| ■ 영문 제목 : Global Liquid Photoresist Market Growth 2025-2031 | |
 | ■ 상품코드 : LPK23JU0564 ■ 조사/발행회사 : LP Information ■ 발행일 : 2025년 3월 ■ 페이지수 : 74 ■ 작성언어 : 영어 ■ 보고서 형태 : PDF ■ 납품 방식 : E메일 ■ 조사대상 지역 : 글로벌 ■ 산업 분야 : 화학&재료 |
| Single User (1명 열람용) | USD3,660 ⇒환산￦5,124,000 | 견적의뢰/주문/질문 |
| Multi User (20명 열람용) | USD5,490 ⇒환산￦7,686,000 | 견적의뢰/주문/질문 |
| Corporate User (기업 열람용) | USD7,320 ⇒환산￦10,248,000 | 견적의뢰/구입/질문 |
|
※가격옵션 설명 - 납기는 즉일~2일소요됩니다. 3일이상 소요되는 경우는 별도표기 또는 연락드립니다. - 지불방법은 계좌이체/무통장입금 또는 카드결제입니다. |
| LP인포메이션 (LPI) 의 최신 조사 자료는 액체 포토레지스트의 과거 판매실적을 살펴보고 2024년의 액체 포토레지스트 판매실적을 검토하여 2025년부터 2031년까지 예상되는 액체 포토레지스트 판매에 대한 지역 및 시장 세그먼트별 포괄적인 분석을 제공합니다. 글로벌 액체 포토레지스트 시장규모는 2024년 xxx백만 달러에서 연평균 xx% 성장하여 2031년에는 xxx백만 달러에 달할 것으로 예측되고 있습니다. 본 보고서의 시장규모 데이터는 무역 전쟁 및 러시아-우크라이나 전쟁의 영향을 반영했습니다. 본 조사 자료는 글로벌 액체 포토레지스트 시장에 관해서 조사, 분석한 보고서로서, 기업별 시장 점유율, 지역별 시장규모 (미주, 미국, 캐나다, 멕시코, 브라질, 아시아 태평양, 중국, 일본, 한국, 동남아시아, 인도, 유럽, 독일, 프랑스, 영국, 이탈리아, 러시아, 중동/아프리카, 이집트, 남아프리카, 터키, 중동GCC국 등), 시장동향, 판매/유통업자/고객 리스트, 시장예측 (2026년-2031년), 주요 기업동향 (기업정보, 제품, 판매량, 매출, 가격, 매출총이익) 등의 정보를 수록하고 있습니다. 또한, 주요지역의 종류별 (컬러 레지스트 (RGB), 블랙 매트릭스 (BM)) 시장규모와 용도별 (LCD 디스플레이, OLED 디스플레이) 시장규모 데이터도 포함되어 있습니다. ***** 목차 구성 ***** 보고서의 범위 경영자용 요약 - 글로벌 액체 포토레지스트 시장규모 2020년-2031년 - 지역별 액체 포토레지스트 시장분석 - 종류별 액체 포토레지스트 시장규모 2020년-2025년 (컬러 레지스트 (RGB), 블랙 매트릭스 (BM)) - 용도별 액체 포토레지스트 시장규모 2020년-2025년 (LCD 디스플레이, OLED 디스플레이) 기업별 액체 포토레지스트 시장분석 - 기업별 액체 포토레지스트 판매량 - 기업별 액체 포토레지스트 매출액 - 기업별 액체 포토레지스트 판매가격 - 주요기업의 액체 포토레지스트 생산거점, 판매거점 - 시장 집중도 분석 지역별 분석 - 지역별 액체 포토레지스트 판매량 2020년-2025년 - 지역별 액체 포토레지스트 매출액 2020년-2025년 미주 시장 - 미주의 액체 포토레지스트 시장규모 2020년-2025년 - 미주의 액체 포토레지스트 시장규모 : 종류별 - 미주의 액체 포토레지스트 시장규모 : 용도별 - 미국 액체 포토레지스트 시장규모 - 캐나다 액체 포토레지스트 시장규모 - 멕시코 액체 포토레지스트 시장규모 - 브라질 액체 포토레지스트 시장규모 아시아 태평양 시장 - 아시아 태평양의 액체 포토레지스트 시장규모 2020년-2025년 - 아시아 태평양의 액체 포토레지스트 시장규모 : 종류별 - 아시아 태평양의 액체 포토레지스트 시장규모 : 용도별 - 중국 액체 포토레지스트 시장규모 - 일본 액체 포토레지스트 시장규모 - 한국 액체 포토레지스트 시장규모 - 동남아시아 액체 포토레지스트 시장규모 - 인도 액체 포토레지스트 시장규모 유럽 시장 - 유럽의 액체 포토레지스트 시장규모 2020년-2025년 - 유럽의 액체 포토레지스트 시장규모 : 종류별 - 유럽의 액체 포토레지스트 시장규모 : 용도별 - 독일 액체 포토레지스트 시장규모 - 프랑스 액체 포토레지스트 시장규모 - 영국 액체 포토레지스트 시장규모 중동/아프리카 시장 - 중동/아프리카의 액체 포토레지스트 시장규모 2020년-2025년 - 중동/아프리카의 액체 포토레지스트 시장규모 : 종류별 - 중동/아프리카의 액체 포토레지스트 시장규모 : 용도별 - 이집트 액체 포토레지스트 시장규모 - 남아프리카 액체 포토레지스트 시장규모 - 중동GCC 액체 포토레지스트 시장규모 시장의 성장요인, 과제, 동향 - 시장의 성장요인, 기회 - 시장의 과제, 리스크 - 산업 동향 제조원가 구조 분석 - 원재료 및 공급업체 - 액체 포토레지스트의 제조원가 구조 분석 - 액체 포토레지스트의 제조 프로세스 분석 - 액체 포토레지스트의 산업체인 구조 마케팅, 유통업체, 고객 - 판매채널 - 액체 포토레지스트의 유통업체 - 액체 포토레지스트의 주요 고객 지역별 액체 포토레지스트 시장 예측 - 지역별 액체 포토레지스트 시장규모 예측 2026년-2031년 - 미주 시장 예측 - 아시아 태평양 시장 예측 - 유럽 시장 예측 - 중동/아프리카 시장 예측 - 액체 포토레지스트의 종류별 시장예측 (컬러 레지스트 (RGB), 블랙 매트릭스 (BM)) - 액체 포토레지스트의 용도별 시장예측 (LCD 디스플레이, OLED 디스플레이) 주요 기업 분석 (기업정보, 제품, 판매량, 매출, 가격, 매출총이익) - DuPont, Chang Chun Group, Great Eastern Resins Industrial, LG Chem 조사의 결과/결론 |
The Liquid Photoresist market covers Positive Photoresist, Negative Photoresist, etc. The typical players include DuPont, Fujifilm Electronic Materials, Tokyo Ohka Kogyo, Merck Group, etc.
Liquid photoresist is a negative, water-soluble, alkali developing type and UV sensitive liquid photopolymer.
LPI (LP Information)’ newest research report, the “Liquid Photoresist Industry Forecast” looks at past sales and reviews total world Liquid Photoresist sales in 2024, providing a comprehensive analysis by region and market sector of projected Liquid Photoresist sales for 2025 through 2031. With Liquid Photoresist sales broken down by region, market sector and sub-sector, this report provides a detailed analysis in US$ millions of the world Liquid Photoresist industry.
This Insight Report provides a comprehensive analysis of the global Liquid Photoresist landscape and highlights key trends related to product segmentation, company formation, revenue, and market share, latest development, and M&A activity. This report also analyzes the strategies of leading global companies with a focus on Liquid Photoresist portfolios and capabilities, market entry strategies, market positions, and geographic footprints, to better understand these firms’ unique position in an accelerating global Liquid Photoresist market.
This Insight Report evaluates the key market trends, drivers, and affecting factors shaping the global outlook for Liquid Photoresist and breaks down the forecast by type, by application, geography, and market size to highlight emerging pockets of opportunity. With a transparent methodology based on hundreds of bottom-up qualitative and quantitative market inputs, this study forecast offers a highly nuanced view of the current state and future trajectory in the global Liquid Photoresist.
The global Liquid Photoresist market size is projected to grow from US$ 2465.2 million in 2024 to US$ 3076.6 million in 2031; it is expected to grow at a CAGR of 3076.6 from 2025 to 2031.
The global Liquid Photoresist consumption market is led by Asia-Pacific. The region held over 85% consumption share.
Global major companies profiled in the Liquid Photoresist market include Chang Chun Group, Dongjin Semichem, Merck Group, etc. Global top three companies account for over 25% of market share.
Liquid Photoresist has been widely used in the PCB industry, semiconductor industry and LCD industry. Demand from the semiconductor industry accounts for the largest market share, occupies about 36%, demand from semiconductor and LCD keeps fast growth.
liquid Photoresist can be mainly divided into various types according to different principles. In the semiconductor field, i and g type is widely used, but manufacturers are also dedicated to developing ArF and KrF types. And in the LCD industry, liquid photoresist can be divided into the black type and color type.
This report presents a comprehensive overview, market shares, and growth opportunities of Liquid Photoresist market by product type, application, key manufacturers and key regions and countries.
[Market Segmentation]
Segmentation by type
Color Resists(RGB)
Black Matrix(BM)
Segmentation by application
LCD Display
OLED Display
This report also splits the market by region:
Americas
United States
Canada
Mexico
Brazil
APAC
China
Japan
Korea
Southeast Asia
India
Australia
Europe
Germany
France
UK
Italy
Russia
Middle East & Africa
Egypt
South Africa
Israel
Turkey
GCC Countries
The below companies that are profiled have been selected based on inputs gathered from primary experts and analyzing the company’s coverage, product portfolio, its market penetration.
DuPont
Chang Chun Group
Great Eastern Resins Industrial
LG Chem
[Key Questions Addressed in this Report]
What is the 10-year outlook for the global Liquid Photoresist market?
What factors are driving Liquid Photoresist market growth, globally and by region?
Which technologies are poised for the fastest growth by market and region?
How do Liquid Photoresist market opportunities vary by end market size?
How does Liquid Photoresist break out type, application?
What are the influences of trade war and Russia-Ukraine war?
1 Scope of the Report |
| ※참고 정보 ## 액체 포토레지스트: 반도체 제조의 핵심 소재 액체 포토레지스트는 반도체 제조 공정, 특히 포토리소그래피(Photolithography) 과정에서 필수적인 역할을 하는 감광성 유기 화합물입니다. 빛에 반응하여 화학적 성질이 변하는 성질을 이용하여 미세한 패턴을 웨이퍼 위에 정밀하게 전사하는 데 사용됩니다. 이러한 액체 포토레지스트는 우리 주변의 거의 모든 전자 기기에 사용되는 집적회로(Integrated Circuit, IC)의 제작에 있어 없어서는 안 될 핵심 소재라 할 수 있습니다. **개념 및 정의** 액체 포토레지스트는 기본적으로 여러 가지 화학 물질의 복합체입니다. 그 핵심 구성 요소로는 광개시제(Photoinitiator) 또는 감광제(Photosensitizer), 고분자 바인더(Polymer Binder), 용매(Solvent), 첨가제(Additives) 등이 있습니다. * **광개시제/감광제**: 포토레지스트가 빛에 반응하도록 만드는 핵심 성분입니다. 특정 파장의 빛을 흡수하면 화학 반응을 개시하여 고분자 바인더의 용해도를 변화시킵니다. * **고분자 바인더**: 포토레지스트의 기본적인 골격을 형성하며, 패턴을 유지하는 역할을 합니다. 빛에 노출된 부분 또는 노출되지 않은 부분의 고분자 바인더가 현상액에 의해 선택적으로 제거되거나 남아있는 방식으로 패턴이 형성됩니다. * **용매**: 고분자 바인더와 광개시제 등을 녹여 균일한 액체 상태를 유지하게 하며, 웨이퍼에 얇고 균일하게 도포될 수 있도록 점도를 조절하는 역할을 합니다. 도포 후에는 휘발되어 얇은 필름만 남게 됩니다. * **첨가제**: 포토레지스트의 성능을 향상시키기 위해 사용됩니다. 예를 들어, 접착력을 높이거나, 표면 장력을 조절하거나, 현상 과정의 효율을 높이는 등의 역할을 할 수 있습니다. 포토레지스트는 빛에 노출된 부분이 현상액에 의해 녹아 없어지는 **양성 포토레지스트(Positive Photoresist)**와 빛에 노출된 부분이 현상액에 의해 녹아 없어지지 않고 남아있는 **음성 포토레지스트(Negative Photoresist)**로 크게 나눌 수 있습니다. **특징** 액체 포토레지스트는 다음과 같은 여러 가지 중요한 특징을 가지고 있습니다. * **감광성(Photosensitivity)**: 특정 파장의 빛에 반응하여 화학적, 물리적 특성이 변하는 성질을 가지고 있습니다. 이 감광성이 포토리소그래피 공정의 근간이 됩니다. * **해상도(Resolution)**: 얼마나 미세한 패턴까지 재현할 수 있는지를 나타내는 척도입니다. 반도체 집적도가 높아질수록 더 높은 해상도를 가진 포토레지스트가 요구됩니다. * **현상 특성(Developing Characteristics)**: 빛에 노출된 부분 또는 노출되지 않은 부분이 현상액에 의해 얼마나 잘, 그리고 얼마나 선택적으로 제거되는지를 나타냅니다. 선명하고 깔끔한 패턴 형성에 중요한 요소입니다. * **접착성(Adhesion)**: 웨이퍼 표면과의 접착력이 우수해야 패턴 전사 과정에서 떨어져 나가거나 들뜨는 것을 방지할 수 있습니다. * **내식성(Etch Resistance)**: 후속 공정인 식각(Etching) 과정에서 식각액이나 플라즈마로부터 패턴을 보호할 수 있는 능력입니다. * **균일한 박막 형성 능력(Uniform Film Formation)**: 스핀 코팅(Spin Coating) 등의 공정을 통해 웨이퍼 전체에 얇고 균일한 두께의 필름을 형성할 수 있어야 합니다. **종류** 액체 포토레지스트는 그 구성 성분 및 작동 방식에 따라 다양한 종류로 분류될 수 있습니다. * **화학 증폭형 포토레지스트(Chemically Amplified Resist, CAR)**: 이산화황(SO2)이나 황산(H2SO4)과 같은 산 촉매를 사용하여 빛에 노출된 후에도 화학 반응을 증폭시키는 방식입니다. 이를 통해 낮은 에너지의 빛으로도 효율적으로 패턴을 형성할 수 있으며, 고해상도 구현에 매우 유리합니다. 현대 반도체 미세 공정에서 가장 널리 사용되는 포토레지스트입니다. CAR는 크게 두 가지로 나뉩니다. * **양성 화학 증폭형 포토레지스트**: 빛에 노출된 부분의 고분자가 산 촉매에 의해 분해되어 현상액에 잘 녹게 됩니다. * **음성 화학 증폭형 포토레지스트**: 빛에 노출된 부분의 고분자가 산 촉매에 의해 가교(Cross-linking)되어 현상액에 잘 녹지 않게 됩니다. * **비화학 증폭형 포토레지스트(Non-Chemically Amplified Resist, Non-CAR)**: 빛에 의해 직접적으로 고분자 사슬의 화학적 구조가 변화하여 용해도가 달라집니다. CAR에 비해 상대적으로 단순한 구조를 가지지만, 고해상도 구현이나 특정 공정에서는 여전히 사용될 수 있습니다. * **사용 광원의 종류에 따른 분류**: * **i-line 포토레지스트**: 파장 365 nm의 수은 램프(mercury lamp) 광원을 사용합니다. * **KrF 포토레지스트**: 파장 248 nm의 크립톤 플루오라이드(KrF) 엑시머 레이저 광원을 사용합니다. * **ArF 포토레지스트**: 파장 193 nm의 아르곤 플루오라이드(ArF) 엑시머 레이저 광원을 사용합니다. 특히 액침(Immersion) 기술과 결합하여 초미세 패턴 구현에 핵심적인 역할을 하고 있습니다. * **EUV 포토레지스트**: 파장 13.5 nm의 극자외선(Extreme Ultraviolet, EUV) 광원을 사용합니다. 현재 가장 앞선 반도체 공정에 사용되며, 극한의 해상도를 구현하기 위한 기술적 난이도가 매우 높습니다. **용도** 액체 포토레지스트의 가장 대표적인 용도는 역시 **반도체 웨이퍼 제작**입니다. 트랜지스터, 전선 등 수억 개 이상의 미세한 회로 패턴을 웨이퍼 위에 새기는 포토리소그래피 공정에 사용됩니다. 이를 통해 컴퓨터, 스마트폰, 가전제품 등 거의 모든 현대 전자기기의 핵심 부품인 집적회로가 만들어집니다. 반도체 분야 외에도 다음과 같은 다양한 분야에서 활용될 수 있습니다. * **디스플레이 패널 제작**: LCD, OLED 등의 패널을 제작할 때도 미세한 패턴 형성을 위해 포토레지스트가 사용됩니다. * **인쇄 회로 기판(PCB) 제작**: 전기 회로 패턴을 형성하는 데 사용됩니다. * **MEMS (Micro Electro Mechanical Systems) 제작**: 미세한 기계 부품이나 센서 등을 제작하는 데도 포토레지스트 기술이 응용됩니다. * **마이크로 렌즈 어레이 제작**: 광학 기기 등에 사용되는 미세 렌즈 패턴을 만드는 데 활용될 수 있습니다. **관련 기술 및 동향** 액체 포토레지스트는 반도체 기술의 발전과 함께 끊임없이 진화해왔습니다. 특히 최근에는 더욱 미세하고 복잡한 패턴을 구현하기 위한 새로운 기술들이 개발되고 있습니다. * **EUV 리소그래피**: 극자외선(EUV)을 사용하여 기존 광원의 한계를 극복하고 수 나노미터(nm) 수준의 초미세 패턴을 구현하는 기술입니다. EUV 광원은 에너지가 매우 높기 때문에 이에 적합한 새로운 EUV 포토레지스트 개발이 필수적입니다. 기존의 CAR는 EUV 광원에 대한 효율성이 낮아 새로운 방식의 포토레지스트, 예를 들어 금속 유기 화합물 기반의 포토레지스트 등이 연구되고 있습니다. * **액침 리소그래피(Immersion Lithography)**: 광원과 웨이퍼 렌즈 사이에 물과 같은 높은 굴절률을 가진 액체를 채워 빛의 파장을 짧게 만드는 효과를 얻음으로써 해상도를 향상시키는 기술입니다. ArF 액침 리소그래피는 현재 최첨단 반도체 생산에서 널리 사용되고 있으며, 이를 위한 고성능 ArF 포토레지스트의 개발이 중요합니다. * **새로운 소재 개발**: 더 높은 해상도, 더 빠른 감도, 더 우수한 내식성 등을 확보하기 위해 다양한 화학 구조를 가진 새로운 고분자 바인더, 광개시제 및 첨가제 개발이 지속적으로 이루어지고 있습니다. 예를 들어, 새로운 유기금속 복합체나 나노 입자를 활용한 포토레지스트 연구도 활발합니다. * **공정 최적화**: 포토레지스트의 성능뿐만 아니라 도포, 노광, 현상, 식각 등 관련된 모든 공정 단계를 최적화하여 전체적인 패턴 형성 능력을 극대화하는 기술 역시 매우 중요합니다. 액체 포토레지스트는 단순한 화학 물질을 넘어 첨단 반도체 기술을 구현하는 핵심 동력이며, 앞으로도 더욱 발전하는 기술과 함께 그 중요성이 더욱 커질 것으로 예상됩니다. |
| ※본 조사보고서 [글로벌 액체 포토레지스트 시장 2025-2031] (코드 : LPK23JU0564) 판매에 관한 면책사항을 반드시 확인하세요. |
| ※본 조사보고서 [글로벌 액체 포토레지스트 시장 2025-2031] 에 대해서 E메일 문의는 여기를 클릭하세요. |
※당 사이트에 없는 보고서도 취급 가능한 경우가 많으니 문의 주세요!