식각 가스 시장은 2023년에 미화 XXX백만 달러로 조사되었으며 2030년까지 미화 XXX백만 달러에 도달할 것으로 예상되며, 예측 기간 동안 XXX%의 CAGR로 성장할 것으로 예상됩니다.
[주요 특징]
식각 가스 시장에 대한 조사 보고서에는 포괄적인 통찰력을 제공하고 이해 관계자의 의사 결정을 용이하게하는 몇 가지 주요 항목이 포함되어 있습니다.
요약 : 본 보고서는 식각 가스 시장의 주요 결과, 시장 동향 및 주요 통찰력에 대한 개요를 제공합니다.
시장 개요: 본 보고서는 식각 가스 시장의 정의, 역사적 추이, 현재 시장 규모를 포함한 포괄적인 개요를 제공합니다. 종류(예: 불소 함유 가스, 염소 함유 가스, 산소 함유 가스, 기타), 지역 및 용도별로 시장을 세분화하여 각 세그먼트 내의 주요 동인, 과제 및 기회를 중점적으로 다룹니다.
시장 역학: 본 보고서는 식각 가스 시장의 성장과 발전을 주도하는 시장 역학을 분석합니다. 본 보고서에는 정부 정책 및 규정, 기술 발전, 소비자 동향 및 선호도, 인프라 개발, 업계 협력에 대한 평가가 포함되어 있습니다. 이 분석은 이해 관계자가 식각 가스 시장의 궤적에 영향을 미치는 요인을 이해하는데 도움이됩니다.
경쟁 환경: 본 보고서는 식각 가스 시장내 경쟁 환경에 대한 심층 분석을 제공합니다. 여기에는 주요 시장 플레이어의 프로필, 시장 점유율, 전략, 제품 포트폴리오 및 최근 동향이 포함됩니다.
시장 세분화 및 예측: 본 보고서는 종류, 지역 및 용도와 같은 다양한 매개 변수를 기반으로 식각 가스 시장을 세분화합니다. 정량적 데이터 및 분석을 통해 각 세그먼트의 시장 규모와 성장 예측을 제공합니다. 이를 통해 이해 관계자가 성장 기회를 파악하고 정보에 입각한 투자 결정을 내릴 수 있습니다.
기술 동향: 본 보고서는 주요기술의 발전과 새로운 대체품 등 식각 가스 시장을 형성하는 주요 기술 동향을 강조합니다. 이러한 트렌드가 시장 성장, 채택률, 소비자 선호도에 미치는 영향을 분석합니다.
시장 과제와 기회: 본 보고서는 기술적 병목 현상, 비용 제한, 높은 진입 장벽 등 식각 가스 시장이 직면한 주요 과제를 파악하고 분석합니다. 또한 정부 인센티브, 신흥 시장, 이해관계자 간의 협업 등 시장 성장의 기회에 대해서도 강조합니다.
규제 및 정책 분석: 본 보고서는 정부 인센티브, 배출 기준, 인프라 개발 계획 등 식각 가스에 대한 규제 및 정책 환경을 평가합니다. 이러한 정책이 시장 성장에 미치는 영향을 분석하고 향후 규제 동향에 대한 인사이트를 제공합니다.
권장 사항 및 결론: 본 보고서는 소비자, 정책 입안자, 투자자, 인프라 제공업체 등 이해관계자를 위한 실행 가능한 권고 사항으로 마무리합니다. 이러한 권장 사항은 조사 결과를 바탕으로 식각 가스 시장의 주요 과제와 기회를 해결할 수 있습니다.
참고 데이터 및 부록: 보고서에는 분석 및 조사 결과를 입증하기 위한 보조 데이터, 차트, 그래프가 포함되어 있습니다. 또한 데이터 소스, 설문조사, 상세한 시장 예측과 같은 추가 세부 정보가 담긴 부록도 포함되어 있습니다.
[시장 세분화]
식각 가스 시장은 종류별 및 용도별로 세분화됩니다. 2019-2030년 기간 동안 세그먼트 간의 성장은 종류별 및 용도별로 시장규모에 대한 정확한 계산 및 예측을 볼륨 및 금액 측면에서 제공합니다.
■ 종류별 시장 세그먼트
– 불소 함유 가스, 염소 함유 가스, 산소 함유 가스, 기타
■ 용도별 시장 세그먼트
– 태블릿 패널 디스플레이, 광전지 신에너지, 집적 회로
■ 지역별 및 국가별 글로벌 식각 가스 시장 점유율, 2023년(%)
– 북미 (미국, 캐나다, 멕시코)
– 유럽 (독일, 프랑스, 영국, 이탈리아, 러시아)
– 아시아 (중국, 일본, 한국, 동남아시아, 인도)
– 남미 (브라질, 아르헨티나)
– 중동 및 아프리카 (터키, 이스라엘, 사우디 아라비아, UAE)
■ 주요 업체
– Showa Denko Group、Kanto Denka Kogyo、Linde Group、Air Product、Honeywell、Solvay、AGC、Concorde Specialty Gases、Matheson Tri-Gas、SIAD、Guangdong Huate Gas、Peric Special Gases、Haohua Chemical Science&Technology Corp、Jiangsu Nata Opto-electronic Material、Jiangsu Jacques Technology
[주요 챕터의 개요]
1 장 : 식각 가스의 정의, 시장 개요를 소개
2 장 : 매출 및 판매량을 기준으로한 글로벌 식각 가스 시장 규모
3 장 : 식각 가스 제조업체 경쟁 환경, 가격, 판매량 및 매출 시장 점유율, 최신 동향, M&A 정보 등에 대한 자세한 분석
4 장 : 종류별 시장 분석을 제공 (각 세그먼트의 시장 규모와 성장 잠재력을 다룸)
5 장 : 용도별 시장 분석을 제공 (각 세그먼트의 시장 규모와 성장 잠재력을 다룸)
6 장 : 지역 및 국가별 식각 가스 판매량. 각 지역 및 주요 국가의 시장 규모와 성장 잠재력에 대한 정량적 분석을 제공. 세계 각국의 시장 개발, 향후 개발 전망, 시장 기회을 소개
7 장 : 주요 업체의 프로필을 제공. 제품 판매, 매출, 가격, 총 마진, 제품 소개, 최근 동향 등 시장 내 주요 업체의 기본 상황을 자세히 소개
8 장 : 지역별 및 국가별 글로벌 식각 가스 시장규모
9 장 : 시장 역학, 시장의 최신 동향, 시장의 추진 요인 및 제한 요인, 업계내 업체가 직면한 과제 및 리스크, 업계의 관련 정책 분석을 소개
10 장 : 산업의 업 스트림 및 다운 스트림을 포함한 산업 체인 분석
11 장 : 보고서의 주요 요점 및 결론
※납품 보고서의 구성항목 및 내용은 본 페이지에 기재된 내용과 다를 수 있습니다. 보고서 주문 전에 당사에 보고서 샘플을 요청해서 구성항목 및 기재 내용을 반드시 확인하시길 바랍니다. 보고서 샘플에 없는 내용은 납품 드리는 보고서에도 포함되지 않습니다.
■ 보고서 목차1. 조사 및 분석 보고서 소개 2. 글로벌 식각 가스 전체 시장 규모 3. 기업 환경 4. 종류별 시장 분석 5. 용도별 시장 분석 6. 지역별 시장 분석 7. 제조업체 및 브랜드 프로필 Showa Denko Group、Kanto Denka Kogyo、Linde Group、Air Product、Honeywell、Solvay、AGC、Concorde Specialty Gases、Matheson Tri-Gas、SIAD、Guangdong Huate Gas、Peric Special Gases、Haohua Chemical Science&Technology Corp、Jiangsu Nata Opto-electronic Material、Jiangsu Jacques Technology Showa Denko Group Kanto Denka Kogyo Linde Group 8. 글로벌 식각 가스 생산 능력 분석 9. 주요 시장 동향, 기회, 동인 및 제약 요인 10. 식각 가스 공급망 분석 11. 결론 [그림 목록]- 종류별 식각 가스 세그먼트, 2023년 - 용도별 식각 가스 세그먼트, 2023년 - 글로벌 식각 가스 시장 개요, 2023년 - 글로벌 식각 가스 시장 규모: 2023년 VS 2030년 - 글로벌 식각 가스 매출, 2019-2030 - 글로벌 식각 가스 판매량: 2019-2030 - 식각 가스 매출 기준 상위 3개 및 5개 업체 시장 점유율, 2023년 - 글로벌 종류별 식각 가스 매출, 2023년 VS 2030년 - 글로벌 종류별 식각 가스 매출 시장 점유율 - 글로벌 종류별 식각 가스 판매량 시장 점유율 - 글로벌 종류별 식각 가스 가격 - 글로벌 용도별 식각 가스 매출, 2023년 VS 2030년 - 글로벌 용도별 식각 가스 매출 시장 점유율 - 글로벌 용도별 식각 가스 판매량 시장 점유율 - 글로벌 용도별 식각 가스 가격 - 지역별 식각 가스 매출, 2023년 VS 2030년 - 지역별 식각 가스 매출 시장 점유율 - 지역별 식각 가스 매출 시장 점유율 - 지역별 식각 가스 판매량 시장 점유율 - 북미 국가별 식각 가스 매출 시장 점유율 - 북미 국가별 식각 가스 판매량 시장 점유율 - 미국 식각 가스 시장규모 - 캐나다 식각 가스 시장규모 - 멕시코 식각 가스 시장규모 - 유럽 국가별 식각 가스 매출 시장 점유율 - 유럽 국가별 식각 가스 판매량 시장 점유율 - 독일 식각 가스 시장규모 - 프랑스 식각 가스 시장규모 - 영국 식각 가스 시장규모 - 이탈리아 식각 가스 시장규모 - 러시아 식각 가스 시장규모 - 아시아 지역별 식각 가스 매출 시장 점유율 - 아시아 지역별 식각 가스 판매량 시장 점유율 - 중국 식각 가스 시장규모 - 일본 식각 가스 시장규모 - 한국 식각 가스 시장규모 - 동남아시아 식각 가스 시장규모 - 인도 식각 가스 시장규모 - 남미 국가별 식각 가스 매출 시장 점유율 - 남미 국가별 식각 가스 판매량 시장 점유율 - 브라질 식각 가스 시장규모 - 아르헨티나 식각 가스 시장규모 - 중동 및 아프리카 국가별 식각 가스 매출 시장 점유율 - 중동 및 아프리카 국가별 식각 가스 판매량 시장 점유율 - 터키 식각 가스 시장규모 - 이스라엘 식각 가스 시장규모 - 사우디 아라비아 식각 가스 시장규모 - 아랍에미리트 식각 가스 시장규모 - 글로벌 식각 가스 생산 능력 - 지역별 식각 가스 생산량 비중, 2023년 VS 2030년 - 식각 가스 산업 가치 사슬 - 마케팅 채널 ※납품 보고서의 구성항목 및 내용은 본 페이지에 기재된 내용과 다를 수 있습니다. 보고서 주문 전에 당사에 보고서 샘플을 요청해서 구성항목 및 기재 내용을 반드시 확인하시길 바랍니다. 보고서 샘플에 없는 내용은 납품 드리는 보고서에도 포함되지 않습니다. |
| ※참고 정보 ## 식각 가스(Etching Gas)의 이해 반도체 제조 공정에서 식각(Etching)은 회로 패턴을 기판 위에 구현하기 위한 핵심 단계입니다. 이 과정에서 사용되는 식각 가스는 특정 물질을 선택적으로 제거하여 원하는 구조를 형성하는 데 결정적인 역할을 수행합니다. 식각 가스는 단순히 표면을 깎아내는 것을 넘어, 미세하고 복잡한 패턴을 정밀하게 구현하기 위한 고도의 기술을 담고 있습니다. 식각 가스는 일반적으로 반응성이 높은 화학 물질로 구성되며, 플라즈마 상태에서 활성화되어 기판 표면의 물질과 반응하여 제거합니다. 이 반응은 크게 두 가지 메커니즘으로 설명될 수 있습니다. 첫 번째는 물리적 식각으로, 이온 입자의 운동 에너지를 이용하여 표면 물질을 물리적으로 떼어내는 방식입니다. 두 번째는 화학적 식각으로, 반응성 있는 가스 종이 표면 물질과 화학 반응을 일으켜 휘발성 부산물을 생성하고 이를 제거하는 방식입니다. 대부분의 현대 반도체 공정에서는 이 두 가지 메커니즘이 복합적으로 작용하는 이방성 식각(Anisotropic Etching) 기술이 사용됩니다. 이방성 식각은 수직 방향으로만 식각이 진행되어 수직 측벽을 가진 미세 패턴을 구현하는 데 필수적입니다. 식각 가스의 선택은 식각 대상 물질, 공정 요구 사항, 그리고 최종 소자의 특성에 따라 매우 신중하게 결정됩니다. 각 식각 가스는 고유한 반응성과 선택성을 가지며, 이는 식각 속도, 식각 프로파일, 그리고 잔류물 발생 여부에 직접적인 영향을 미칩니다. 따라서 최적의 식각 가스 조합을 찾는 것은 수율과 성능을 극대화하는 데 중요한 요소입니다. 식각 가스의 주요 특징으로는 다음과 같은 점들을 들 수 있습니다. 첫째, **반응성**입니다. 식각 가스는 높은 반응성을 가져야 표면 물질과의 효과적인 화학 반응을 통해 물질을 제거할 수 있습니다. 둘째, **선택성**입니다. 식각 대상 물질은 빠르고 효율적으로 제거하면서, 식각 대상이 아닌 물질(예: 마스크 재료)은 손상시키지 않고 유지하는 능력이 중요합니다. 셋째, **휘발성 부산물 생성 능력**입니다. 식각 반응 후 생성되는 부산물은 쉽게 제거될 수 있는 휘발성 물질이어야 공정 중 오염을 최소화하고 깨끗한 표면을 얻을 수 있습니다. 넷째, **플라즈마 안정성**입니다. 식각 공정은 플라즈마 상태에서 진행되므로, 사용되는 가스는 플라즈마를 안정적으로 유지하고 원하는 활성종을 효과적으로 생성할 수 있어야 합니다. 마지막으로, **취급 및 안전성**입니다. 식각 가스 중에는 독성, 부식성, 또는 가연성이 높은 물질이 포함될 수 있으므로, 안전한 취급 및 관리 시스템이 필수적입니다. 식각 가스의 종류는 매우 다양하며, 주로 식각 대상 물질에 따라 분류됩니다. 첫째, **실리콘(Si) 및 실리콘 산화물(SiO2) 식각용 가스**입니다. * **불소계 가스 (Fluorine-based gases):** SF6 (육불화황), CF4 (사불화탄소), C2F6 (헥사플루오로에탄), C4F8 (팔플루오로부탄) 등 다양한 불소 화합물이 사용됩니다. 이 가스들은 실리콘 및 실리콘 산화물과 반응하여 휘발성 부산물인 SiF4 또는 SiF6를 생성하며 식각을 진행합니다. CF4는 비교적 약한 식각 능력을 가지지만 높은 선택성을 보여주며, SF6는 강력한 식각 능력을 가지지만 선택성이 떨어질 수 있습니다. C2F6, C4F8 등은 CF4보다 탄소 함량이 높아 식각 시 측벽 보호 효과를 부여하여 이방성 식각에 유리합니다. * **염소계 가스 (Chlorine-based gases):** Cl2 (염소), HCl (염산), BCl3 (삼염화붕소) 등이 있습니다. 이 가스들은 주로 실리콘을 식각하는 데 사용되며, 실리콘과 반응하여 휘발성 부산물인 SiCl4를 생성합니다. 염소계 가스는 불소계 가스에 비해 산화막에 대한 선택성이 우수하여, 산화막 위에 형성된 실리콘 패턴을 식각할 때 유용합니다. BCl3는 특히 고온에서 실리콘을 효과적으로 식각하며, 또한 산화물 표면의 수분 제거 역할도 합니다. 둘째, **금속 배선 식각용 가스**입니다. * **염소계 가스 (Chlorine-based gases):** Al (알루미늄), W (텅스텐), TiN (질화티타늄) 등의 금속을 식각하는 데 주로 사용됩니다. Cl2, BCl3, HCl, CCl4 (사염화탄소) 등이 사용되며, 금속과 반응하여 휘발성 염화물 부산물을 형성합니다. 특히 알루미늄 식각에는 CCl4, BCl3, Cl2의 혼합 가스가 많이 사용되며, 수직 측벽 형성을 위해 질소나 산소 등이 첨가되기도 합니다. * **불소계 가스 (Fluorine-based gases):** 일부 금속, 특히 알루미늄 합금이나 특정 저유전율(low-k) 물질을 포함하는 구조에서 불소계 가스가 사용될 수 있습니다. 하지만 불소계 가스는 금속과 강하게 반응하여 금속 질화물을 형성하는 경향이 있어, 금속 배선 식각에서는 주의가 필요합니다. 셋째, **저유전율(low-k) 물질 식각용 가스**입니다. * **HFCs (Hydrofluorocarbons) 및 PFCs (Perfluorocarbons) 계열 가스:** 저유전율 물질은 낮은 밀도와 높은 기공률을 갖는 경우가 많아, 식각 공정에서 물질의 손상 없이 정밀하게 패턴을 형성하는 것이 중요합니다. 이러한 물질의 특성에 따라 다양한 불소계 및 탄소계 가스의 혼합물이 사용됩니다. CH3F (플루오로메탄), C2HF5 (펜타플루오로에탄), C5F8 (팔플루오로사이클로펜탄) 등이 사용될 수 있으며, 이 가스들은 저유전율 물질의 구조적 무결성을 유지하면서 효과적으로 식각할 수 있도록 설계됩니다. 넷째, **금속 질화물 및 기타 물질 식각용 가스**입니다. * **NH3 (암모니아), N2 (질소), O2 (산소), H2 (수소) 등:** 질화물 식각 시에는 암모니아, 질소 가스가 사용될 수 있으며, 탄소 기반 잔류물을 제거하기 위해 산소나 수소 가스가 보조적으로 사용되기도 합니다. 식각 가스는 다양한 반도체 제조 공정에서 핵심적인 역할을 수행합니다. 주요 용도로는 다음과 같은 것들이 있습니다. * **포토레지스트(Photoresist) 식각:** 반도체 제조에서 회로 패턴을 형성하는 포토레지스트를 제거하는 데 사용됩니다. * **금속 배선 형성:** 알루미늄, 구리, 텅스텐 등의 금속 박막을 식각하여 회로 간의 전기적 연결을 형성합니다. * **절연막 식각:** 산화막, 질화막, 저유전율 절연막 등을 식각하여 소자 간의 절연을 확보하고 트랜지스터, 커패시터 등의 구조를 형성합니다. * **실리콘 기판 식각:** 게이트 전극 형성, 채널 형성 등 실리콘 웨이퍼 상에 직접 미세 구조를 만들기 위해 사용됩니다. * **3D NAND 플래시 메모리 제조:** 수십억 개의 미세 구멍과 수백 층의 수직 채널을 형성하는 데 매우 정밀하고 복잡한 식각 공정이 요구되며, 이를 위해 다양한 식각 가스 조합이 사용됩니다. 관련 기술로는 다음과 같은 것들이 있습니다. * **플라즈마 식각 (Plasma Etching):** 건식 식각(Dry Etching)의 한 종류로, 라디칼이나 이온화된 가스를 이용하여 식각하는 기술입니다. 식각 가스는 플라즈마 발생 장치(RF 전원 공급 장치, 챔버 설계 등)와의 상호작용을 통해 활성화되어 실제 식각 반응을 수행합니다. * **유도 결합 플라즈마 (Inductively Coupled Plasma, ICP) 식각:** 높은 밀도의 플라즈마를 생성하여 식각 속도를 높이고 이방성 식각 특성을 향상시키는 기술입니다. 식각 가스가 ICP 소스에서 효율적으로 활성화되어 높은 밀도의 라디칼과 이온을 생성합니다. * **용량 결합 플라즈마 (Capacitively Coupled Plasma, CCP) 식각:** 전통적인 플라즈마 식각 기술로, 저렴하고 구현이 용이하지만 ICP에 비해 플라즈마 밀도가 낮을 수 있습니다. * **원자층 식각 (Atomic Layer Etching, ALE):** 식각 가스가 표면과 주기적으로 반응하는 과정을 반복하여 원자층 단위로 정밀하게 물질을 제거하는 기술입니다. 매우 높은 선택성과 등각성(Conformality)을 제공하며, 미세 패턴 구현에 필수적입니다. ALE는 각 식각 가스 또는 비활성 가스의 순차적인 주입과 탈착 과정을 통해 이루어지므로, 식각 가스의 특성을 정밀하게 제어하는 것이 중요합니다. * **Hybrid 식각 기술:** 화학적 식각과 물리적 식각을 조합하여 이방성, 높은 선택성, 낮은 손상을 동시에 달성하는 기술입니다. 이를 위해 다양한 종류의 식각 가스와 이온 에너지 조절이 함께 사용됩니다. 식각 가스의 사용은 반도체 소자의 성능 향상과 집적도 증대에 직접적으로 기여합니다. 더 작고 더 빠른 트랜지스터, 더 높은 집적도를 가진 메모리 소자 등은 모두 정밀하고 효율적인 식각 공정의 발전에 힘입은 결과입니다. 미래의 반도체 기술, 특히 초미세 공정 및 3차원 구조 구현에 있어서 식각 가스의 역할은 더욱 중요해질 것이며, 새로운 물질에 대한 최적의 식각 가스 개발 및 기존 가스의 성능 향상을 위한 연구가 지속될 것입니다. 또한, 환경 규제 강화에 따라 독성이 낮거나 재활용이 가능한 친환경 식각 가스 개발에 대한 요구도 증가하고 있습니다. |
| ※본 조사보고서 [글로벌 식각 가스 시장예측 2024-2030] (코드 : MONT2408K14563) 판매에 관한 면책사항을 반드시 확인하세요. |
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