| ■ 영문 제목 : Semiconductor Process Gases Market, Global Outlook and Forecast 2024-2030 | |
 | ■ 상품코드 : MONT2407F46588 ■ 조사/발행회사 : Market Monitor Global ■ 발행일 : 2024년 3월 ■ 페이지수 : 약100 ■ 작성언어 : 영어 ■ 보고서 형태 : PDF ■ 납품 방식 : E메일 (주문후 2-3일 소요) ■ 조사대상 지역 : 글로벌 ■ 산업 분야 : 부품/재료 |
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본 조사 보고서는 현재 동향, 시장 역학 및 미래 전망에 초점을 맞춰, 반도체 공정 가스 시장에 대한 포괄적인 분석을 제공합니다. 본 보고서는 북미, 유럽, 아시아 태평양 및 신흥 시장과 같은 주요 지역을 포함한 전 세계 반도체 공정 가스 시장을 대상으로 합니다. 또한 반도체 공정 가스의 성장을 주도하는 주요 요인, 업계가 직면한 과제 및 시장 참여자를 위한 잠재적 기회도 기재합니다.
글로벌 반도체 공정 가스 시장은 최근 몇 년 동안 환경 문제, 정부 인센티브 및 기술 발전의 증가로 인해 급속한 성장을 목격했습니다. 반도체 공정 가스 시장은 챔버 청소, 산화, 증착, 식각, 도핑, 기타를 포함한 다양한 이해 관계자에게 기회를 제공합니다. 민간 부문과 정부 간의 협력은 반도체 공정 가스 시장에 대한 지원 정책, 연구 개발 노력 및 투자를 가속화 할 수 있습니다. 또한 증가하는 소비자 수요는 시장 확장의 길을 제시합니다.
글로벌 반도체 공정 가스 시장은 2023년에 미화 XXX백만 달러로 조사되었으며 2030년까지 미화 XXX백만 달러에 도달할 것으로 예상되며, 예측 기간 동안 XXX%의 CAGR로 성장할 것으로 예상됩니다.
[주요 특징]
반도체 공정 가스 시장에 대한 조사 보고서에는 포괄적인 통찰력을 제공하고 이해 관계자의 의사 결정을 용이하게하는 몇 가지 주요 항목이 포함되어 있습니다.
요약 : 본 보고서는 반도체 공정 가스 시장의 주요 결과, 시장 동향 및 주요 통찰력에 대한 개요를 제공합니다.
시장 개요: 본 보고서는 반도체 공정 가스 시장의 정의, 역사적 추이, 현재 시장 규모를 포함한 포괄적인 개요를 제공합니다. 종류(예: 삼불화 질소, 염소 가스, 실리콘 가스, 암모니아 가스, 기타), 지역 및 용도별로 시장을 세분화하여 각 세그먼트 내의 주요 동인, 과제 및 기회를 중점적으로 다룹니다.
시장 역학: 본 보고서는 반도체 공정 가스 시장의 성장과 발전을 주도하는 시장 역학을 분석합니다. 본 보고서에는 정부 정책 및 규정, 기술 발전, 소비자 동향 및 선호도, 인프라 개발, 업계 협력에 대한 평가가 포함되어 있습니다. 이 분석은 이해 관계자가 반도체 공정 가스 시장의 궤적에 영향을 미치는 요인을 이해하는데 도움이됩니다.
경쟁 환경: 본 보고서는 반도체 공정 가스 시장내 경쟁 환경에 대한 심층 분석을 제공합니다. 여기에는 주요 시장 플레이어의 프로필, 시장 점유율, 전략, 제품 포트폴리오 및 최근 동향이 포함됩니다.
시장 세분화 및 예측: 본 보고서는 종류, 지역 및 용도와 같은 다양한 매개 변수를 기반으로 반도체 공정 가스 시장을 세분화합니다. 정량적 데이터 및 분석을 통해 각 세그먼트의 시장 규모와 성장 예측을 제공합니다. 이를 통해 이해 관계자가 성장 기회를 파악하고 정보에 입각한 투자 결정을 내릴 수 있습니다.
기술 동향: 본 보고서는 주요기술의 발전과 새로운 대체품 등 반도체 공정 가스 시장을 형성하는 주요 기술 동향을 강조합니다. 이러한 트렌드가 시장 성장, 채택률, 소비자 선호도에 미치는 영향을 분석합니다.
시장 과제와 기회: 본 보고서는 기술적 병목 현상, 비용 제한, 높은 진입 장벽 등 반도체 공정 가스 시장이 직면한 주요 과제를 파악하고 분석합니다. 또한 정부 인센티브, 신흥 시장, 이해관계자 간의 협업 등 시장 성장의 기회에 대해서도 강조합니다.
규제 및 정책 분석: 본 보고서는 정부 인센티브, 배출 기준, 인프라 개발 계획 등 반도체 공정 가스에 대한 규제 및 정책 환경을 평가합니다. 이러한 정책이 시장 성장에 미치는 영향을 분석하고 향후 규제 동향에 대한 인사이트를 제공합니다.
권장 사항 및 결론: 본 보고서는 소비자, 정책 입안자, 투자자, 인프라 제공업체 등 이해관계자를 위한 실행 가능한 권고 사항으로 마무리합니다. 이러한 권장 사항은 조사 결과를 바탕으로 반도체 공정 가스 시장의 주요 과제와 기회를 해결할 수 있습니다.
참고 데이터 및 부록: 보고서에는 분석 및 조사 결과를 입증하기 위한 보조 데이터, 차트, 그래프가 포함되어 있습니다. 또한 데이터 소스, 설문조사, 상세한 시장 예측과 같은 추가 세부 정보가 담긴 부록도 포함되어 있습니다.
[시장 세분화]
반도체 공정 가스 시장은 종류별 및 용도별로 세분화됩니다. 2019-2030년 기간 동안 세그먼트 간의 성장은 종류별 및 용도별로 시장규모에 대한 정확한 계산 및 예측을 볼륨 및 금액 측면에서 제공합니다.
■ 종류별 시장 세그먼트
– 삼불화 질소, 염소 가스, 실리콘 가스, 암모니아 가스, 기타
■ 용도별 시장 세그먼트
– 챔버 청소, 산화, 증착, 식각, 도핑, 기타
■ 지역별 및 국가별 글로벌 반도체 공정 가스 시장 점유율, 2023년(%)
– 북미 (미국, 캐나다, 멕시코)
– 유럽 (독일, 프랑스, 영국, 이탈리아, 러시아)
– 아시아 (중국, 일본, 한국, 동남아시아, 인도)
– 남미 (브라질, 아르헨티나)
– 중동 및 아프리카 (터키, 이스라엘, 사우디 아라비아, UAE)
■ 주요 업체
– Entegris, Pall Corporation, Taiyo Nippon Sanso (Matheson), Applied Energy Systems, Japan Pionics, NuPure, Sumitomo Seika, Tangshan Sunfar Silicon, Linde Gas, Air Liquide, Shinetsu, REC Silicon,,
[주요 챕터의 개요]
1 장 : 반도체 공정 가스의 정의, 시장 개요를 소개
2 장 : 매출 및 판매량을 기준으로한 글로벌 반도체 공정 가스 시장 규모
3 장 : 반도체 공정 가스 제조업체 경쟁 환경, 가격, 판매량 및 매출 시장 점유율, 최신 동향, M&A 정보 등에 대한 자세한 분석
4 장 : 종류별 시장 분석을 제공 (각 세그먼트의 시장 규모와 성장 잠재력을 다룸)
5 장 : 용도별 시장 분석을 제공 (각 세그먼트의 시장 규모와 성장 잠재력을 다룸)
6 장 : 지역 및 국가별 반도체 공정 가스 판매량. 각 지역 및 주요 국가의 시장 규모와 성장 잠재력에 대한 정량적 분석을 제공. 세계 각국의 시장 개발, 향후 개발 전망, 시장 기회을 소개
7 장 : 주요 업체의 프로필을 제공. 제품 판매, 매출, 가격, 총 마진, 제품 소개, 최근 동향 등 시장 내 주요 업체의 기본 상황을 자세히 소개
8 장 : 지역별 및 국가별 글로벌 반도체 공정 가스 시장규모
9 장 : 시장 역학, 시장의 최신 동향, 시장의 추진 요인 및 제한 요인, 업계내 업체가 직면한 과제 및 리스크, 업계의 관련 정책 분석을 소개
10 장 : 산업의 업 스트림 및 다운 스트림을 포함한 산업 체인 분석
11 장 : 보고서의 주요 요점 및 결론
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■ 보고서 목차1. 조사 및 분석 보고서 소개 2. 글로벌 반도체 공정 가스 전체 시장 규모 3. 기업 환경 4. 종류별 시장 분석 5. 용도별 시장 분석 6. 지역별 시장 분석 7. 제조업체 및 브랜드 프로필 Entegris, Pall Corporation, Taiyo Nippon Sanso (Matheson), Applied Energy Systems, Japan Pionics, NuPure, Sumitomo Seika, Tangshan Sunfar Silicon, Linde Gas, Air Liquide, Shinetsu, REC Silicon,, Entegris Pall Corporation Taiyo Nippon Sanso (Matheson) 8. 글로벌 반도체 공정 가스 생산 능력 분석 9. 주요 시장 동향, 기회, 동인 및 제약 요인 10. 반도체 공정 가스 공급망 분석 11. 결론 [그림 목록]- 종류별 반도체 공정 가스 세그먼트, 2023년 - 용도별 반도체 공정 가스 세그먼트, 2023년 - 글로벌 반도체 공정 가스 시장 개요, 2023년 - 글로벌 반도체 공정 가스 시장 규모: 2023년 VS 2030년 - 글로벌 반도체 공정 가스 매출, 2019-2030 - 글로벌 반도체 공정 가스 판매량: 2019-2030 - 반도체 공정 가스 매출 기준 상위 3개 및 5개 업체 시장 점유율, 2023년 - 글로벌 종류별 반도체 공정 가스 매출, 2023년 VS 2030년 - 글로벌 종류별 반도체 공정 가스 매출 시장 점유율 - 글로벌 종류별 반도체 공정 가스 판매량 시장 점유율 - 글로벌 종류별 반도체 공정 가스 가격 - 글로벌 용도별 반도체 공정 가스 매출, 2023년 VS 2030년 - 글로벌 용도별 반도체 공정 가스 매출 시장 점유율 - 글로벌 용도별 반도체 공정 가스 판매량 시장 점유율 - 글로벌 용도별 반도체 공정 가스 가격 - 지역별 반도체 공정 가스 매출, 2023년 VS 2030년 - 지역별 반도체 공정 가스 매출 시장 점유율 - 지역별 반도체 공정 가스 매출 시장 점유율 - 지역별 반도체 공정 가스 판매량 시장 점유율 - 북미 국가별 반도체 공정 가스 매출 시장 점유율 - 북미 국가별 반도체 공정 가스 판매량 시장 점유율 - 미국 반도체 공정 가스 시장규모 - 캐나다 반도체 공정 가스 시장규모 - 멕시코 반도체 공정 가스 시장규모 - 유럽 국가별 반도체 공정 가스 매출 시장 점유율 - 유럽 국가별 반도체 공정 가스 판매량 시장 점유율 - 독일 반도체 공정 가스 시장규모 - 프랑스 반도체 공정 가스 시장규모 - 영국 반도체 공정 가스 시장규모 - 이탈리아 반도체 공정 가스 시장규모 - 러시아 반도체 공정 가스 시장규모 - 아시아 지역별 반도체 공정 가스 매출 시장 점유율 - 아시아 지역별 반도체 공정 가스 판매량 시장 점유율 - 중국 반도체 공정 가스 시장규모 - 일본 반도체 공정 가스 시장규모 - 한국 반도체 공정 가스 시장규모 - 동남아시아 반도체 공정 가스 시장규모 - 인도 반도체 공정 가스 시장규모 - 남미 국가별 반도체 공정 가스 매출 시장 점유율 - 남미 국가별 반도체 공정 가스 판매량 시장 점유율 - 브라질 반도체 공정 가스 시장규모 - 아르헨티나 반도체 공정 가스 시장규모 - 중동 및 아프리카 국가별 반도체 공정 가스 매출 시장 점유율 - 중동 및 아프리카 국가별 반도체 공정 가스 판매량 시장 점유율 - 터키 반도체 공정 가스 시장규모 - 이스라엘 반도체 공정 가스 시장규모 - 사우디 아라비아 반도체 공정 가스 시장규모 - 아랍에미리트 반도체 공정 가스 시장규모 - 글로벌 반도체 공정 가스 생산 능력 - 지역별 반도체 공정 가스 생산량 비중, 2023년 VS 2030년 - 반도체 공정 가스 산업 가치 사슬 - 마케팅 채널 ※납품 보고서의 구성항목 및 내용은 본 페이지에 기재된 내용과 다를 수 있습니다. 보고서 주문 전에 당사에 보고서 샘플을 요청해서 구성항목 및 기재 내용을 반드시 확인하시길 바랍니다. 보고서 샘플에 없는 내용은 납품 드리는 보고서에도 포함되지 않습니다. |
| ※참고 정보 ## 반도체 공정 가스: 첨단 기술을 뒷받침하는 필수 요소 반도체 집적회로는 현대 문명의 근간을 이루는 핵심 기술이며, 이러한 집적회로를 생산하는 과정은 극도로 정밀하고 복잡한 여러 단계를 거칩니다. 이 과정에서 사용되는 다양한 화학물질 중에서도 '공정 가스'는 반도체 칩의 물리적, 전기적 특성을 결정짓는 매우 중요한 역할을 수행합니다. 반도체 공정 가스란, 반도체 웨이퍼 위에 미세한 회로 패턴을 형성하고, 불순물을 제거하며, 특정 물질을 증착하거나 식각하는 등의 다양한 공정에서 사용되는 순수하고 반응성이 높은 기체 상태의 화학물질을 총칭합니다. 이러한 공정 가스의 순도와 품질은 최종 반도체 제품의 성능, 수율, 신뢰성에 직접적인 영향을 미치기 때문에 매우 엄격하게 관리됩니다. 반도체 공정 가스는 그 특성상 일반적인 산업용 가스와는 차별화됩니다. 첫째, 극히 높은 순도를 요구합니다. 반도체 공정은 나노미터 단위의 미세한 패턴을 다루기 때문에 아주 적은 양의 불순물이라도 회로에 치명적인 결함을 유발할 수 있습니다. 따라서 공정 가스는 ppm(백만분의 일) 또는 ppb(십억분의 일) 수준을 넘어 ppt(조분의 일) 수준의 초고순도로 정제되어야 합니다. 둘째, 특정 반응성을 제어하는 능력이 중요합니다. 각 공정 단계마다 요구되는 화학적 반응을 정확하게 일으키거나, 특정 물질만을 선택적으로 제거해야 하므로 가스의 조성과 농도를 정밀하게 제어할 수 있어야 합니다. 셋째, 안전성 확보가 필수적입니다. 많은 공정 가스가 인화성, 폭발성, 독성 등 위험한 특성을 가지고 있어 취급, 저장, 운송 과정에서 철저한 안전 규정 준수와 특수 설비가 요구됩니다. 반도체 공정 가스의 종류는 매우 다양하며, 각 가스는 고유의 화학적 특성과 용도를 가지고 있습니다. 가장 기본적인 분류 중 하나는 **증착(Deposition)** 공정에서 사용되는 가스들입니다. 증착은 웨이퍼 표면에 얇은 막을 형성하는 공정으로, 다양한 종류의 절연막, 전도성 막, 반도체 막 등을 형성하는 데 사용됩니다. 예를 들어, **실리콘 다이옥사이드(SiO2)**를 형성하기 위한 **테트라에톡시실란(TEOS)** 또는 **디실란(Si2H6)**, **실리콘 질화막(Si3N4)**을 형성하기 위한 **암모니아(NH3)**와 **디실란**, 또는 **텅스텐(W)**과 같은 금속 막을 형성하기 위한 **텅스텐 헥사플루오라이드(WF6)** 등이 사용됩니다. 이러한 가스들은 특정 온도와 압력 조건에서 반응하여 웨이퍼 표면에 원하는 물질의 박막을 형성합니다. 다음으로 중요한 공정은 **식각(Etching)**입니다. 식각은 웨이퍼 표면에 형성된 감광막 패턴을 따라 불필요한 부분을 제거하여 미세한 회로 패턴을 구현하는 공정입니다. 식각 공정에는 크게 **습식 식각(Wet Etching)**과 **건식 식각(Dry Etching)**으로 나눌 수 있으며, 건식 식각에서 다양한 가스가 사용됩니다. 건식 식각은 플라즈마를 이용하여 식각하는 방식으로, 가스를 플라즈마 상태로 만들어 높은 에너지를 가진 이온이나 라디칼이 웨이퍼 표면의 물질과 반응하여 제거하는 원리입니다. 예를 들어, 실리콘 산화막(SiO2)을 식각하기 위해서는 **삼불화메탄(CHF3)**, **사불화탄소(CF4)**, **옥타플루오로사이클로부탄(C4F8)**과 같은 불소 계열 가스가 주로 사용됩니다. 이러한 가스들은 플라즈마 상태에서 반응성이 높은 라디칼을 생성하여 실리콘 산화막과의 화학적 반응을 통해 제거합니다. 실리콘이나 질화막을 식각하기 위해서는 **염소(Cl2)**, **사염화탄소(CCl4)**와 같은 염소 계열 가스가 사용되며, 이들은 물리적 스퍼터링 효과와 화학적 반응을 동시에 일으켜 식각 효율을 높입니다. 또한, 금속 배선 등을 형성하는 데 사용되는 **구리(Cu)**나 **텅스텐(W)** 등을 식각하기 위한 가스들도 다양하게 존재합니다. 이 외에도 반도체 공정에서는 다양한 종류의 가스가 사용됩니다. **불순물 주입(Doping)** 공정에서는 웨이퍼에 전기적 특성을 부여하기 위해 **붕소(B)**나 **인(P)**과 같은 원소를 주입하는데, 이때 **다이보란(B2H6)**이나 **포스핀(PH3)**과 같은 가스가 사용됩니다. 이 가스들은 고온에서 분해되어 반도체 결정 격자 내에 불순물 원자를 침투시키는 역할을 합니다. **세정(Cleaning)** 공정 역시 매우 중요합니다. 각 공정 단계가 끝날 때마다 웨이퍼 표면에 잔류하는 오염물질이나 잔류물을 제거해야 하는데, 이때 사용되는 가스로는 **수소(H2)**, **질소(N2)**, **암모니아(NH3)** 등이 있습니다. 특히 수소는 환원 작용을 통해 금속 산화물을 제거하는 데 효과적이며, 질소는 불활성 분위기를 조성하여 원치 않는 화학 반응을 방지하는 데 사용됩니다. 또한, 최근에는 극자외선(EUV) 노광 공정의 발달과 함께 **제논(Xe)**, **크립톤(Kr)**과 같은 희귀 가스들이 특정 식각 또는 표면 처리 공정에 활용되기도 합니다. 반도체 공정 가스의 안정적인 공급과 품질 관리는 반도체 제조의 핵심 경쟁력입니다. 이를 위해 가스의 생산부터 운송, 저장, 사용에 이르기까지 전 과정에 걸쳐 엄격한 품질 관리 시스템이 구축되어 있습니다. 고순도 가스 생산을 위해서는 특수 정제 기술이 필요하며, 이는 극저온 증류, 흡착, 막분리 등 다양한 물리화학적 방법을 활용합니다. 또한, 가스 사용량을 정밀하게 제어하기 위한 유량 제어 장치(Mass Flow Controller, MFC)와 같은 첨단 설비도 필수적입니다. 최근 반도체 기술의 발전 방향과 함께 공정 가스 분야에서도 새로운 기술적 요구사항이 대두되고 있습니다. 미세화 공정의 심화와 새로운 재료의 도입은 더욱 정밀하고 특화된 성능을 가진 공정 가스를 필요로 합니다. 예를 들어, 차세대 반도체 소자 구현을 위한 새로운 증착 및 식각 공정 개발과 함께 이온화된 가스나 특정 분자 구조를 가진 가스의 활용이 증가하고 있습니다. 또한, 환경 규제 강화와 안전 문제에 대한 관심 증가는 친환경적이고 안전한 대체 가스 개발의 필요성을 높이고 있습니다. 기존에 사용되던 특정 가스들의 환경 영향이나 독성 문제를 줄이기 위한 연구가 활발히 진행되고 있으며, 이를 대체할 수 있는 새로운 가스 소재 및 공정 기술 개발이 중요한 과제로 떠오르고 있습니다. 이처럼 반도체 공정 가스는 단순한 화학물질을 넘어, 첨단 반도체 기술의 발전을 견인하는 핵심 요소로서 그 중요성이 날로 증대되고 있습니다. 각 공정 단계에 최적화된 가스의 개발 및 활용, 그리고 이들 가스를 안전하고 효율적으로 관리하는 기술은 미래 반도체 산업의 경쟁력을 좌우하는 중요한 변수가 될 것입니다. |
| ※본 조사보고서 [글로벌 반도체 공정 가스 시장예측 2024-2030] (코드 : MONT2407F46588) 판매에 관한 면책사항을 반드시 확인하세요. |
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