| ■ 영문 제목 : Global Lithography for Integrated Circuit Manufacturing Market 2024 by Manufacturers, Regions, Type and Application, Forecast to 2030 | |
 | ■ 상품코드 : GIR2409H10279 ■ 조사/발행회사 : Globalinforesearch ■ 발행일 : 2024년 9월 ■ 페이지수 : 약100 ■ 작성언어 : 영어 ■ 보고서 형태 : PDF ■ 납품 방식 : E메일 (주문후 2-3일 소요) ■ 조사대상 지역 : 글로벌 ■ 산업 분야 : 산업기기 |
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조사회사 Global Info Research의 최신 조사에 따르면, 세계의 집적 회로 제조용 리소그래피 시장 규모는 2023년에 XXX백만 달러로 분석되었으며, 검토 기간 동안 xx%의 CAGR로 2030년까지 XXX백만 달러의 재조정된 규모로 성장이 예측됩니다.
Global Info Research 보고서에는 집적 회로 제조용 리소그래피 산업 체인 동향 개요, 전원 IC, 아날로그 IC, 로직 IC, 기타 응용분야 및 선진 및 개발 도상국의 주요 기업의 시장 현황, 집적 회로 제조용 리소그래피의 최첨단 기술, 특허, 최신 용도 및 시장 동향을 분석했습니다.
지역별로는 주요 지역의 집적 회로 제조용 리소그래피 시장을 분석합니다. 북미와 유럽은 정부 이니셔티브와 수요자 인식 제고에 힘입어 꾸준한 성장세를 보이고 있습니다. 아시아 태평양, 특히 중국은 탄탄한 내수 수요와 지원 정책, 강력한 제조 기반을 바탕으로 글로벌 집적 회로 제조용 리소그래피 시장을 주도하고 있습니다.
[주요 특징]
본 보고서는 집적 회로 제조용 리소그래피 시장에 대한 포괄적인 이해를 제공합니다. 본 보고서는 산업에 대한 전체적인 관점과 개별 구성 요소 및 이해 관계자에 대한 자세한 통찰력을 제공합니다. 본 보고서는 집적 회로 제조용 리소그래피 산업 내의 시장 역학, 동향, 과제 및 기회를 분석합니다. 또한, 거시적 관점에서 시장을 분석하는 것이 포함됩니다.
시장 규모 및 세분화: 본 보고서는 판매량, 매출 및 종류별 (예 : EUV 리소그래피, DUV 리소그래피)의 시장 점유율을 포함한 전체 시장 규모에 대한 데이터를 수집합니다.
산업 분석: 보고서는 정부 정책 및 규제, 기술 발전, 수요자 선호도, 시장 역학 등 광범위한 산업 동향을 분석합니다. 이 분석은 집적 회로 제조용 리소그래피 시장에 영향을 미치는 주요 동인과 과제를 이해하는데 도움이 됩니다.
지역 분석: 본 보고서에는 지역 또는 국가 단위로 집적 회로 제조용 리소그래피 시장을 조사하는 것이 포함됩니다. 보고서는 정부 인센티브, 인프라 개발, 경제 상황 및 수요자 행동과 같은 지역 요인을 분석하여 다양한 시장 내의 변화와 기회를 식별합니다.
시장 전망: 보고서는 수집된 데이터와 분석을 통해 집적 회로 제조용 리소그래피 시장에 대한 미래 전망 및 예측을 다룹니다. 여기에는 시장 성장률 추정, 시장 수요 예측, 새로운 트렌드 파악 등이 포함될 수 있습니다. 본 보고서에는 집적 회로 제조용 리소그래피에 대한 보다 세분화된 접근 방식도 포함됩니다.
기업 분석: 본 보고서는 집적 회로 제조용 리소그래피 제조업체, 공급업체 및 기타 관련 업계 플레이어를 다룹니다. 이 분석에는 재무 성과, 시장 포지셔닝, 제품 포트폴리오, 파트너십 및 전략에 대한 조사가 포함됩니다.
수요자 분석: 보고서는 집적 회로 제조용 리소그래피에 대한 수요자 행동, 선호도 및 태도에 대한 데이터를 다룹니다. 여기에는 설문 조사, 인터뷰 및 응용 분야별 (전원 IC, 아날로그 IC, 로직 IC, 기타)의 다양한 수요자 리뷰 및 피드백 분석이 포함될 수 있습니다.
기술 분석: 집적 회로 제조용 리소그래피과 관련된 특정 기술을 다루는 보고서입니다. 집적 회로 제조용 리소그래피 분야의 현재 상황 및 잠재적 미래 발전 가능성을 평가합니다.
경쟁 환경: 본 보고서는 개별 기업, 공급업체 및 수요업체를 분석하여 집적 회로 제조용 리소그래피 시장의 경쟁 환경에 대한 통찰력을 제공합니다. 이 분석은 시장 점유율, 경쟁 우위 및 업계 플레이어 간의 차별화 가능성을 이해하는 데 도움이 됩니다.
시장 검증: 본 보고서에는 설문 조사, 인터뷰 및 포커스 그룹과 같은 주요 조사를 통해 결과 및 예측을 검증하는 작업이 포함됩니다.
[시장 세분화]
집적 회로 제조용 리소그래피 시장은 종류 및 용도별로 나뉩니다. 2019-2030년 기간 동안 세그먼트 간의 시장규모에 대한 정확한 계산 및 예측을 볼륨 및 금액 측면에서 제공합니다.
종류별 시장 세그먼트
– EUV 리소그래피, DUV 리소그래피
용도별 시장 세그먼트
– 전원 IC, 아날로그 IC, 로직 IC, 기타
주요 대상 기업
– ASML、Nikon、Canon、Shanghai Micro Electronics Equipment
지역 분석은 다음을 포함합니다.
– 북미 (미국, 캐나다, 멕시코)
– 유럽 (독일, 프랑스, 영국, 러시아, 이탈리아)
– 아시아 태평양 (중국, 일본, 한국, 인도, 동남아시아, 호주)
– 남미 (브라질, 아르헨티나, 콜롬비아)
– 중동 및 아프리카 (사우디아라비아, 아랍에미리트, 이집트, 남아프리카공화국)
본 조사 보고서는 아래 항목으로 구성되어 있습니다.
– 집적 회로 제조용 리소그래피 제품 범위, 시장 개요, 시장 추정, 주의 사항 및 기준 연도를 설명합니다.
– 2019년부터 2024년까지 집적 회로 제조용 리소그래피의 가격, 판매량, 매출 및 세계 시장 점유율과 함께 집적 회로 제조용 리소그래피의 주요 제조업체를 프로파일링합니다.
– 집적 회로 제조용 리소그래피 경쟁 상황, 판매량, 매출 및 주요 제조업체의 글로벌 시장 점유율이 상세하게 분석 됩니다.
– 집적 회로 제조용 리소그래피 상세 데이터는 2019년부터 2030년까지 지역별 판매량, 소비금액 및 성장성을 보여주기 위해 지역 레벨로 표시됩니다.
– 2019년부터 2030년까지 판매량 시장 점유율 및 성장률을 종류별, 용도별로 분류합니다.
– 2017년부터 2023년까지 세계 주요 국가의 판매량, 소비금액 및 시장 점유율과 함께 국가 레벨로 판매 데이터를 분류하고, 2025년부터 2030년까지 판매량 및 매출과 함께 지역, 종류 및 용도별로 집적 회로 제조용 리소그래피 시장 예측을 수행합니다.
– 시장 역학, 성장요인, 저해요인, 동향 및 포터의 다섯 가지 힘 분석.
– 주요 원자재 및 주요 공급 업체, 집적 회로 제조용 리소그래피의 산업 체인.
– 집적 회로 제조용 리소그래피 판매 채널, 유통 업체, 고객(수요기업), 조사 결과 및 결론을 설명합니다.
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■ 보고서 목차■ 시장 개요 ■ 제조업체 프로필 ASML Nikon Canon ■ 제조업체간 경쟁 환경 ■ 지역별 소비 분석 ■ 종류별 시장 세분화 ■ 용도별 시장 세분화 ■ 북미 ■ 유럽 ■ 아시아 태평양 ■ 남미 ■ 중동 및 아프리카 ■ 시장 역학 ■ 원자재 및 산업 체인 ■ 유통 채널별 출하량 ■ 조사 결과 [그림 목록]- 집적 회로 제조용 리소그래피 이미지 - 종류별 세계의 집적 회로 제조용 리소그래피 소비 금액 (2019 & 2023 & 2030) - 2023년 종류별 세계의 집적 회로 제조용 리소그래피 소비 금액 시장 점유율 - 용도별 세계의 집적 회로 제조용 리소그래피 소비 금액 (2019 & 2023 & 2030) - 2023년 용도별 세계의 집적 회로 제조용 리소그래피 소비 금액 시장 점유율 - 세계의 집적 회로 제조용 리소그래피 소비 금액 (2019 & 2023 & 2030) - 세계의 집적 회로 제조용 리소그래피 소비 금액 및 예측 (2019-2030) - 세계의 집적 회로 제조용 리소그래피 판매량 (2019-2030) - 세계의 집적 회로 제조용 리소그래피 평균 가격 (2019-2030) - 2023년 제조업체별 세계의 집적 회로 제조용 리소그래피 판매량 시장 점유율 - 2023년 제조업체별 세계의 집적 회로 제조용 리소그래피 소비 금액 시장 점유율 - 2023년 상위 3개 집적 회로 제조용 리소그래피 제조업체(소비 금액) 시장 점유율 - 2023년 상위 6개 집적 회로 제조용 리소그래피 제조업체(소비 금액) 시장 점유율 - 지역별 집적 회로 제조용 리소그래피 판매량 시장 점유율 - 지역별 집적 회로 제조용 리소그래피 소비 금액 시장 점유율 - 북미 집적 회로 제조용 리소그래피 소비 금액 - 유럽 집적 회로 제조용 리소그래피 소비 금액 - 아시아 태평양 집적 회로 제조용 리소그래피 소비 금액 - 남미 집적 회로 제조용 리소그래피 소비 금액 - 중동 및 아프리카 집적 회로 제조용 리소그래피 소비 금액 - 세계의 종류별 집적 회로 제조용 리소그래피 판매량 시장 점유율 - 세계의 종류별 집적 회로 제조용 리소그래피 소비 금액 시장 점유율 - 세계의 종류별 집적 회로 제조용 리소그래피 평균 가격 - 세계의 용도별 집적 회로 제조용 리소그래피 판매량 시장 점유율 - 세계의 용도별 집적 회로 제조용 리소그래피 소비 금액 시장 점유율 - 세계의 용도별 집적 회로 제조용 리소그래피 평균 가격 - 북미 집적 회로 제조용 리소그래피 종류별 판매량 시장 점유율 - 북미 집적 회로 제조용 리소그래피 용도별 판매 수량 시장 점유율 - 북미 집적 회로 제조용 리소그래피 국가별 판매 수량 시장 점유율 - 북미 집적 회로 제조용 리소그래피 국가별 소비 금액 시장 점유율 - 미국 집적 회로 제조용 리소그래피 소비 금액 및 성장률 - 캐나다 집적 회로 제조용 리소그래피 소비 금액 및 성장률 - 멕시코 집적 회로 제조용 리소그래피 소비 금액 및 성장률 - 유럽 집적 회로 제조용 리소그래피 종류별 판매량 시장 점유율 - 유럽 집적 회로 제조용 리소그래피 용도별 판매량 시장 점유율 - 유럽 집적 회로 제조용 리소그래피 국가별 판매량 시장 점유율 - 유럽 집적 회로 제조용 리소그래피 국가별 소비 금액 시장 점유율 - 독일 집적 회로 제조용 리소그래피 소비 금액 및 성장률 - 프랑스 집적 회로 제조용 리소그래피 소비 금액 및 성장률 - 영국 집적 회로 제조용 리소그래피 소비 금액 및 성장률 - 러시아 집적 회로 제조용 리소그래피 소비 금액 및 성장률 - 이탈리아 집적 회로 제조용 리소그래피 소비 금액 및 성장률 - 아시아 태평양 집적 회로 제조용 리소그래피 종류별 판매량 시장 점유율 - 아시아 태평양 집적 회로 제조용 리소그래피 용도별 판매량 시장 점유율 - 아시아 태평양 집적 회로 제조용 리소그래피 지역별 판매 수량 시장 점유율 - 아시아 태평양 집적 회로 제조용 리소그래피 지역별 소비 금액 시장 점유율 - 중국 집적 회로 제조용 리소그래피 소비 금액 및 성장률 - 일본 집적 회로 제조용 리소그래피 소비 금액 및 성장률 - 한국 집적 회로 제조용 리소그래피 소비 금액 및 성장률 - 인도 집적 회로 제조용 리소그래피 소비 금액 및 성장률 - 동남아시아 집적 회로 제조용 리소그래피 소비 금액 및 성장률 - 호주 집적 회로 제조용 리소그래피 소비 금액 및 성장률 - 남미 집적 회로 제조용 리소그래피 종류별 판매량 시장 점유율 - 남미 집적 회로 제조용 리소그래피 용도별 판매량 시장 점유율 - 남미 집적 회로 제조용 리소그래피 국가별 판매 수량 시장 점유율 - 남미 집적 회로 제조용 리소그래피 국가별 소비 금액 시장 점유율 - 브라질 집적 회로 제조용 리소그래피 소비 금액 및 성장률 - 아르헨티나 집적 회로 제조용 리소그래피 소비 금액 및 성장률 - 중동 및 아프리카 집적 회로 제조용 리소그래피 종류별 판매량 시장 점유율 - 중동 및 아프리카 집적 회로 제조용 리소그래피 용도별 판매량 시장 점유율 - 중동 및 아프리카 집적 회로 제조용 리소그래피 지역별 판매량 시장 점유율 - 중동 및 아프리카 집적 회로 제조용 리소그래피 지역별 소비 금액 시장 점유율 - 터키 집적 회로 제조용 리소그래피 소비 금액 및 성장률 - 이집트 집적 회로 제조용 리소그래피 소비 금액 및 성장률 - 사우디 아라비아 집적 회로 제조용 리소그래피 소비 금액 및 성장률 - 남아프리카 공화국 집적 회로 제조용 리소그래피 소비 금액 및 성장률 - 집적 회로 제조용 리소그래피 시장 성장 요인 - 집적 회로 제조용 리소그래피 시장 제약 요인 - 집적 회로 제조용 리소그래피 시장 동향 - 포터의 다섯 가지 힘 분석 - 2023년 집적 회로 제조용 리소그래피의 제조 비용 구조 분석 - 집적 회로 제조용 리소그래피의 제조 공정 분석 - 집적 회로 제조용 리소그래피 산업 체인 - 직접 채널 장단점 - 간접 채널 장단점 - 방법론 - 조사 프로세스 및 데이터 소스 ※납품 보고서의 구성항목 및 내용은 본 페이지에 기재된 내용과 다를 수 있습니다. 보고서 주문 전에 당사에 보고서 샘플을 요청해서 구성항목 및 기재 내용을 반드시 확인하시길 바랍니다. 보고서 샘플에 없는 내용은 납품 드리는 보고서에도 포함되지 않습니다. |
| ※참고 정보 집적 회로(IC) 제조에서 리소그래피는 마치 사진 현상과 유사한 과정으로, 웨이퍼 위에 복잡하고 미세한 회로 패턴을 새겨 넣는 핵심 공정입니다. 이 기술이 없다면 우리가 사용하는 스마트폰, 컴퓨터, 그리고 수많은 전자기기들은 상상조차 할 수 없을 것입니다. 리소그래피는 빛을 이용해 설계된 회로 패턴을 감광액으로 코팅된 웨이퍼에 전사하는 방식으로, 반도체 산업의 발전 속도를 결정짓는 중요한 기술이라 할 수 있습니다. 리소그래피의 기본 개념은 다음과 같습니다. 먼저, 마스크(mask)라는 틀에 집적 회로의 설계 패턴이 투명하거나 불투명한 영역으로 그려져 있습니다. 이 마스크는 집적 회로의 단면도를 담고 있으며, 마치 스텐실과 같은 역할을 합니다. 이후, 실리콘 웨이퍼는 감광액(photoresist)이라는 빛에 민감한 물질로 균일하게 코팅됩니다. 리소그래피 장비는 마스크를 통과한 빛(주로 자외선)을 웨이퍼에 조사하는데, 이때 빛이 조사된 부분과 조사되지 않은 부분의 감광액은 화학적 성질이 변하게 됩니다. 일반적으로, 빛에 의해 화학적 성질이 변하는 양성 감광액(positive photoresist)과 빛에 의해 화학적 성질이 변하지 않는 음성 감광액(negative photoresist)이 사용됩니다. 빛이 조사된 부분의 감광액이 제거되는 방식(양성 감광액) 또는 빛이 조사되지 않은 부분의 감광액이 제거되는 방식(음성 감광액)에 따라 웨이퍼에는 마스크의 패턴이 전사됩니다. 이렇게 감광액이 제거된 부분을 식각(etching) 공정을 통해 웨이퍼의 물질을 제거하거나, 증착(deposition) 공정을 통해 원하는 물질을 입혀 회로를 형성합니다. 이 과정이 수십 번, 수백 번 반복되어 최종적으로 복잡한 다층 구조의 집적 회로가 완성됩니다. 리소그래피 기술의 가장 큰 특징이자 동시에 끊임없는 도전 과제는 바로 해상도(resolution)입니다. 해상도는 얼마나 미세한 패턴을 정확하게 새길 수 있는지를 나타내는 지표이며, 이는 집적 회로의 집적도와 성능을 결정짓는 핵심 요소입니다. 해상도가 높을수록 더 많은 트랜지스터를 더 작은 면적에 집적할 수 있어, 반도체의 성능 향상과 소형화, 저전력화를 가능하게 합니다. 집적 회로의 성능은 단위 면적당 집적되는 부품의 수에 비례하는 경향이 강하므로, 리소그래피 기술의 발전은 곧 반도체 산업의 발전과 직결된다고 볼 수 있습니다. 리소그래피 기술은 사용하는 광원의 파장(wavelength)에 따라 크게 분류될 수 있습니다. 초기에는 가시광선이 사용되었지만, 회로 선폭이 점차 미세화되면서 더 짧은 파장의 자외선(ultraviolet, UV)으로 전환되었습니다. 대표적으로 i-line(365nm), KrF(248nm), ArF(193nm) 리소그래피가 사용되어 왔습니다. 특히, 193nm 파장의 ArF 리소그래피는 오랜 기간 동안 최첨단 미세 공정에서 핵심적인 역할을 수행해 왔습니다. 하지만 반도체 집적도가 기하급수적으로 증가함에 따라 193nm 파장으로는 더 이상 미세한 패턴을 구현하는 데 한계가 있었습니다. 이러한 한계를 극복하기 위해 등장한 기술이 바로 극자외선(Extreme Ultraviolet, EUV) 리소그래피입니다. EUV 리소그래피는 13.5nm라는 매우 짧은 파장의 빛을 사용하여 현재 기술로는 구현하기 어려운 수 나노미터(nm) 수준의 초미세 패턴을 직접적으로 새길 수 있습니다. 이는 기존의 리소그래피 기술로는 불가능했던 차세대 반도체 제조를 가능하게 하는 혁신적인 기술로 평가받고 있습니다. EUV 광원을 생성하는 과정부터 이를 정밀하게 제어하고 웨이퍼에 투과시키는 모든 과정이 매우 복잡하고 고도의 기술력을 요구합니다. EUV는 공기 중에 흡수되는 성질이 강하기 때문에 완벽하게 진공 상태인 환경에서 이루어져야 하며, 이를 위해 사용되는 반사 광학계(reflective optics) 역시 일반적인 투과형 렌즈와는 다르게 매우 정교한 거울을 사용해야 합니다. 이러한 어려움에도 불구하고, EUV 리소그래피는 삼성전자, TSMC와 같은 글로벌 파운드리 기업들을 중심으로 최첨단 미세 공정에서 필수적으로 사용되고 있으며, 앞으로도 반도체 기술의 발전을 이끌어갈 핵심 기술로 자리매김하고 있습니다. 리소그래피 공정은 단순히 빛을 쏘는 것 외에도 여러 관련 기술과 긴밀하게 연관되어 있습니다. 앞서 언급된 감광액의 성능은 리소그래피의 해상도와 정밀도를 좌우하는 중요한 요소입니다. 최근에는 극자외선(EUV)에 대한 반응성을 높이고, 더 얇으면서도 노광 에너지를 효과적으로 흡수하며, 현상 과정에서 발생하는 결함을 최소화하는 고성능 감광액 개발이 활발히 이루어지고 있습니다. 또한, 패턴을 정확하게 웨이퍼에 전사하기 위해서는 마스크 자체의 품질이 매우 중요합니다. 마스크는 매우 높은 정밀도로 패턴이 제작되어야 하며, 결함이 없어야 합니다. EUV 리소그래피의 경우, 마스크가 빛을 반사하기 때문에 마스크의 반사율과 반사 코팅의 균일성 또한 중요한 기술적 과제입니다. 또 다른 중요한 관련 기술로는 광학계 설계 및 제작 기술이 있습니다. 리소그래피 장비는 빛을 집속하고 왜곡 없이 패턴을 전사하기 위한 매우 복잡하고 정밀한 광학 시스템을 갖추고 있습니다. 특히, 빛의 회절 현상으로 인해 발생하는 해상도 한계를 극복하기 위해 다양한 광학 기술이 적용됩니다. 이러한 기술에는 심도(depth of focus)를 깊게 하여 패턴의 평탄도 요구를 완화하는 심도 제어 기술, 특정 각도로 빛을 입사시켜 해상도를 향상시키는 경사 조사(off-axis illumination) 기술, 그리고 마스크 패턴과 웨이퍼 패턴의 왜곡을 보정하는 컴퓨터 제어 광학 보정(computational lithography) 기술 등이 포함됩니다. 컴퓨터 제어 광학 보정 기술은 설계 데이터를 기반으로 마스크 패턴을 미리 변형하여, 실제 웨이퍼에 전사될 때 발생하는 광학적 왜곡이나 회절 효과를 상쇄시키는 방식으로 해상도를 극대화하는 기술입니다. 이는 사실상 디지털 신호 처리 및 컴퓨터 그래픽스와 같은 정보 기술과 융합된 결과라고 할 수 있습니다. 리소그래피는 반도체 산업뿐만 아니라, MEMS(Micro Electro Mechanical Systems) 장치 제작, 디스플레이 패널 제조, 마이크로유체역학 소자 제작 등 다양한 분야에서도 응용되고 있습니다. 집적 회로 제조에서의 핵심적인 역할은 물론, 우리 생활 속 다양한 첨단 기술 구현의 기반이 되고 있다고 할 수 있습니다. 요약하자면, 리소그래피는 집적 회로 제조의 핵심 공정으로, 빛을 이용하여 웨이퍼 위에 미세한 회로 패턴을 새기는 기술입니다. 해상도 향상이 기술 발전의 핵심이며, 파장의 단축을 통해 발전해 왔습니다. 특히 EUV 리소그래피는 초미세 패턴 구현을 가능하게 하는 혁신적인 기술로, 관련 감광액, 마스크, 광학계 설계 및 제어 기술과 같은 다양한 첨단 기술과의 융합을 통해 지속적으로 발전하고 있습니다. 이러한 리소그래피 기술의 발전은 반도체 성능 향상과 소형화, 그리고 더 나아가 현대 기술 문명의 발전을 견인하는 원동력이라 할 수 있습니다. |
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