| ■ 영문 제목 : Global EUV Lithography System Machine Market 2024 by Manufacturers, Regions, Type and Application, Forecast to 2030 | |
 | ■ 상품코드 : GIR2409H6546 ■ 조사/발행회사 : Globalinforesearch ■ 발행일 : 2024년 9월 ■ 페이지수 : 약100 ■ 작성언어 : 영어 ■ 보고서 형태 : PDF ■ 납품 방식 : E메일 (주문후 2-3일 소요) ■ 조사대상 지역 : 글로벌 ■ 산업 분야 : 전자&반도체 |
| Single User (1명 열람용) | USD3,480 ⇒환산￦4,698,000 | 견적의뢰/주문/질문 |
| Multi User (20명 열람용) | USD5,220 ⇒환산￦7,047,000 | 견적의뢰/주문/질문 |
| Corporate User (동일기업내 공유가능) | USD6,960 ⇒환산￦9,396,000 | 견적의뢰/구입/질문 |
|
※가격옵션 설명 - 납기는 즉일~2일소요됩니다. 3일이상 소요되는 경우는 별도표기 또는 연락드립니다. - 지불방법은 계좌이체/무통장입금 또는 카드결제입니다. |
조사회사 Global Info Research의 최신 조사에 따르면, 세계의 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장 규모는 2023년에 XXX백만 달러로 분석되었으며, 검토 기간 동안 xx%의 CAGR로 2030년까지 XXX백만 달러의 재조정된 규모로 성장이 예측됩니다.
Global Info Research 보고서에는 EUV 리소그래피 시스템 장치 산업 체인 동향 개요, 첨단 패키징, MEMS 디바이스, LED 디바이스, 기타 응용분야 및 선진 및 개발 도상국의 주요 기업의 시장 현황, EUV 리소그래피 시스템 장치의 최첨단 기술, 특허, 최신 용도 및 시장 동향을 분석했습니다.
지역별로는 주요 지역의 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장을 분석합니다. 북미와 유럽은 정부 이니셔티브와 수요자 인식 제고에 힘입어 꾸준한 성장세를 보이고 있습니다. 아시아 태평양, 특히 중국은 탄탄한 내수 수요와 지원 정책, 강력한 제조 기반을 바탕으로 글로벌 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장을 주도하고 있습니다.
[주요 특징]
본 보고서는 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장에 대한 포괄적인 이해를 제공합니다. 본 보고서는 산업에 대한 전체적인 관점과 개별 구성 요소 및 이해 관계자에 대한 자세한 통찰력을 제공합니다. 본 보고서는 EUV 리소그래피 시스템 장치 산업 내의 시장 역학, 동향, 과제 및 기회를 분석합니다. 또한, 거시적 관점에서 시장을 분석하는 것이 포함됩니다.
시장 규모 및 세분화: 본 보고서는 판매량, 매출 및 종류별 (예 : 8인치 웨이퍼, 12인치 웨이퍼, 기타)의 시장 점유율을 포함한 전체 시장 규모에 대한 데이터를 수집합니다.
산업 분석: 보고서는 정부 정책 및 규제, 기술 발전, 수요자 선호도, 시장 역학 등 광범위한 산업 동향을 분석합니다. 이 분석은 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장에 영향을 미치는 주요 동인과 과제를 이해하는데 도움이 됩니다.
지역 분석: 본 보고서에는 지역 또는 국가 단위로 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장을 조사하는 것이 포함됩니다. 보고서는 정부 인센티브, 인프라 개발, 경제 상황 및 수요자 행동과 같은 지역 요인을 분석하여 다양한 시장 내의 변화와 기회를 식별합니다.
시장 전망: 보고서는 수집된 데이터와 분석을 통해 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장에 대한 미래 전망 및 예측을 다룹니다. 여기에는 시장 성장률 추정, 시장 수요 예측, 새로운 트렌드 파악 등이 포함될 수 있습니다. 본 보고서에는 EUV 리소그래피 시스템 장치에 대한 보다 세분화된 접근 방식도 포함됩니다.
기업 분석: 본 보고서는 EUV 리소그래피 시스템 장치 제조업체, 공급업체 및 기타 관련 업계 플레이어를 다룹니다. 이 분석에는 재무 성과, 시장 포지셔닝, 제품 포트폴리오, 파트너십 및 전략에 대한 조사가 포함됩니다.
수요자 분석: 보고서는 EUV 리소그래피 시스템 장치에 대한 수요자 행동, 선호도 및 태도에 대한 데이터를 다룹니다. 여기에는 설문 조사, 인터뷰 및 응용 분야별 (첨단 패키징, MEMS 디바이스, LED 디바이스, 기타)의 다양한 수요자 리뷰 및 피드백 분석이 포함될 수 있습니다.
기술 분석: EUV 리소그래피 시스템 장치과 관련된 특정 기술을 다루는 보고서입니다. EUV 리소그래피 시스템 장치 분야의 현재 상황 및 잠재적 미래 발전 가능성을 평가합니다.
경쟁 환경: 본 보고서는 개별 기업, 공급업체 및 수요업체를 분석하여 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장의 경쟁 환경에 대한 통찰력을 제공합니다. 이 분석은 시장 점유율, 경쟁 우위 및 업계 플레이어 간의 차별화 가능성을 이해하는 데 도움이 됩니다.
시장 검증: 본 보고서에는 설문 조사, 인터뷰 및 포커스 그룹과 같은 주요 조사를 통해 결과 및 예측을 검증하는 작업이 포함됩니다.
[시장 세분화]
EUV 리소그래피 시스템 장치 시장은 종류 및 용도별로 나뉩니다. 2019-2030년 기간 동안 세그먼트 간의 시장규모에 대한 정확한 계산 및 예측을 볼륨 및 금액 측면에서 제공합니다.
종류별 시장 세그먼트
– 8인치 웨이퍼, 12인치 웨이퍼, 기타
용도별 시장 세그먼트
– 첨단 패키징, MEMS 디바이스, LED 디바이스, 기타
주요 대상 기업
– Canon Inc.、 Nikon Corporation、 ASML Holding NV、 Veeco Instruments Inc.、 SUSS MicroTec SE、 Shanghai Micro Electronics Equipment (Group) Co., Ltd.、 EV Group、 JEOL, Ltd.、 Onto Innovation、 Neutronix Quintel Inc.
지역 분석은 다음을 포함합니다.
– 북미 (미국, 캐나다, 멕시코)
– 유럽 (독일, 프랑스, 영국, 러시아, 이탈리아)
– 아시아 태평양 (중국, 일본, 한국, 인도, 동남아시아, 호주)
– 남미 (브라질, 아르헨티나, 콜롬비아)
– 중동 및 아프리카 (사우디아라비아, 아랍에미리트, 이집트, 남아프리카공화국)
본 조사 보고서는 아래 항목으로 구성되어 있습니다.
– EUV 리소그래피 시스템 장치 제품 범위, 시장 개요, 시장 추정, 주의 사항 및 기준 연도를 설명합니다.
– 2019년부터 2024년까지 EUV 리소그래피 시스템 장치의 가격, 판매량, 매출 및 세계 시장 점유율과 함께 EUV 리소그래피 시스템 장치의 주요 제조업체를 프로파일링합니다.
– EUV 리소그래피 시스템 장치 경쟁 상황, 판매량, 매출 및 주요 제조업체의 글로벌 시장 점유율이 상세하게 분석 됩니다.
– EUV 리소그래피 시스템 장치 상세 데이터는 2019년부터 2030년까지 지역별 판매량, 소비금액 및 성장성을 보여주기 위해 지역 레벨로 표시됩니다.
– 2019년부터 2030년까지 판매량 시장 점유율 및 성장률을 종류별, 용도별로 분류합니다.
– 2017년부터 2023년까지 세계 주요 국가의 판매량, 소비금액 및 시장 점유율과 함께 국가 레벨로 판매 데이터를 분류하고, 2025년부터 2030년까지 판매량 및 매출과 함께 지역, 종류 및 용도별로 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장 예측을 수행합니다.
– 시장 역학, 성장요인, 저해요인, 동향 및 포터의 다섯 가지 힘 분석.
– 주요 원자재 및 주요 공급 업체, EUV 리소그래피 시스템 장치의 산업 체인.
– EUV 리소그래피 시스템 장치 판매 채널, 유통 업체, 고객(수요기업), 조사 결과 및 결론을 설명합니다.
※납품 보고서의 구성항목 및 내용은 본 페이지에 기재된 내용과 다를 수 있습니다. 보고서 주문 전에 당사에 보고서 샘플을 요청해서 구성항목 및 기재 내용을 반드시 확인하시길 바랍니다. 보고서 샘플에 없는 내용은 납품 드리는 보고서에도 포함되지 않습니다.
■ 보고서 목차■ 시장 개요 ■ 제조업체 프로필 Canon Inc. Nikon Corporation ASML Holding NV ■ 제조업체간 경쟁 환경 ■ 지역별 소비 분석 ■ 종류별 시장 세분화 ■ 용도별 시장 세분화 ■ 북미 ■ 유럽 ■ 아시아 태평양 ■ 남미 ■ 중동 및 아프리카 ■ 시장 역학 ■ 원자재 및 산업 체인 ■ 유통 채널별 출하량 ■ 조사 결과 [그림 목록]- EUV 리소그래피 시스템 장치 이미지 - 종류별 세계의 EUV 리소그래피 시스템 장치 소비 금액 (2019 & 2023 & 2030) - 2023년 종류별 세계의 EUV 리소그래피 시스템 장치 소비 금액 시장 점유율 - 용도별 세계의 EUV 리소그래피 시스템 장치 소비 금액 (2019 & 2023 & 2030) - 2023년 용도별 세계의 EUV 리소그래피 시스템 장치 소비 금액 시장 점유율 - 세계의 EUV 리소그래피 시스템 장치 소비 금액 (2019 & 2023 & 2030) - 세계의 EUV 리소그래피 시스템 장치 소비 금액 및 예측 (2019-2030) - 세계의 EUV 리소그래피 시스템 장치 판매량 (2019-2030) - 세계의 EUV 리소그래피 시스템 장치 평균 가격 (2019-2030) - 2023년 제조업체별 세계의 EUV 리소그래피 시스템 장치 판매량 시장 점유율 - 2023년 제조업체별 세계의 EUV 리소그래피 시스템 장치 소비 금액 시장 점유율 - 2023년 상위 3개 EUV 리소그래피 시스템 장치 제조업체(소비 금액) 시장 점유율 - 2023년 상위 6개 EUV 리소그래피 시스템 장치 제조업체(소비 금액) 시장 점유율 - 지역별 EUV 리소그래피 시스템 장치 판매량 시장 점유율 - 지역별 EUV 리소그래피 시스템 장치 소비 금액 시장 점유율 - 북미 EUV 리소그래피 시스템 장치 소비 금액 - 유럽 EUV 리소그래피 시스템 장치 소비 금액 - 아시아 태평양 EUV 리소그래피 시스템 장치 소비 금액 - 남미 EUV 리소그래피 시스템 장치 소비 금액 - 중동 및 아프리카 EUV 리소그래피 시스템 장치 소비 금액 - 세계의 종류별 EUV 리소그래피 시스템 장치 판매량 시장 점유율 - 세계의 종류별 EUV 리소그래피 시스템 장치 소비 금액 시장 점유율 - 세계의 종류별 EUV 리소그래피 시스템 장치 평균 가격 - 세계의 용도별 EUV 리소그래피 시스템 장치 판매량 시장 점유율 - 세계의 용도별 EUV 리소그래피 시스템 장치 소비 금액 시장 점유율 - 세계의 용도별 EUV 리소그래피 시스템 장치 평균 가격 - 북미 EUV 리소그래피 시스템 장치 종류별 판매량 시장 점유율 - 북미 EUV 리소그래피 시스템 장치 용도별 판매 수량 시장 점유율 - 북미 EUV 리소그래피 시스템 장치 국가별 판매 수량 시장 점유율 - 북미 EUV 리소그래피 시스템 장치 국가별 소비 금액 시장 점유율 - 미국 EUV 리소그래피 시스템 장치 소비 금액 및 성장률 - 캐나다 EUV 리소그래피 시스템 장치 소비 금액 및 성장률 - 멕시코 EUV 리소그래피 시스템 장치 소비 금액 및 성장률 - 유럽 EUV 리소그래피 시스템 장치 종류별 판매량 시장 점유율 - 유럽 EUV 리소그래피 시스템 장치 용도별 판매량 시장 점유율 - 유럽 EUV 리소그래피 시스템 장치 국가별 판매량 시장 점유율 - 유럽 EUV 리소그래피 시스템 장치 국가별 소비 금액 시장 점유율 - 독일 EUV 리소그래피 시스템 장치 소비 금액 및 성장률 - 프랑스 EUV 리소그래피 시스템 장치 소비 금액 및 성장률 - 영국 EUV 리소그래피 시스템 장치 소비 금액 및 성장률 - 러시아 EUV 리소그래피 시스템 장치 소비 금액 및 성장률 - 이탈리아 EUV 리소그래피 시스템 장치 소비 금액 및 성장률 - 아시아 태평양 EUV 리소그래피 시스템 장치 종류별 판매량 시장 점유율 - 아시아 태평양 EUV 리소그래피 시스템 장치 용도별 판매량 시장 점유율 - 아시아 태평양 EUV 리소그래피 시스템 장치 지역별 판매 수량 시장 점유율 - 아시아 태평양 EUV 리소그래피 시스템 장치 지역별 소비 금액 시장 점유율 - 중국 EUV 리소그래피 시스템 장치 소비 금액 및 성장률 - 일본 EUV 리소그래피 시스템 장치 소비 금액 및 성장률 - 한국 EUV 리소그래피 시스템 장치 소비 금액 및 성장률 - 인도 EUV 리소그래피 시스템 장치 소비 금액 및 성장률 - 동남아시아 EUV 리소그래피 시스템 장치 소비 금액 및 성장률 - 호주 EUV 리소그래피 시스템 장치 소비 금액 및 성장률 - 남미 EUV 리소그래피 시스템 장치 종류별 판매량 시장 점유율 - 남미 EUV 리소그래피 시스템 장치 용도별 판매량 시장 점유율 - 남미 EUV 리소그래피 시스템 장치 국가별 판매 수량 시장 점유율 - 남미 EUV 리소그래피 시스템 장치 국가별 소비 금액 시장 점유율 - 브라질 EUV 리소그래피 시스템 장치 소비 금액 및 성장률 - 아르헨티나 EUV 리소그래피 시스템 장치 소비 금액 및 성장률 - 중동 및 아프리카 EUV 리소그래피 시스템 장치 종류별 판매량 시장 점유율 - 중동 및 아프리카 EUV 리소그래피 시스템 장치 용도별 판매량 시장 점유율 - 중동 및 아프리카 EUV 리소그래피 시스템 장치 지역별 판매량 시장 점유율 - 중동 및 아프리카 EUV 리소그래피 시스템 장치 지역별 소비 금액 시장 점유율 - 터키 EUV 리소그래피 시스템 장치 소비 금액 및 성장률 - 이집트 EUV 리소그래피 시스템 장치 소비 금액 및 성장률 - 사우디 아라비아 EUV 리소그래피 시스템 장치 소비 금액 및 성장률 - 남아프리카 공화국 EUV 리소그래피 시스템 장치 소비 금액 및 성장률 - EUV 리소그래피 시스템 장치 시장 성장 요인 - EUV 리소그래피 시스템 장치 시장 제약 요인 - EUV 리소그래피 시스템 장치 시장 동향 - 포터의 다섯 가지 힘 분석 - 2023년 EUV 리소그래피 시스템 장치의 제조 비용 구조 분석 - EUV 리소그래피 시스템 장치의 제조 공정 분석 - EUV 리소그래피 시스템 장치 산업 체인 - 직접 채널 장단점 - 간접 채널 장단점 - 방법론 - 조사 프로세스 및 데이터 소스 ※납품 보고서의 구성항목 및 내용은 본 페이지에 기재된 내용과 다를 수 있습니다. 보고서 주문 전에 당사에 보고서 샘플을 요청해서 구성항목 및 기재 내용을 반드시 확인하시길 바랍니다. 보고서 샘플에 없는 내용은 납품 드리는 보고서에도 포함되지 않습니다. |
| ※참고 정보 극자외선(EUV) 리소그래피 시스템 장치는 반도체 제조 공정에서 극미세 패턴을 웨이퍼에 전사하기 위한 핵심 장비입니다. 기존의 광학 리소그래피 기술로는 구현하기 어려운 초미세 회로 패턴을 새기기 위해 파장이 짧은 극자외선 빛을 활용하는 것이 특징입니다. 이 짧은 파장은 더 높은 해상도를 가능하게 하여, 집적회로(IC)의 집적도를 높이고 성능을 향상시키는 데 결정적인 역할을 합니다. EUV 리소그래피는 현재 7nm 이하 공정에서 필수적으로 사용되며, 미래 반도체 기술의 발전을 선도하는 매우 중요한 기술이라 할 수 있습니다. EUV 리소그래피 시스템은 매우 복잡하고 정교한 기술들의 집약체입니다. 먼저, 빛을 생성하는 광원 시스템이 중요합니다. 현재 가장 널리 사용되는 방식은 레이저 유도 플라즈마(LPP, Laser-Induced Plasma) 방식입니다. 이는 고출력의 CO2 레이저를 주석(Sn) 액체 방울에 조사하여 극자외선 빛을 발생시키는 방식입니다. 이 과정에서 발생한 EUV 빛은 매우 효율적인 다층막 반사 거울을 통해 집광되어 웨이퍼로 조사됩니다. 이 거울들은 몰리브덴(Mo)과 실리콘(Si)의 얇은 박막을 번갈아 쌓아 올려 만드는데, 약 70층 이상으로 구성되며 약 70%의 반사율을 가집니다. 이러한 거울들은 진공 환경에서만 작동하며, 빛의 흡수를 최소화하기 위해 산소나 물과 반응하지 않는 재료로 만들어집니다. 패턴을 형성하는 마스크 스테이지와 웨이퍼 스테이지 역시 극도의 정밀도를 요구합니다. 마스크 스테이지는 EUV 빛이 통과하지 않는 반사형 마스크를 사용하며, 마스크에 그려진 패턴을 웨이퍼에 정확하게 복제해야 합니다. 웨이퍼 스테이지는 수 나노미터(nm) 단위의 오차도 허용하지 않는 정확도로 웨이퍼를 이동시키며 노광 과정을 진행합니다. 이러한 정밀 제어를 위해 공기 방울이나 자기 부상 기술을 활용하는 고성능 스테이지 시스템이 적용됩니다. EUV 리소그래피 시스템은 고진공 환경에서 작동해야 합니다. EUV 빛은 공기 분자에 의해 쉽게 흡수되기 때문에, 광원부터 웨이퍼까지의 모든 경로를 고진공으로 유지해야 합니다. 이를 위해 복잡하고 강력한 진공 펌프 시스템이 필수적입니다. 또한, 장비 내부의 잔류 가스나 오염 물질은 광학계 성능 저하 및 장비 수명 단축의 원인이 될 수 있으므로, 철저한 진공 관리 및 클린 환경 유지가 매우 중요합니다. EUV 리소그래피 시스템은 기본적으로 몇 가지 주요 구성 요소로 이루어져 있습니다. 첫째, EUV 광원입니다. 앞에서 언급한 LPP 방식이 현재 주류를 이루고 있으며, 이는 고출력 레이저와 주석 액체 방울을 이용해 EUV 빛을 생성합니다. 두 번째는 집광계입니다. EUV 빛은 흡수가 잘 되기 때문에 투과형 렌즈 대신 반사형 거울을 사용하여 빛을 모아줍니다. 이러한 반사 거울은 수십 개의 얇은 막을 겹겹이 쌓아 올려 제작되며, 이를 통해 효율적으로 빛을 집광합니다. 세 번째는 마스크입니다. EUV 리소그래피에서는 빛이 투과되지 않는 반사형 마스크를 사용합니다. 이 마스크에는 극미세 회로 패턴이 그려져 있으며, 마스크 자체도 수백 나노미터 두께의 반사 방지 코팅이 된 기판 위에 반사율이 높은 물질로 패턴이 형성됩니다. 네 번째는 프로젝션 옵틱스입니다. 이는 마스크의 패턴을 축소하여 웨이퍼에 전사하는 역할을 합니다. 높은 해상도를 얻기 위해 복잡한 다수의 반사 거울을 사용하여 빛의 경로를 제어합니다. 마지막으로 웨이퍼 스테이지 및 관련 제어 시스템입니다. 웨이퍼를 정확한 위치로 이동시키고 회전시키며, 미세한 조정까지 가능하게 하는 정밀 제어 시스템이 중요합니다. EUV 리소그래피의 종류라고 한다면, 현재 상용화된 시스템은 ASML의 NXE 시리즈와 EXE 시리즈가 대표적입니다. NXE 시리즈는 주로 7nm, 5nm 공정에 사용되었으며, EXE 시리즈는 3nm 이하의 차세대 공정을 위해 개발되었습니다. EXE 시리즈는 기존 시스템보다 더 높은 개구율(NA, Numerical Aperture)을 가지는 하이 NA(High-NA) EUV 리소그래피 기술을 적용하여 더욱 미세한 패턴 형성을 가능하게 합니다. 하이 NA 기술은 집광력을 높여 해상도를 향상시키는데, 이는 더 많은 수의 반사 거울과 더욱 정교한 광학 설계, 그리고 웨이퍼 이동 거리의 증가를 수반하는 복잡한 기술입니다. EUV 리소그래피의 주요 용도는 첨단 반도체 생산입니다. 7nm 이하 공정의 고성능 로직 반도체, 즉 중앙 처리 장치(CPU), 그래픽 처리 장치(GPU) 등은 EUV 리소그래피 없이는 생산이 불가능합니다. 또한, 고밀도 낸드 플래시 메모리 등에서도 EUV 기술의 적용이 확대되고 있습니다. 이러한 미세 공정은 반도체의 성능 향상, 전력 소비 감소, 그리고 칩 크기 축소를 가능하게 하여 스마트폰, 고성능 컴퓨팅, 인공지능(AI) 가속기 등 첨단 기술 제품의 발전을 견인하고 있습니다. EUV 리소그래피와 관련된 주요 기술로는 앞서 언급된 EUV 광원 기술, 고반사율 다층막 거울 기술, 고정밀 스테이지 제어 기술 외에도 다양한 첨단 기술들이 있습니다. 첫째, EUV 마스크 제작 기술입니다. 반사형 마스크는 매우 정밀하게 제작되어야 하며, 패턴의 정확성과 결함 제어가 매우 중요합니다. 또한, EUV 빛을 흡수하는 물질로는 특수한 소재가 사용되며, 마스크 표면의 평탄도와 결함 유무가 최종 패턴의 품질에 직접적인 영향을 미칩니다. 둘째, EUV 포토레지스트 기술입니다. EUV 빛은 기존의 DUV(Deep Ultraviolet) 빛보다 에너지가 높고 흡수율이 높기 때문에, 이에 맞는 새로운 포토레지스트 재료 개발이 필수적입니다. 이 레지스트는 EUV 빛에 민감하게 반응하여 미세한 패턴을 정확하게 구현할 수 있어야 하며, 낮은 결함 밀도와 높은 감도를 동시에 만족시켜야 합니다. 셋째, 계측 및 검사 기술입니다. EUV 공정은 매우 미세하기 때문에, 제작된 패턴의 품질을 검사하고 측정하는 데에도 고도의 기술이 필요합니다. EUV 빛을 이용한 검사 장비는 미세한 결함을 빠르고 정확하게 찾아내야 하며, 웨이퍼 전반에 걸친 균일성을 평가할 수 있어야 합니다. 넷째, 장비의 안정성과 수명 연장 기술입니다. EUV 시스템은 수천억 원에 달하는 고가의 장비이며, 가동 중단은 생산성에 큰 영향을 미칩니다. 따라서 장비의 안정적인 작동을 위한 부품 내구성 향상, 유지보수 기술, 그리고 부품 교체 주기 연장 등이 중요한 과제입니다. 마지막으로, 수율 향상 및 생산성 증대 기술입니다. EUV 공정은 아직 DUV 공정에 비해 생산 단가가 높고 수율 확보에 어려움이 있습니다. 이를 개선하기 위해 공정 최적화, 자동화 기술 도입, 그리고 새로운 공정 방법 개발 등이 꾸준히 연구되고 있습니다. 이러한 기술들은 EUV 리소그래피 시스템 자체의 성능을 향상시키는 동시에, 반도체 제조 전반의 효율성을 높이는 데 기여합니다. |
| ※본 조사보고서 [세계의 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장 2024 : 기업, 종류, 용도, 시장예측] (코드 : GIR2409H6546) 판매에 관한 면책사항을 반드시 확인하세요. |
| ※본 조사보고서 [세계의 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장 2024 : 기업, 종류, 용도, 시장예측] 에 대해서 E메일 문의는 여기를 클릭하세요. |
※당 사이트에 없는 보고서도 취급 가능한 경우가 많으니 문의 주세요!