| ■ 영문 제목 : Global CMM (Common Metal Mask&Open Mask) Market Growth 2025-2031 | |
 | ■ 상품코드 : LPK23JU1443 ■ 조사/발행회사 : LP Information ■ 발행일 : 2025년 3월 ■ 페이지수 : 105 ■ 작성언어 : 영어 ■ 보고서 형태 : PDF ■ 납품 방식 : E메일 ■ 조사대상 지역 : 글로벌 ■ 산업 분야 : 전자&반도체 |
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| LP인포메이션 (LPI) 의 최신 조사 자료는 CMM (커먼 메탈 마스크 & 오픈 마스크)의 과거 판매실적을 살펴보고 2024년의 CMM (커먼 메탈 마스크 & 오픈 마스크) 판매실적을 검토하여 2025년부터 2031년까지 예상되는 CMM (커먼 메탈 마스크 & 오픈 마스크) 판매에 대한 지역 및 시장 세그먼트별 포괄적인 분석을 제공합니다. 글로벌 CMM (커먼 메탈 마스크 & 오픈 마스크) 시장규모는 2024년 xxx백만 달러에서 연평균 xx% 성장하여 2031년에는 xxx백만 달러에 달할 것으로 예측되고 있습니다. 본 보고서의 시장규모 데이터는 무역 전쟁 및 러시아-우크라이나 전쟁의 영향을 반영했습니다. 본 조사 자료는 글로벌 CMM (커먼 메탈 마스크 & 오픈 마스크) 시장에 관해서 조사, 분석한 보고서로서, 기업별 시장 점유율, 지역별 시장규모 (미주, 미국, 캐나다, 멕시코, 브라질, 아시아 태평양, 중국, 일본, 한국, 동남아시아, 인도, 유럽, 독일, 프랑스, 영국, 이탈리아, 러시아, 중동/아프리카, 이집트, 남아프리카, 터키, 중동GCC국 등), 시장동향, 판매/유통업자/고객 리스트, 시장예측 (2026년-2031년), 주요 기업동향 (기업정보, 제품, 판매량, 매출, 가격, 매출총이익) 등의 정보를 수록하고 있습니다. 또한, 주요지역의 종류별 (전기 도금, 절단, 에칭) 시장규모와 용도별 (모바일 스크린, TV 모니터, 자동차 스크린) 시장규모 데이터도 포함되어 있습니다. ***** 목차 구성 ***** 보고서의 범위 경영자용 요약 - 글로벌 CMM (커먼 메탈 마스크 & 오픈 마스크) 시장규모 2020년-2031년 - 지역별 CMM (커먼 메탈 마스크 & 오픈 마스크) 시장분석 - 종류별 CMM (커먼 메탈 마스크 & 오픈 마스크) 시장규모 2020년-2025년 (전기 도금, 절단, 에칭) - 용도별 CMM (커먼 메탈 마스크 & 오픈 마스크) 시장규모 2020년-2025년 (모바일 스크린, TV 모니터, 자동차 스크린) 기업별 CMM (커먼 메탈 마스크 & 오픈 마스크) 시장분석 - 기업별 CMM (커먼 메탈 마스크 & 오픈 마스크) 판매량 - 기업별 CMM (커먼 메탈 마스크 & 오픈 마스크) 매출액 - 기업별 CMM (커먼 메탈 마스크 & 오픈 마스크) 판매가격 - 주요기업의 CMM (커먼 메탈 마스크 & 오픈 마스크) 생산거점, 판매거점 - 시장 집중도 분석 지역별 분석 - 지역별 CMM (커먼 메탈 마스크 & 오픈 마스크) 판매량 2020년-2025년 - 지역별 CMM (커먼 메탈 마스크 & 오픈 마스크) 매출액 2020년-2025년 미주 시장 - 미주의 CMM (커먼 메탈 마스크 & 오픈 마스크) 시장규모 2020년-2025년 - 미주의 CMM (커먼 메탈 마스크 & 오픈 마스크) 시장규모 : 종류별 - 미주의 CMM (커먼 메탈 마스크 & 오픈 마스크) 시장규모 : 용도별 - 미국 CMM (커먼 메탈 마스크 & 오픈 마스크) 시장규모 - 캐나다 CMM (커먼 메탈 마스크 & 오픈 마스크) 시장규모 - 멕시코 CMM (커먼 메탈 마스크 & 오픈 마스크) 시장규모 - 브라질 CMM (커먼 메탈 마스크 & 오픈 마스크) 시장규모 아시아 태평양 시장 - 아시아 태평양의 CMM (커먼 메탈 마스크 & 오픈 마스크) 시장규모 2020년-2025년 - 아시아 태평양의 CMM (커먼 메탈 마스크 & 오픈 마스크) 시장규모 : 종류별 - 아시아 태평양의 CMM (커먼 메탈 마스크 & 오픈 마스크) 시장규모 : 용도별 - 중국 CMM (커먼 메탈 마스크 & 오픈 마스크) 시장규모 - 일본 CMM (커먼 메탈 마스크 & 오픈 마스크) 시장규모 - 한국 CMM (커먼 메탈 마스크 & 오픈 마스크) 시장규모 - 동남아시아 CMM (커먼 메탈 마스크 & 오픈 마스크) 시장규모 - 인도 CMM (커먼 메탈 마스크 & 오픈 마스크) 시장규모 유럽 시장 - 유럽의 CMM (커먼 메탈 마스크 & 오픈 마스크) 시장규모 2020년-2025년 - 유럽의 CMM (커먼 메탈 마스크 & 오픈 마스크) 시장규모 : 종류별 - 유럽의 CMM (커먼 메탈 마스크 & 오픈 마스크) 시장규모 : 용도별 - 독일 CMM (커먼 메탈 마스크 & 오픈 마스크) 시장규모 - 프랑스 CMM (커먼 메탈 마스크 & 오픈 마스크) 시장규모 - 영국 CMM (커먼 메탈 마스크 & 오픈 마스크) 시장규모 중동/아프리카 시장 - 중동/아프리카의 CMM (커먼 메탈 마스크 & 오픈 마스크) 시장규모 2020년-2025년 - 중동/아프리카의 CMM (커먼 메탈 마스크 & 오픈 마스크) 시장규모 : 종류별 - 중동/아프리카의 CMM (커먼 메탈 마스크 & 오픈 마스크) 시장규모 : 용도별 - 이집트 CMM (커먼 메탈 마스크 & 오픈 마스크) 시장규모 - 남아프리카 CMM (커먼 메탈 마스크 & 오픈 마스크) 시장규모 - 중동GCC CMM (커먼 메탈 마스크 & 오픈 마스크) 시장규모 시장의 성장요인, 과제, 동향 - 시장의 성장요인, 기회 - 시장의 과제, 리스크 - 산업 동향 제조원가 구조 분석 - 원재료 및 공급업체 - CMM (커먼 메탈 마스크 & 오픈 마스크)의 제조원가 구조 분석 - CMM (커먼 메탈 마스크 & 오픈 마스크)의 제조 프로세스 분석 - CMM (커먼 메탈 마스크 & 오픈 마스크)의 산업체인 구조 마케팅, 유통업체, 고객 - 판매채널 - CMM (커먼 메탈 마스크 & 오픈 마스크)의 유통업체 - CMM (커먼 메탈 마스크 & 오픈 마스크)의 주요 고객 지역별 CMM (커먼 메탈 마스크 & 오픈 마스크) 시장 예측 - 지역별 CMM (커먼 메탈 마스크 & 오픈 마스크) 시장규모 예측 2026년-2031년 - 미주 시장 예측 - 아시아 태평양 시장 예측 - 유럽 시장 예측 - 중동/아프리카 시장 예측 - CMM (커먼 메탈 마스크 & 오픈 마스크)의 종류별 시장예측 (전기 도금, 절단, 에칭) - CMM (커먼 메탈 마스크 & 오픈 마스크)의 용도별 시장예측 (모바일 스크린, TV 모니터, 자동차 스크린) 주요 기업 분석 (기업정보, 제품, 판매량, 매출, 가격, 매출총이익) - DNP (Dai Nippon Printing Co Ltd), Toppan, Athene, Poongwon, Econy, SEWOO, LG, Shandong Aolai Electronic Technology Co Ltd, Huancaixing Technology Co Ltd, Visionox, BOE Technology, Royole, Tianma Micro-electronics 조사의 결과/결론 |
Metal Mask Is The Core Component Of Oled Production. Common Metal Mask (Cmm), Also Known As Open Mask, Is Mainly Used In Large-Scale Oled Panel Production
LPI (LP Information)’ newest research report, the “CMM (Common Metal Mask&Open Mask) Industry Forecast” looks at past sales and reviews total world CMM (Common Metal Mask&Open Mask) sales in 2024, providing a comprehensive analysis by region and market sector of projected CMM (Common Metal Mask&Open Mask) sales for 2025 through 2031. With CMM (Common Metal Mask&Open Mask) sales broken down by region, market sector and sub-sector, this report provides a detailed analysis in US$ millions of the world CMM (Common Metal Mask&Open Mask) industry.
This Insight Report provides a comprehensive analysis of the global CMM (Common Metal Mask&Open Mask) landscape and highlights key trends related to product segmentation, company formation, revenue, and market share, latest development, and M&A activity. This report also analyzes the strategies of leading global companies with a focus on CMM (Common Metal Mask&Open Mask) portfolios and capabilities, market entry strategies, market positions, and geographic footprints, to better understand these firms’ unique position in an accelerating global CMM (Common Metal Mask&Open Mask) market.
This Insight Report evaluates the key market trends, drivers, and affecting factors shaping the global outlook for CMM (Common Metal Mask&Open Mask) and breaks down the forecast by type, by application, geography, and market size to highlight emerging pockets of opportunity. With a transparent methodology based on hundreds of bottom-up qualitative and quantitative market inputs, this study forecast offers a highly nuanced view of the current state and future trajectory in the global CMM (Common Metal Mask&Open Mask).
The global CMM (Common Metal Mask&Open Mask) market size is projected to grow from US$ million in 2024 to US$ million in 2031; it is expected to grow at a CAGR of % from 2025 to 2031.
United States market for CMM (Common Metal Mask&Open Mask) is estimated to increase from US$ million in 2024 to US$ million by 2031, at a CAGR of % from 2025 through 2031.
China market for CMM (Common Metal Mask&Open Mask) is estimated to increase from US$ million in 2024 to US$ million by 2031, at a CAGR of % from 2025 through 2031.
Europe market for CMM (Common Metal Mask&Open Mask) is estimated to increase from US$ million in 2024 to US$ million by 2031, at a CAGR of % from 2025 through 2031.
Global key CMM (Common Metal Mask&Open Mask) players cover DNP (Dai Nippon Printing Co Ltd), Toppan, Athene, Poongwon, Econy, SEWOO, LG, Shandong Aolai Electronic Technology Co Ltd and Huancaixing Technology Co Ltd, etc. In terms of revenue, the global two largest companies occupied for a share nearly % in 2024.
This report presents a comprehensive overview, market shares, and growth opportunities of CMM (Common Metal Mask&Open Mask) market by product type, application, key manufacturers and key regions and countries.
[Market Segmentation]
Segmentation by type
Electroplate
Cutting
Etching
Segmentation by application
Mobile Screen
TV Monitor
Car Screen
This report also splits the market by region:
Americas
United States
Canada
Mexico
Brazil
APAC
China
Japan
Korea
Southeast Asia
India
Australia
Europe
Germany
France
UK
Italy
Russia
Middle East & Africa
Egypt
South Africa
Israel
Turkey
GCC Countries
The below companies that are profiled have been selected based on inputs gathered from primary experts and analyzing the company’s coverage, product portfolio, its market penetration.
DNP (Dai Nippon Printing Co Ltd)
Toppan
Athene
Poongwon
Econy
SEWOO
LG
Shandong Aolai Electronic Technology Co Ltd
Huancaixing Technology Co Ltd
Visionox
BOE Technology
Royole
Tianma Micro-electronics
[Key Questions Addressed in this Report]
What is the 10-year outlook for the global CMM (Common Metal Mask&Open Mask) market?
What factors are driving CMM (Common Metal Mask&Open Mask) market growth, globally and by region?
Which technologies are poised for the fastest growth by market and region?
How do CMM (Common Metal Mask&Open Mask) market opportunities vary by end market size?
How does CMM (Common Metal Mask&Open Mask) break out type, application?
What are the influences of trade war and Russia-Ukraine war?
1 Scope of the Report |
| ※참고 정보 ## 커먼 메탈 마스크(CMM) 및 오픈 마스크(Open Mask) 개념 소개 커먼 메탈 마스크(Common Metal Mask, CMM)와 오픈 마스크(Open Mask)는 반도체 제조 공정에서 패터닝에 사용되는 중요한 마스크 종류입니다. 이 두 가지는 반도체 웨이퍼 상에 회로 패턴을 형성하는 데 필수적인 역할을 하며, 각기 고유한 특성과 용도를 지니고 있습니다. 본 설명에서는 CMM과 오픈 마스크의 개념, 특징, 종류, 용도 등을 포함하여 이들이 반도체 제조에서 어떻게 활용되는지 상세히 설명해 드리겠습니다. 먼저, **커먼 메탈 마스크(CMM)**는 여러 종류의 회로 패턴을 하나의 마스크에 통합하여 제작하는 마스크를 의미합니다. 전통적으로 각기 다른 회로 패턴을 형성하기 위해 별도의 마스크를 제작하고 사용해왔으나, CMM은 이러한 개별 마스크를 효율적으로 통합함으로써 생산성을 향상시키고 비용을 절감하는 데 기여합니다. CMM은 여러 층의 금속 배선 패턴이나 서로 다른 종류의 패턴을 한 번의 패터닝 공정에 적용할 수 있도록 설계됩니다. 예를 들어, 하나의 CMM에는 제1 금속 배선, 제2 금속 배선, 그리고 비아(Via) 패턴 등이 포함될 수 있습니다. 이는 마스크 제작 및 관리에 필요한 시간과 비용을 줄여주고, 각 마스크 간의 정렬 오차를 최소화하여 공정의 안정성을 높이는 효과를 가져옵니다. CMM의 주요 특징은 다음과 같습니다. 첫째, **통합성**입니다. 여러 패턴을 하나의 마스크에 담고 있기 때문에 여러 번의 패터닝 단계를 줄일 수 있습니다. 둘째, **효율성**입니다. 마스크 제작 및 검사 횟수가 줄어들어 전체 공정 시간을 단축하고 생산성을 높입니다. 셋째, **정밀도 향상**입니다. 개별 마스크를 사용할 때 발생할 수 있는 마스크 간의 정렬 오차를 줄여 회로 패턴의 정확도를 높입니다. 넷째, **비용 절감**입니다. 마스크 제작 및 보관 비용을 줄일 수 있으며, 공정 시간 단축으로 인한 생산 비용 감소 효과도 있습니다. CMM의 종류는 어떤 패턴을 통합하는지에 따라 다양하게 분류될 수 있습니다. 예를 들어, 특정 소자 제작에 사용되는 금속 배선 패턴들을 통합한 **금속 배선 마스크 통합형 CMM**, 특정 공정 단계에 필요한 다층 패턴을 통합한 **다층 패턴 통합형 CMM** 등이 있습니다. 또한, 칩의 종류나 기술 노드에 따라 요구되는 패턴의 복잡성이 다르기 때문에 CMM의 설계 또한 매우 다양해집니다. CMM의 주요 용도는 고집적 반도체 소자 제조에 있습니다. 특히, 스마트폰, 서버, 인공지능 칩 등 고성능 및 고집적화가 요구되는 반도체 제품 생산에서 CMM의 활용도가 높습니다. 복잡한 다층 금속 배선 구조를 효율적으로 형성하는 데 CMM이 필수적으로 사용되며, 이는 웨이퍼당 집적도를 높이고 칩의 성능을 향상시키는 데 직접적인 영향을 미칩니다. 다음으로, **오픈 마스크(Open Mask)**는 반도체 패터닝 공정에서 특정 영역을 개방하여 이후 공정에서 해당 영역에 물질을 증착하거나 식각하는 등의 처리가 이루어지도록 하는 마스크입니다. 즉, 마스크의 특정 패턴 영역은 빛이 통과하여 감광액에 영향을 주지만, 나머지 영역은 빛을 차단하여 감광액이 보호됩니다. 오픈 마스크는 주로 특정 물질의 패턴을 형성하거나, 웨이퍼 상의 특정 영역에만 화학적 반응이 일어나도록 유도할 때 사용됩니다. 오픈 마스크의 주요 특징은 다음과 같습니다. 첫째, **선택적 노광**입니다. 마스크의 개방된 패턴을 통해 빛이 특정 영역에만 조사되어 원하는 패턴을 형성합니다. 둘째, **다양한 공정 적용 가능성**입니다. 증착, 식각, 이온 주입 등 다양한 공정에 활용될 수 있습니다. 셋째, **패턴 형성의 유연성**입니다. 개방되는 영역의 형태를 자유롭게 설계함으로써 다양한 형태의 패턴을 구현할 수 있습니다. 넷째, **마스크의 단순성**입니다. CMM에 비해 여러 패턴을 통합하지 않는 경우가 많아 상대적으로 제작이 단순할 수 있습니다. 오픈 마스크의 종류는 해당 공정의 목적에 따라 다양하게 분류될 수 있습니다. 예를 들어, 특정 물질을 증착하기 위해 개방된 패턴을 가진 **증착용 오픈 마스크**, 특정 영역을 식각하기 위해 개방된 패턴을 가진 **식각용 오픈 마스크** 등이 있습니다. 또한, 특정 이온을 주입하기 위한 **이온 주입용 오픈 마스크** 등도 있습니다. 마스크 자체의 재질이나 구조에 따라서도 분류될 수 있습니다. 오픈 마스크의 주요 용도는 다음과 같습니다. 첫째, **박막 증착 시 패턴 형성**입니다. 예를 들어, 포토레지스트(PR)에 오픈 마스크를 사용하여 패턴을 형성한 후, 해당 개방된 영역에 금속이나 절연체 등의 박막을 증착하는 공정에 사용됩니다. 둘째, **식각 공정 제어**입니다. 특정 영역의 박막만 선택적으로 식각할 때 오픈 마스크를 사용하여 원하는 패턴을 얻습니다. 셋째, **이온 주입 공정**입니다. 특정 영역에만 불순물을 주입하여 반도체 소자의 전기적 특성을 제어할 때 오픈 마스크가 사용됩니다. 넷째, **절연층 패턴 형성**입니다. 반도체 소자 간의 전기적 간섭을 막기 위한 절연층을 특정 영역에만 형성할 때도 오픈 마스크가 활용됩니다. CMM과 오픈 마스크는 반도체 제조 공정에서 다음과 같은 **관련 기술**과 밀접하게 연관되어 있습니다. 첫째, **포토 리소그래피(Photolithography)** 기술입니다. CMM과 오픈 마스크 모두 포토 리소그래피 공정에서 빛을 이용하여 웨이퍼 상에 패턴을 전사하는 데 사용됩니다. 광원으로는 자외선(UV)이나 심자외선(DUV), 극자외선(EUV) 등이 사용되며, 마스크의 패턴은 광원과 렌즈 시스템을 통해 웨이퍼 상의 감광액에 투사됩니다. 마스크의 정밀도와 빛의 투과율, 차단율 등은 최종 패턴의 해상도와 품질에 직접적인 영향을 미칩니다. 둘째, **마스크 제작 기술**입니다. 고밀도, 고해상도의 반도체 회로 패턴을 구현하기 위해서는 마스크 자체의 제작 기술이 매우 중요합니다. CMM의 경우, 여러 패턴을 하나의 마스크에 집적하기 위한 정밀한 설계 및 제조 기술이 필요합니다. 전자빔 리소그래피(EBL)나 레이저 리소그래피 등의 첨단 마스크 제작 기술이 활용됩니다. 오픈 마스크 역시 높은 정밀도로 개방될 영역과 차단될 영역을 정확하게 구분하여 제작해야 합니다. 셋째, **박막 증착 및 식각 기술**입니다. 오픈 마스크를 활용한 공정에서는 증착이나 식각 기술이 핵심적인 역할을 합니다. 화학 기상 증착(CVD), 물리 기상 증착(PVD) 등의 증착 기술과 건식 식각(Dry Etching) 또는 습식 식각(Wet Etching) 기술을 통해 마스크에 의해 정의된 패턴대로 물질을 형성하거나 제거합니다. 넷째, **공정 제어 및 검증 기술**입니다. CMM이나 오픈 마스크를 사용한 패터닝 공정의 정확성을 확보하기 위해서는 엄격한 공정 제어와 검증 과정이 필수적입니다. 마스크 정렬, 노광 에너지, 현상 조건, 식각 파라미터 등을 정밀하게 제어해야 하며, 현미경 검사, 전기적 검사 등을 통해 패턴의 품질을 확인합니다. 다섯째, **3D NAND 플래시 메모리 등의 첨단 기술**입니다. 특히 3D NAND 플래시 메모리와 같이 복잡한 3차원 구조를 형성하는 공정에서는 CMM 및 오픈 마스크 기술이 더욱 중요해집니다. 수십 단 이상의 수직 채널을 형성하기 위해 여러 층에 걸쳐 정밀한 패터닝이 요구되며, 이를 효율적으로 달성하기 위해 CMM 및 다양한 종류의 오픈 마스크 기술이 복합적으로 활용됩니다. 결론적으로, 커먼 메탈 마스크(CMM)와 오픈 마스크는 반도체 회로를 웨이퍼 상에 구현하는 데 있어 근간이 되는 핵심 기술 요소입니다. CMM은 여러 패턴을 통합하여 공정 효율성과 생산성을 극대화하며, 오픈 마스크는 특정 영역에 대한 선택적인 물질 처리 공정을 가능하게 하여 다양한 기능의 반도체 소자 제작을 지원합니다. 이 두 가지 마스크 기술은 첨단 반도체 공정의 발전과 더불어 지속적으로 진화하며, 고성능, 고집적화되는 미래 반도체 기술 구현에 기여할 것입니다. |
| ※본 조사보고서 [글로벌 CMM (커먼 메탈 마스크 & 오픈 마스크) 시장 2025-2031] (코드 : LPK23JU1443) 판매에 관한 면책사항을 반드시 확인하세요. |
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