| ■ 영문 제목 : Global Extreme Ultraviolet Lithography (EUVL) Systems Market 2024 by Manufacturers, Regions, Type and Application, Forecast to 2030 | |
 | ■ 상품코드 : GIR2407E19101 ■ 조사/발행회사 : Globalinforesearch ■ 발행일 : 2024년 4월 ■ 페이지수 : 약100 ■ 작성언어 : 영어 ■ 보고서 형태 : PDF ■ 납품 방식 : E메일 (주문후 2-3일 소요) ■ 조사대상 지역 : 글로벌 ■ 산업 분야 : 산업기계/건설 |
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조사회사 Global Info Research의 최신 조사에 따르면, 세계의 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장 규모는 2023년에 XXX백만 달러로 분석되었으며, 검토 기간 동안 xx%의 CAGR로 2030년까지 XXX백만 달러의 재조정된 규모로 성장이 예측됩니다.
Global Info Research 보고서에는 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 산업 체인 동향 개요, 메모리, 파운드리, 기타 응용분야 및 선진 및 개발 도상국의 주요 기업의 시장 현황, 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템의 최첨단 기술, 특허, 최신 용도 및 시장 동향을 분석했습니다.
지역별로는 주요 지역의 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장을 분석합니다. 북미와 유럽은 정부 이니셔티브와 수요자 인식 제고에 힘입어 꾸준한 성장세를 보이고 있습니다. 아시아 태평양, 특히 중국은 탄탄한 내수 수요와 지원 정책, 강력한 제조 기반을 바탕으로 글로벌 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장을 주도하고 있습니다.
[주요 특징]
본 보고서는 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장에 대한 포괄적인 이해를 제공합니다. 본 보고서는 산업에 대한 전체적인 관점과 개별 구성 요소 및 이해 관계자에 대한 자세한 통찰력을 제공합니다. 본 보고서는 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 산업 내의 시장 역학, 동향, 과제 및 기회를 분석합니다. 또한, 거시적 관점에서 시장을 분석하는 것이 포함됩니다.
시장 규모 및 세분화: 본 보고서는 판매량, 매출 및 종류별 (예 : 레이저 생성 플라스마, 진공 스파크, 가스 배출)의 시장 점유율을 포함한 전체 시장 규모에 대한 데이터를 수집합니다.
산업 분석: 보고서는 정부 정책 및 규제, 기술 발전, 수요자 선호도, 시장 역학 등 광범위한 산업 동향을 분석합니다. 이 분석은 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장에 영향을 미치는 주요 동인과 과제를 이해하는데 도움이 됩니다.
지역 분석: 본 보고서에는 지역 또는 국가 단위로 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장을 조사하는 것이 포함됩니다. 보고서는 정부 인센티브, 인프라 개발, 경제 상황 및 수요자 행동과 같은 지역 요인을 분석하여 다양한 시장 내의 변화와 기회를 식별합니다.
시장 전망: 보고서는 수집된 데이터와 분석을 통해 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장에 대한 미래 전망 및 예측을 다룹니다. 여기에는 시장 성장률 추정, 시장 수요 예측, 새로운 트렌드 파악 등이 포함될 수 있습니다. 본 보고서에는 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템에 대한 보다 세분화된 접근 방식도 포함됩니다.
기업 분석: 본 보고서는 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 제조업체, 공급업체 및 기타 관련 업계 플레이어를 다룹니다. 이 분석에는 재무 성과, 시장 포지셔닝, 제품 포트폴리오, 파트너십 및 전략에 대한 조사가 포함됩니다.
수요자 분석: 보고서는 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템에 대한 수요자 행동, 선호도 및 태도에 대한 데이터를 다룹니다. 여기에는 설문 조사, 인터뷰 및 응용 분야별 (메모리, 파운드리, 기타)의 다양한 수요자 리뷰 및 피드백 분석이 포함될 수 있습니다.
기술 분석: 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템과 관련된 특정 기술을 다루는 보고서입니다. 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 분야의 현재 상황 및 잠재적 미래 발전 가능성을 평가합니다.
경쟁 환경: 본 보고서는 개별 기업, 공급업체 및 수요업체를 분석하여 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장의 경쟁 환경에 대한 통찰력을 제공합니다. 이 분석은 시장 점유율, 경쟁 우위 및 업계 플레이어 간의 차별화 가능성을 이해하는 데 도움이 됩니다.
시장 검증: 본 보고서에는 설문 조사, 인터뷰 및 포커스 그룹과 같은 주요 조사를 통해 결과 및 예측을 검증하는 작업이 포함됩니다.
[시장 세분화]
극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장은 종류 및 용도별로 나뉩니다. 2019-2030년 기간 동안 세그먼트 간의 시장규모에 대한 정확한 계산 및 예측을 볼륨 및 금액 측면에서 제공합니다.
종류별 시장 세그먼트
– 레이저 생성 플라스마, 진공 스파크, 가스 배출
용도별 시장 세그먼트
– 메모리, 파운드리, 기타
주요 대상 기업
– ASML, Canon Inc., Intel Corporation, Nikon Corporation, NuFlare Technology Inc., Samsung Corporation, SUSS Microtec AG, Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited (TSMC), Ultratech Inc., Vistec Semiconductor Systems
지역 분석은 다음을 포함합니다.
– 북미 (미국, 캐나다, 멕시코)
– 유럽 (독일, 프랑스, 영국, 러시아, 이탈리아)
– 아시아 태평양 (중국, 일본, 한국, 인도, 동남아시아, 호주)
– 남미 (브라질, 아르헨티나, 콜롬비아)
– 중동 및 아프리카 (사우디아라비아, 아랍에미리트, 이집트, 남아프리카공화국)
본 조사 보고서는 아래 항목으로 구성되어 있습니다.
– 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 제품 범위, 시장 개요, 시장 추정, 주의 사항 및 기준 연도를 설명합니다.
– 2019년부터 2024년까지 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템의 가격, 판매량, 매출 및 세계 시장 점유율과 함께 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템의 주요 제조업체를 프로파일링합니다.
– 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 경쟁 상황, 판매량, 매출 및 주요 제조업체의 글로벌 시장 점유율이 상세하게 분석 됩니다.
– 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 상세 데이터는 2019년부터 2030년까지 지역별 판매량, 소비금액 및 성장성을 보여주기 위해 지역 레벨로 표시됩니다.
– 2019년부터 2030년까지 판매량 시장 점유율 및 성장률을 종류별, 용도별로 분류합니다.
– 2017년부터 2023년까지 세계 주요 국가의 판매량, 소비금액 및 시장 점유율과 함께 국가 레벨로 판매 데이터를 분류하고, 2025년부터 2030년까지 판매량 및 매출과 함께 지역, 종류 및 용도별로 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장 예측을 수행합니다.
– 시장 역학, 성장요인, 저해요인, 동향 및 포터의 다섯 가지 힘 분석.
– 주요 원자재 및 주요 공급 업체, 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템의 산업 체인.
– 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 판매 채널, 유통 업체, 고객(수요기업), 조사 결과 및 결론을 설명합니다.
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■ 보고서 목차■ 시장 개요 ■ 제조업체 프로필 ASML Canon Inc. Intel Corporation ■ 제조업체간 경쟁 환경 ■ 지역별 소비 분석 ■ 종류별 시장 세분화 ■ 용도별 시장 세분화 ■ 북미 ■ 유럽 ■ 아시아 태평양 ■ 남미 ■ 중동 및 아프리카 ■ 시장 역학 ■ 원자재 및 산업 체인 ■ 유통 채널별 출하량 ■ 조사 결과 [그림 목록]- 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 이미지 - 종류별 세계의 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 소비 금액 (2019 & 2023 & 2030) - 2023년 종류별 세계의 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 소비 금액 시장 점유율 - 용도별 세계의 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 소비 금액 (2019 & 2023 & 2030) - 2023년 용도별 세계의 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 소비 금액 시장 점유율 - 세계의 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 소비 금액 (2019 & 2023 & 2030) - 세계의 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 소비 금액 및 예측 (2019-2030) - 세계의 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 판매량 (2019-2030) - 세계의 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 평균 가격 (2019-2030) - 2023년 제조업체별 세계의 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 판매량 시장 점유율 - 2023년 제조업체별 세계의 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 소비 금액 시장 점유율 - 2023년 상위 3개 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 제조업체(소비 금액) 시장 점유율 - 2023년 상위 6개 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 제조업체(소비 금액) 시장 점유율 - 지역별 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 판매량 시장 점유율 - 지역별 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 소비 금액 시장 점유율 - 북미 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 소비 금액 - 유럽 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 소비 금액 - 아시아 태평양 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 소비 금액 - 남미 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 소비 금액 - 중동 및 아프리카 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 소비 금액 - 세계의 종류별 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 판매량 시장 점유율 - 세계의 종류별 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 소비 금액 시장 점유율 - 세계의 종류별 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 평균 가격 - 세계의 용도별 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 판매량 시장 점유율 - 세계의 용도별 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 소비 금액 시장 점유율 - 세계의 용도별 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 평균 가격 - 북미 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 종류별 판매량 시장 점유율 - 북미 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 용도별 판매 수량 시장 점유율 - 북미 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 국가별 판매 수량 시장 점유율 - 북미 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 국가별 소비 금액 시장 점유율 - 미국 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 소비 금액 및 성장률 - 캐나다 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 소비 금액 및 성장률 - 멕시코 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 소비 금액 및 성장률 - 유럽 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 종류별 판매량 시장 점유율 - 유럽 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 용도별 판매량 시장 점유율 - 유럽 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 국가별 판매량 시장 점유율 - 유럽 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 국가별 소비 금액 시장 점유율 - 독일 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 소비 금액 및 성장률 - 프랑스 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 소비 금액 및 성장률 - 영국 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 소비 금액 및 성장률 - 러시아 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 소비 금액 및 성장률 - 이탈리아 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 소비 금액 및 성장률 - 아시아 태평양 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 종류별 판매량 시장 점유율 - 아시아 태평양 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 용도별 판매량 시장 점유율 - 아시아 태평양 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 지역별 판매 수량 시장 점유율 - 아시아 태평양 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 지역별 소비 금액 시장 점유율 - 중국 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 소비 금액 및 성장률 - 일본 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 소비 금액 및 성장률 - 한국 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 소비 금액 및 성장률 - 인도 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 소비 금액 및 성장률 - 동남아시아 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 소비 금액 및 성장률 - 호주 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 소비 금액 및 성장률 - 남미 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 종류별 판매량 시장 점유율 - 남미 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 용도별 판매량 시장 점유율 - 남미 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 국가별 판매 수량 시장 점유율 - 남미 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 국가별 소비 금액 시장 점유율 - 브라질 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 소비 금액 및 성장률 - 아르헨티나 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 소비 금액 및 성장률 - 중동 및 아프리카 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 종류별 판매량 시장 점유율 - 중동 및 아프리카 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 용도별 판매량 시장 점유율 - 중동 및 아프리카 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 지역별 판매량 시장 점유율 - 중동 및 아프리카 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 지역별 소비 금액 시장 점유율 - 터키 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 소비 금액 및 성장률 - 이집트 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 소비 금액 및 성장률 - 사우디 아라비아 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 소비 금액 및 성장률 - 남아프리카 공화국 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 소비 금액 및 성장률 - 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장 성장 요인 - 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장 제약 요인 - 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장 동향 - 포터의 다섯 가지 힘 분석 - 2023년 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템의 제조 비용 구조 분석 - 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템의 제조 공정 분석 - 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 산업 체인 - 직접 채널 장단점 - 간접 채널 장단점 - 방법론 - 조사 프로세스 및 데이터 소스 ※납품 보고서의 구성항목 및 내용은 본 페이지에 기재된 내용과 다를 수 있습니다. 보고서 주문 전에 당사에 보고서 샘플을 요청해서 구성항목 및 기재 내용을 반드시 확인하시길 바랍니다. 보고서 샘플에 없는 내용은 납품 드리는 보고서에도 포함되지 않습니다. |
| ※참고 정보 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템은 차세대 반도체 제조의 핵심 기술로, 기존의 불화아르곤(ArF) 액침 리소그래피로는 구현하기 어려운 초미세 패턴을 형성하기 위해 극자외선(Extreme Ultraviolet, EUV)이라는 파장의 빛을 이용하는 기술입니다. EUVL은 빛의 파장이 짧을수록 더 미세한 패턴을 새길 수 있다는 원리를 바탕으로 하며, 현재 가장 짧은 파장을 활용하는 리소그래피 기술 중 하나입니다. **개념 및 정의:** EUVL 시스템은 EUV 광원을 생성하고, 이 광원을 반사 거울을 이용해 집광한 후, 마스크에 반사된 패턴을 웨이퍼에 전사하는 과정을 거칩니다. 여기서 사용되는 EUV 광은 일반적으로 13.5 나노미터(nm)의 파장을 가지는데, 이는 기존의 불화아르곤 액침 리소그래피에서 사용되는 193nm 파장보다 훨씬 짧습니다. 파장이 짧아짐에 따라 회절 한계가 극복되어 더욱 미세하고 복잡한 회로 패턴을 구현할 수 있게 됩니다. **EUVL 시스템의 주요 특징:** EUVL 시스템은 기존 리소그래피 기술과 비교하여 몇 가지 결정적인 특징을 가지고 있습니다. * **초단파장 사용:** 13.5nm의 EUV 광을 사용함으로써 기존 ArF 액침 리소그래피의 한계를 넘어선 초미세 패턴 구현이 가능합니다. 이는 반도체 집적도를 획기적으로 높일 수 있는 기반이 됩니다. * **반사형 광학계:** EUV 광은 대부분의 물질에 흡수되기 때문에, 렌즈를 이용한 투과 방식이 아닌 고도의 정밀도를 가진 다층 박막 거울을 이용한 반사 방식을 사용합니다. 이 거울은 몰리브덴과 실리콘의 다층 박막으로 구성되어 있으며, 특정 각도에서 EUV 광을 효율적으로 반사합니다. * **진공 환경 필수:** EUV 광은 공기 중의 산소나 질소 분자에 의해 흡수되므로, 리소그래피 공정 전체가 고도의 진공 상태에서 이루어져야 합니다. 이는 시스템 구축 및 유지보수에 상당한 어려움을 야기합니다. * **고출력 광원 개발의 어려움:** EUV 광원은 매우 효율이 낮아 이를 안정적으로 생산하기 위한 고출력 광원 개발이 핵심 과제였습니다. 현재는 플라즈마를 이용한 레이저 유도 플라즈마(Laser-Induced Plasma, LPP) 방식이 주류를 이루고 있으며, 이는 높은 에너지의 레이저를 주석 방울에 조사하여 플라즈마를 발생시키고 여기서 방출되는 EUV 광을 집광하는 방식입니다. * **마스크 제작의 복잡성:** 마스크 역시 빛을 투과하는 것이 아니라 반사하는 방식(반사형 마스크)을 사용하며, 반사율을 높이기 위해 다층 박막으로 코팅됩니다. 또한, EUV 광은 웨이퍼에 손상을 줄 수 있으므로, 마스크 표면의 불순물이나 결함 관리가 매우 중요합니다. * **고가의 시스템:** 이러한 복잡하고 정밀한 기술 집약으로 인해 EUVL 시스템은 기존 리소그래피 장비 대비 매우 높은 가격을 형성하고 있습니다. **EUVL 시스템의 종류 (광원 방식 중심으로):** EUVL 시스템의 핵심은 효율적이고 안정적인 EUV 광원을 생성하는 것입니다. 현재 주로 연구 및 상용화되고 있는 광원 방식은 다음과 같습니다. * **레이저 유도 플라즈마 (Laser-Induced Plasma, LPP):** 이 방식은 고출력의 CO2 레이저를 이용하여 액체 상태의 주석(Sn) 방울에 조사하면 순간적으로 초고온의 플라즈마가 생성되고, 이 플라즈마에서 13.5nm의 EUV 광이 방출되는 원리입니다. 방출된 EUV 광은 집광기를 통해 집속되어 웨이퍼로 전달됩니다. LPP 방식은 비교적 높은 출력과 효율을 얻을 수 있어 차세대 반도체 생산의 주요 광원으로 자리매김하고 있습니다. 주요 LPP 광원 기술로는 AMP(Advanced Metal Plasma) 방식 등이 있습니다. * **방전 플라즈마 (Discharge-Produced Plasma, DPP):** 이 방식은 가스 또는 금속 증기를 이용한 방전 현상에서 발생하는 플라즈마를 통해 EUV 광을 생성합니다. LPP 방식에 비해 상대적으로 저렴하고 소형화가 가능하지만, 광 출력이나 효율 면에서는 LPP에 비해 아직은 제한적인 부분이 있습니다. **EUVL 시스템의 용도:** EUVL 시스템의 가장 주된 용도는 **첨단 반도체 칩 제조**입니다. 특히, 7nm 이하 공정의 로직 반도체(CPU, GPU 등) 및 D램, 낸드플래시 메모리 등 고집적화가 요구되는 차세대 반도체 생산에 필수적입니다. EUVL 기술을 통해 기존 ArF 액침 리소그래피로는 구현하기 어려웠던 미세한 게이트 길이, 패턴 간격 등을 구현할 수 있게 되어, 반도체 성능 향상, 소비 전력 감소, 칩 크기 축소 등을 가능하게 합니다. 향후에는 반도체뿐만 아니라, 극미세 패턴이 요구되는 다양한 분야, 예를 들어 **광학 소자, 센서, 마이크로플루이딕스 장치** 등의 제조에도 EUVL 기술이 적용될 가능성이 있습니다. **EUVL 시스템 관련 핵심 기술:** EUVL 시스템의 성공적인 구현을 위해서는 여러 분야의 첨단 기술들이 유기적으로 결합되어야 합니다. * **EUV 광원 기술:** 앞서 언급한 LPP, DPP 방식 외에도 다양한 광원 기술 연구가 진행 중이며, 광 출력 증가, 안정성 확보, 효율 개선 등이 지속적으로 이루어지고 있습니다. * **고반사율 다층 박막 거울 기술:** EUV 광을 효율적으로 반사하는 거울은 몰리브덴과 실리콘의 수십 층으로 이루어진 나노 구조체입니다. 이 박막의 두께, 조성, 계면 제어 등 극도의 정밀성이 요구되며, 수 나노미터 수준의 표면 거칠기 제어도 중요합니다. * **마스크 및 마스크 제작 기술:** EUV 마스크는 반사형이며, 기판 위에 몰리브덴/실리콘 다층 박막을 코팅하고, 그 위에 패턴을 형성하는 방식으로 제작됩니다. 마스크 제작 과정에서의 결함 감소 및 고해상도 패터닝 기술이 중요합니다. * **고진공 기술:** EUV 광의 흡수를 최소화하기 위한 초고진공 환경을 안정적으로 유지하는 기술이 필수적입니다. * **정밀 제어 및 계측 기술:** 웨이퍼 스테이지의 초정밀 위치 제어, 미세 패턴의 정확한 측정 및 검사 기술 또한 EUVL 시스템의 성능을 좌우하는 중요한 요소입니다. 결론적으로, EUVL 시스템은 초단파장의 EUV 광을 이용해 극미세 패턴을 구현하는 혁신적인 반도체 제조 기술이며, 이는 현대 사회의 기술 발전을 이끄는 핵심 동력이라 할 수 있습니다. 비록 높은 비용과 기술적 난이도를 가지고 있지만, 그 잠재력은 매우 크며 반도체 산업의 미래를 결정짓는 중요한 기술로 평가받고 있습니다. |
| ※본 조사보고서 [세계의 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장 2024 : 기업, 종류, 용도, 시장예측] (코드 : GIR2407E19101) 판매에 관한 면책사항을 반드시 확인하세요. |
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