| ■ 영문 제목 : Global Reticle POD Cleaner Market Growth 2025-2031 | |
 | ■ 상품코드 : LPK23JU1231 ■ 조사/발행회사 : LP Information ■ 발행일 : 2025년 3월 ■ 페이지수 : 78 ■ 작성언어 : 영어 ■ 보고서 형태 : PDF ■ 납품 방식 : E메일 ■ 조사대상 지역 : 글로벌 ■ 산업 분야 : 전자&반도체 |
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| LP인포메이션 (LPI) 의 최신 조사 자료는 레티클 POD 클리너의 과거 판매실적을 살펴보고 2024년의 레티클 POD 클리너 판매실적을 검토하여 2025년부터 2031년까지 예상되는 레티클 POD 클리너 판매에 대한 지역 및 시장 세그먼트별 포괄적인 분석을 제공합니다. 글로벌 레티클 POD 클리너 시장규모는 2024년 xxx백만 달러에서 연평균 xx% 성장하여 2031년에는 xxx백만 달러에 달할 것으로 예측되고 있습니다. 본 보고서의 시장규모 데이터는 무역 전쟁 및 러시아-우크라이나 전쟁의 영향을 반영했습니다. 본 조사 자료는 글로벌 레티클 POD 클리너 시장에 관해서 조사, 분석한 보고서로서, 기업별 시장 점유율, 지역별 시장규모 (미주, 미국, 캐나다, 멕시코, 브라질, 아시아 태평양, 중국, 일본, 한국, 동남아시아, 인도, 유럽, 독일, 프랑스, 영국, 이탈리아, 러시아, 중동/아프리카, 이집트, 남아프리카, 터키, 중동GCC국 등), 시장동향, 판매/유통업자/고객 리스트, 시장예측 (2026년-2031년), 주요 기업동향 (기업정보, 제품, 판매량, 매출, 가격, 매출총이익) 등의 정보를 수록하고 있습니다. 또한, 주요지역의 종류별 (EUV (극단 자외선) POD 클리너, 비EUV (비극단 자외선) POD 클리너) 시장규모와 용도별 (IDM, 파운드리) 시장규모 데이터도 포함되어 있습니다. ***** 목차 구성 ***** 보고서의 범위 경영자용 요약 - 글로벌 레티클 POD 클리너 시장규모 2020년-2031년 - 지역별 레티클 POD 클리너 시장분석 - 종류별 레티클 POD 클리너 시장규모 2020년-2025년 (EUV (극단 자외선) POD 클리너, 비EUV (비극단 자외선) POD 클리너) - 용도별 레티클 POD 클리너 시장규모 2020년-2025년 (IDM, 파운드리) 기업별 레티클 POD 클리너 시장분석 - 기업별 레티클 POD 클리너 판매량 - 기업별 레티클 POD 클리너 매출액 - 기업별 레티클 POD 클리너 판매가격 - 주요기업의 레티클 POD 클리너 생산거점, 판매거점 - 시장 집중도 분석 지역별 분석 - 지역별 레티클 POD 클리너 판매량 2020년-2025년 - 지역별 레티클 POD 클리너 매출액 2020년-2025년 미주 시장 - 미주의 레티클 POD 클리너 시장규모 2020년-2025년 - 미주의 레티클 POD 클리너 시장규모 : 종류별 - 미주의 레티클 POD 클리너 시장규모 : 용도별 - 미국 레티클 POD 클리너 시장규모 - 캐나다 레티클 POD 클리너 시장규모 - 멕시코 레티클 POD 클리너 시장규모 - 브라질 레티클 POD 클리너 시장규모 아시아 태평양 시장 - 아시아 태평양의 레티클 POD 클리너 시장규모 2020년-2025년 - 아시아 태평양의 레티클 POD 클리너 시장규모 : 종류별 - 아시아 태평양의 레티클 POD 클리너 시장규모 : 용도별 - 중국 레티클 POD 클리너 시장규모 - 일본 레티클 POD 클리너 시장규모 - 한국 레티클 POD 클리너 시장규모 - 동남아시아 레티클 POD 클리너 시장규모 - 인도 레티클 POD 클리너 시장규모 유럽 시장 - 유럽의 레티클 POD 클리너 시장규모 2020년-2025년 - 유럽의 레티클 POD 클리너 시장규모 : 종류별 - 유럽의 레티클 POD 클리너 시장규모 : 용도별 - 독일 레티클 POD 클리너 시장규모 - 프랑스 레티클 POD 클리너 시장규모 - 영국 레티클 POD 클리너 시장규모 중동/아프리카 시장 - 중동/아프리카의 레티클 POD 클리너 시장규모 2020년-2025년 - 중동/아프리카의 레티클 POD 클리너 시장규모 : 종류별 - 중동/아프리카의 레티클 POD 클리너 시장규모 : 용도별 - 이집트 레티클 POD 클리너 시장규모 - 남아프리카 레티클 POD 클리너 시장규모 - 중동GCC 레티클 POD 클리너 시장규모 시장의 성장요인, 과제, 동향 - 시장의 성장요인, 기회 - 시장의 과제, 리스크 - 산업 동향 제조원가 구조 분석 - 원재료 및 공급업체 - 레티클 POD 클리너의 제조원가 구조 분석 - 레티클 POD 클리너의 제조 프로세스 분석 - 레티클 POD 클리너의 산업체인 구조 마케팅, 유통업체, 고객 - 판매채널 - 레티클 POD 클리너의 유통업체 - 레티클 POD 클리너의 주요 고객 지역별 레티클 POD 클리너 시장 예측 - 지역별 레티클 POD 클리너 시장규모 예측 2026년-2031년 - 미주 시장 예측 - 아시아 태평양 시장 예측 - 유럽 시장 예측 - 중동/아프리카 시장 예측 - 레티클 POD 클리너의 종류별 시장예측 (EUV (극단 자외선) POD 클리너, 비EUV (비극단 자외선) POD 클리너) - 레티클 POD 클리너의 용도별 시장예측 (IDM, 파운드리) 주요 기업 분석 (기업정보, 제품, 판매량, 매출, 가격, 매출총이익) - Brooks Automation, Hugle Electronics, DEVICEENG 조사의 결과/결론 |
Reticle POD cleaner which is used in semiconductor process conveys POD for wafer on cleaning tray. Reticle POD cleaner can wash and dry 8 inch SMIF pods and also can wash 8 inch open cassettes, etc.
LPI (LP Information)’ newest research report, the “Reticle POD Cleaner Industry Forecast” looks at past sales and reviews total world Reticle POD Cleaner sales in 2024, providing a comprehensive analysis by region and market sector of projected Reticle POD Cleaner sales for 2025 through 2031. With Reticle POD Cleaner sales broken down by region, market sector and sub-sector, this report provides a detailed analysis in US$ millions of the world Reticle POD Cleaner industry.
This Insight Report provides a comprehensive analysis of the global Reticle POD Cleaner landscape and highlights key trends related to product segmentation, company formation, revenue, and market share, latest development, and M&A activity. This report also analyzes the strategies of leading global companies with a focus on Reticle POD Cleaner portfolios and capabilities, market entry strategies, market positions, and geographic footprints, to better understand these firms’ unique position in an accelerating global Reticle POD Cleaner market.
This Insight Report evaluates the key market trends, drivers, and affecting factors shaping the global outlook for Reticle POD Cleaner and breaks down the forecast by type, by application, geography, and market size to highlight emerging pockets of opportunity. With a transparent methodology based on hundreds of bottom-up qualitative and quantitative market inputs, this study forecast offers a highly nuanced view of the current state and future trajectory in the global Reticle POD Cleaner.
The global Reticle POD Cleaner market size is projected to grow from US$ 43 million in 2024 to US$ 60 million in 2031; it is expected to grow at a CAGR of 60 from 2025 to 2031.
The main global Reticle POD Cleaner players include Brooks Automation, Hugle Electronics, DEVICEENG, etc. The top three Reticle POD Cleaner players account for approximately 95% of the total global market. Asia-Pacific is the largest consumer market for Reticle POD Cleaner, accounting for about 79%, followed by Europe and North America. In terms of product, EUV POD Cleaner is the largest segment, with a share about 70%. And in terms of application, the largest application is IDM, followed by Foundry.
This report presents a comprehensive overview, market shares, and growth opportunities of Reticle POD Cleaner market by product type, application, key manufacturers and key regions and countries.
[Market Segmentation]
Segmentation by type
EUV POD Cleaner
Non-EUV POD Cleaner
Segmentation by application
IDM
Foundry
This report also splits the market by region:
Americas
United States
Canada
Mexico
Brazil
APAC
China
Japan
Korea
Southeast Asia
India
Australia
Europe
Germany
France
UK
Italy
Russia
Middle East & Africa
Egypt
South Africa
Israel
Turkey
GCC Countries
The below companies that are profiled have been selected based on inputs gathered from primary experts and analyzing the company’s coverage, product portfolio, its market penetration.
Brooks Automation
Hugle Electronics
DEVICEENG
[Key Questions Addressed in this Report]
What is the 10-year outlook for the global Reticle POD Cleaner market?
What factors are driving Reticle POD Cleaner market growth, globally and by region?
Which technologies are poised for the fastest growth by market and region?
How do Reticle POD Cleaner market opportunities vary by end market size?
How does Reticle POD Cleaner break out type, application?
What are the influences of trade war and Russia-Ukraine war?
1 Scope of the Report |
| ※참고 정보 레티클 POD 클리너는 반도체 제조 공정에서 매우 중요한 역할을 수행하는 장비입니다. 특히 리소그래피(Lithography) 공정에서 사용되는 마스크, 즉 레티클(Reticle)의 표면에 존재하는 미세한 먼지, 유기물, 금속 오염물 등을 효과적으로 제거하여 고수율의 반도체 생산을 가능하게 하는 핵심 기술이라고 할 수 있습니다. 본 내용은 레티클 POD 클리너의 개념과 관련 기술에 대해 자세히 설명하고자 합니다. 레티클 POD 클리너는 크게 두 가지 방식으로 나눌 수 있습니다. 첫 번째는 물리적인 세정 방법으로, 초음파 세정, 브러싱 세정, 제트 세정 등이 이에 해당합니다. 초음파 세정은 액체 내에서 초음파를 발생시켜 캐비테이션(Cavitation) 현상을 이용해 오염물을 제거하는 방식입니다. 미세한 기포가 생성되었다가 터지는 과정에서 발생하는 강력한 충격파가 레티클 표면의 오염물을 물리적으로 분리해냅니다. 브러싱 세정은 특수한 재질의 브러시를 사용하여 레티클 표면을 부드럽게 문질러 오염물을 제거하는 방식입니다. 이 경우 브러시의 재질과 회전 속도, 압력 등을 정밀하게 제어하여 레티클 표면 손상을 최소화하는 것이 중요합니다. 제트 세정은 고압의 액체나 가스를 분사하여 오염물을 제거하는 방식입니다. 특히 초고순도 탈이온수(DI water)나 특수 세정액을 사용하여 미세한 오염 입자까지 효과적으로 제거할 수 있습니다. 두 번째는 화학적인 세정 방법으로, 용액 세정, 플라즈마 세정 등이 대표적입니다. 용액 세정은 특정 화학 약품을 사용하여 레티클 표면의 오염물을 용해시키거나 화학 반응을 통해 제거하는 방식입니다. 이때 사용되는 세정액은 레티클의 재질과 오염물의 종류에 따라 신중하게 선택되어야 하며, 잔류물이 남지 않도록 충분한 헹굼 과정이 필수적입니다. 플라즈마 세정은 불활성 가스나 반응성 가스를 플라즈마 상태로 만들어 레티클 표면의 오염물을 물리적, 화학적으로 제거하는 방식입니다. 플라즈마는 높은 에너지를 가지고 있어 유기물이나 특정 금속 오염물을 효과적으로 분해시키거나 휘발성 물질로 만들어 제거할 수 있습니다. 플라즈마 세정은 건식 공정이므로 잔류 용액의 위험이 적다는 장점이 있지만, 레티클 소재에 따라 손상을 줄 수 있으므로 공정 조건 최적화가 매우 중요합니다. 레티클 POD 클리너의 핵심 특징은 다음과 같습니다. 첫째, 높은 세정 효율입니다. 반도체 제조 공정에서 요구되는 극미량의 오염까지 효과적으로 제거할 수 있어야 하므로, 다양한 세정 기술을 조합하거나 최적화하여 높은 세정 능력을 확보합니다. 둘째, 레티클 손상 방지입니다. 레티클은 매우 정밀하고 민감한 구조를 가지고 있기 때문에 세정 과정에서 표면이 손상되거나 변형되지 않도록 극도의 주의가 필요합니다. 이를 위해 세정액의 선택, 물리적인 힘의 조절, 플라즈마 공정 조건 등 모든 측면에서 레티클의 무결성을 유지하는 것이 최우선 과제입니다. 셋째, 재현성 및 자동화입니다. 일관된 품질의 세정을 위해서는 공정 변수들을 정밀하게 제어하고 자동화 시스템을 구축하여 반복적인 작업을 안정적으로 수행할 수 있어야 합니다. 이는 생산성 향상과 직결되는 중요한 요소입니다. 넷째, 클린룸 환경과의 호환성입니다. 레티클 POD 클리너는 반도체 제조 공정이 이루어지는 고청정 환경에서 사용되므로, 장비 자체에서 발생하는 미세 입자나 가스 오염을 최소화해야 합니다. 레티클 POD 클리너의 용도는 매우 명확합니다. 가장 주된 용도는 웨이퍼에 패턴을 전사하기 직전 레티클 표면의 오염을 제거하여 전사 오류를 방지하는 것입니다. 예를 들어, 리소그래피 공정에서 사용되는 광학 부품인 레티클은 빛을 투과하여 웨이퍼에 패턴을 형성하는 핵심 역할을 합니다. 만약 레티클 표면에 먼지나 얼룩이 있다면, 그 오염 부분은 빛을 제대로 투과시키지 못하거나 왜곡시켜 웨이퍼에 의도하지 않은 결함을 발생시킵니다. 이는 반도체 칩의 수율 저하로 직결되기 때문에, 공정 전 레티클을 완벽하게 세정하는 것이 필수적입니다. 또한, 레티클의 수명을 연장하기 위한 주기적인 세정 및 유지보수에도 사용됩니다. 레티클 POD 클리너와 관련된 주요 기술로는 정밀 유체 제어 기술, 플라즈마 발생 및 제어 기술, 센서 및 계측 기술, 자동화 및 로봇 기술 등이 있습니다. 정밀 유체 제어 기술은 세정액이나 용매를 정밀하게 공급하고 분사하는 기술로, 세정 효율을 높이고 불필요한 부품의 노출을 최소화하는 데 기여합니다. 플라즈마 발생 및 제어 기술은 플라즈마의 종류, 에너지 밀도, 반응 가스 등을 최적화하여 효과적이면서도 레티클에 안전한 세정을 구현하는 핵심 기술입니다. 센서 및 계측 기술은 오염 정도를 실시간으로 감지하고 세정 효과를 검증하는 데 사용됩니다. 예를 들어, 입자 계수기, 분광 분석기 등이 활용될 수 있습니다. 자동화 및 로봇 기술은 레티클의 이송, 장비 내부에서의 위치 제어, 공정 진행 등을 자동화하여 생산성과 안전성을 높입니다. 레티클 POD 클리너는 단순히 오염물을 제거하는 장비를 넘어, 반도체 생산의 수율과 품질을 좌우하는 매우 중요한 역할을 수행합니다. 첨단 반도체 제조 기술이 발전함에 따라 더욱 미세하고 복잡해지는 패턴을 구현해야 하므로, 레티클의 청정도는 더욱 중요해지고 있으며, 이에 따라 레티클 POD 클리너 기술 또한 지속적으로 발전하고 있습니다. 특히 EUV(Extreme Ultraviolet) 리소그래피와 같은 차세대 공정에서는 극미량의 오염도 치명적인 영향을 미칠 수 있으므로, 더욱 정교하고 혁신적인 세정 기술의 개발이 요구되고 있습니다. |
| ※본 조사보고서 [글로벌 레티클 POD 클리너 시장 2025-2031] (코드 : LPK23JU1231) 판매에 관한 면책사항을 반드시 확인하세요. |
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