| ■ 영문 제목 : Sputtering Equipment for Millimeter Wave Radar Market, Global Outlook and Forecast 2024-2030 | |
| ■ 상품코드 : MONT2407F49808 ■ 조사/발행회사 : Market Monitor Global ■ 발행일 : 2024년 3월 ■ 페이지수 : 약100 ■ 작성언어 : 영어 ■ 보고서 형태 : PDF ■ 납품 방식 : E메일 (주문후 2-3일 소요) ■ 조사대상 지역 : 글로벌 ■ 산업 분야 : IT/전자 | |
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본 조사 보고서는 현재 동향, 시장 역학 및 미래 전망에 초점을 맞춰, 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 시장에 대한 포괄적인 분석을 제공합니다. 본 보고서는 북미, 유럽, 아시아 태평양 및 신흥 시장과 같은 주요 지역을 포함한 전 세계 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 시장을 대상으로 합니다. 또한 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비의 성장을 주도하는 주요 요인, 업계가 직면한 과제 및 시장 참여자를 위한 잠재적 기회도 기재합니다.
글로벌 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 시장은 최근 몇 년 동안 환경 문제, 정부 인센티브 및 기술 발전의 증가로 인해 급속한 성장을 목격했습니다. 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 시장은 자동차, 반도체, 기타를 포함한 다양한 이해 관계자에게 기회를 제공합니다. 민간 부문과 정부 간의 협력은 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 시장에 대한 지원 정책, 연구 개발 노력 및 투자를 가속화 할 수 있습니다. 또한 증가하는 소비자 수요는 시장 확장의 길을 제시합니다.
글로벌 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 시장은 2023년에 미화 XXX백만 달러로 조사되었으며 2030년까지 미화 XXX백만 달러에 도달할 것으로 예상되며, 예측 기간 동안 XXX%의 CAGR로 성장할 것으로 예상됩니다.
[주요 특징]
밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 시장에 대한 조사 보고서에는 포괄적인 통찰력을 제공하고 이해 관계자의 의사 결정을 용이하게하는 몇 가지 주요 항목이 포함되어 있습니다.
요약 : 본 보고서는 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 시장의 주요 결과, 시장 동향 및 주요 통찰력에 대한 개요를 제공합니다.
시장 개요: 본 보고서는 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 시장의 정의, 역사적 추이, 현재 시장 규모를 포함한 포괄적인 개요를 제공합니다. 종류(예: 1 챔버, 3 챔버, 기타), 지역 및 용도별로 시장을 세분화하여 각 세그먼트 내의 주요 동인, 과제 및 기회를 중점적으로 다룹니다.
시장 역학: 본 보고서는 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 시장의 성장과 발전을 주도하는 시장 역학을 분석합니다. 본 보고서에는 정부 정책 및 규정, 기술 발전, 소비자 동향 및 선호도, 인프라 개발, 업계 협력에 대한 평가가 포함되어 있습니다. 이 분석은 이해 관계자가 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 시장의 궤적에 영향을 미치는 요인을 이해하는데 도움이됩니다.
경쟁 환경: 본 보고서는 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 시장내 경쟁 환경에 대한 심층 분석을 제공합니다. 여기에는 주요 시장 플레이어의 프로필, 시장 점유율, 전략, 제품 포트폴리오 및 최근 동향이 포함됩니다.
시장 세분화 및 예측: 본 보고서는 종류, 지역 및 용도와 같은 다양한 매개 변수를 기반으로 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 시장을 세분화합니다. 정량적 데이터 및 분석을 통해 각 세그먼트의 시장 규모와 성장 예측을 제공합니다. 이를 통해 이해 관계자가 성장 기회를 파악하고 정보에 입각한 투자 결정을 내릴 수 있습니다.
기술 동향: 본 보고서는 주요기술의 발전과 새로운 대체품 등 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 시장을 형성하는 주요 기술 동향을 강조합니다. 이러한 트렌드가 시장 성장, 채택률, 소비자 선호도에 미치는 영향을 분석합니다.
시장 과제와 기회: 본 보고서는 기술적 병목 현상, 비용 제한, 높은 진입 장벽 등 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 시장이 직면한 주요 과제를 파악하고 분석합니다. 또한 정부 인센티브, 신흥 시장, 이해관계자 간의 협업 등 시장 성장의 기회에 대해서도 강조합니다.
규제 및 정책 분석: 본 보고서는 정부 인센티브, 배출 기준, 인프라 개발 계획 등 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비에 대한 규제 및 정책 환경을 평가합니다. 이러한 정책이 시장 성장에 미치는 영향을 분석하고 향후 규제 동향에 대한 인사이트를 제공합니다.
권장 사항 및 결론: 본 보고서는 소비자, 정책 입안자, 투자자, 인프라 제공업체 등 이해관계자를 위한 실행 가능한 권고 사항으로 마무리합니다. 이러한 권장 사항은 조사 결과를 바탕으로 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 시장의 주요 과제와 기회를 해결할 수 있습니다.
참고 데이터 및 부록: 보고서에는 분석 및 조사 결과를 입증하기 위한 보조 데이터, 차트, 그래프가 포함되어 있습니다. 또한 데이터 소스, 설문조사, 상세한 시장 예측과 같은 추가 세부 정보가 담긴 부록도 포함되어 있습니다.
[시장 세분화]
밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 시장은 종류별 및 용도별로 세분화됩니다. 2019-2030년 기간 동안 세그먼트 간의 성장은 종류별 및 용도별로 시장규모에 대한 정확한 계산 및 예측을 볼륨 및 금액 측면에서 제공합니다.
■ 종류별 시장 세그먼트
– 1 챔버, 3 챔버, 기타
■ 용도별 시장 세그먼트
– 자동차, 반도체, 기타
■ 지역별 및 국가별 글로벌 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 시장 점유율, 2023년(%)
– 북미 (미국, 캐나다, 멕시코)
– 유럽 (독일, 프랑스, 영국, 이탈리아, 러시아)
– 아시아 (중국, 일본, 한국, 동남아시아, 인도)
– 남미 (브라질, 아르헨티나)
– 중동 및 아프리카 (터키, 이스라엘, 사우디 아라비아, UAE)
■ 주요 업체
– Shibaura Mechatronics, Shimadzu, PVD Products
[주요 챕터의 개요]
1 장 : 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비의 정의, 시장 개요를 소개
2 장 : 매출 및 판매량을 기준으로한 글로벌 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 시장 규모
3 장 : 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 제조업체 경쟁 환경, 가격, 판매량 및 매출 시장 점유율, 최신 동향, M&A 정보 등에 대한 자세한 분석
4 장 : 종류별 시장 분석을 제공 (각 세그먼트의 시장 규모와 성장 잠재력을 다룸)
5 장 : 용도별 시장 분석을 제공 (각 세그먼트의 시장 규모와 성장 잠재력을 다룸)
6 장 : 지역 및 국가별 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 판매량. 각 지역 및 주요 국가의 시장 규모와 성장 잠재력에 대한 정량적 분석을 제공. 세계 각국의 시장 개발, 향후 개발 전망, 시장 기회을 소개
7 장 : 주요 업체의 프로필을 제공. 제품 판매, 매출, 가격, 총 마진, 제품 소개, 최근 동향 등 시장 내 주요 업체의 기본 상황을 자세히 소개
8 장 : 지역별 및 국가별 글로벌 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 시장규모
9 장 : 시장 역학, 시장의 최신 동향, 시장의 추진 요인 및 제한 요인, 업계내 업체가 직면한 과제 및 리스크, 업계의 관련 정책 분석을 소개
10 장 : 산업의 업 스트림 및 다운 스트림을 포함한 산업 체인 분석
11 장 : 보고서의 주요 요점 및 결론
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■ 보고서 목차1. 조사 및 분석 보고서 소개 2. 글로벌 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 전체 시장 규모 3. 기업 환경 4. 종류별 시장 분석 5. 용도별 시장 분석 6. 지역별 시장 분석 7. 제조업체 및 브랜드 프로필 Shibaura Mechatronics, Shimadzu, PVD Products Shibaura Mechatronics Shimadzu PVD Products 8. 글로벌 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 생산 능력 분석 9. 주요 시장 동향, 기회, 동인 및 제약 요인 10. 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 공급망 분석 11. 결론 [그림 목록]- 종류별 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 세그먼트, 2023년 - 용도별 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 세그먼트, 2023년 - 글로벌 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 시장 개요, 2023년 - 글로벌 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 시장 규모: 2023년 VS 2030년 - 글로벌 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 매출, 2019-2030 - 글로벌 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 판매량: 2019-2030 - 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 매출 기준 상위 3개 및 5개 업체 시장 점유율, 2023년 - 글로벌 종류별 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 매출, 2023년 VS 2030년 - 글로벌 종류별 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 매출 시장 점유율 - 글로벌 종류별 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 판매량 시장 점유율 - 글로벌 종류별 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 가격 - 글로벌 용도별 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 매출, 2023년 VS 2030년 - 글로벌 용도별 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 매출 시장 점유율 - 글로벌 용도별 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 판매량 시장 점유율 - 글로벌 용도별 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 가격 - 지역별 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 매출, 2023년 VS 2030년 - 지역별 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 매출 시장 점유율 - 지역별 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 매출 시장 점유율 - 지역별 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 판매량 시장 점유율 - 북미 국가별 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 매출 시장 점유율 - 북미 국가별 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 판매량 시장 점유율 - 미국 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 시장규모 - 캐나다 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 시장규모 - 멕시코 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 시장규모 - 유럽 국가별 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 매출 시장 점유율 - 유럽 국가별 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 판매량 시장 점유율 - 독일 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 시장규모 - 프랑스 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 시장규모 - 영국 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 시장규모 - 이탈리아 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 시장규모 - 러시아 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 시장규모 - 아시아 지역별 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 매출 시장 점유율 - 아시아 지역별 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 판매량 시장 점유율 - 중국 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 시장규모 - 일본 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 시장규모 - 한국 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 시장규모 - 동남아시아 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 시장규모 - 인도 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 시장규모 - 남미 국가별 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 매출 시장 점유율 - 남미 국가별 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 판매량 시장 점유율 - 브라질 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 시장규모 - 아르헨티나 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 시장규모 - 중동 및 아프리카 국가별 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 매출 시장 점유율 - 중동 및 아프리카 국가별 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 판매량 시장 점유율 - 터키 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 시장규모 - 이스라엘 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 시장규모 - 사우디 아라비아 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 시장규모 - 아랍에미리트 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 시장규모 - 글로벌 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 생산 능력 - 지역별 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 생산량 비중, 2023년 VS 2030년 - 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 산업 가치 사슬 - 마케팅 채널 ※납품 보고서의 구성항목 및 내용은 본 페이지에 기재된 내용과 다를 수 있습니다. 보고서 주문 전에 당사에 보고서 샘플을 요청해서 구성항목 및 기재 내용을 반드시 확인하시길 바랍니다. 보고서 샘플에 없는 내용은 납품 드리는 보고서에도 포함되지 않습니다. |
| ※참고 정보 밀리미터파 레이더는 높은 주파수 대역(30~300 GHz)을 사용하여 주변 환경을 정밀하게 감지하는 첨단 레이더 기술입니다. 이러한 밀리미터파 레이더 시스템의 성능을 결정하는 핵심 부품 중 하나는 도파관(waveguide)이나 안테나와 같은 전자기파 전송 및 수신 소자입니다. 이러한 소자들은 고순도 금속 박막 또는 복합 재료 박막으로 코팅되어야 하는데, 이때 매우 중요한 역할을 하는 것이 바로 스퍼터링 장비입니다. 스퍼터링은 물리 증착(Physical Vapor Deposition, PVD)의 한 기법으로, 진공 챔버 내에서 아르곤과 같은 불활성 가스를 플라즈마 상태로 만든 후, 이온화된 가스 입자(주로 Ar+ 이온)를 높은 에너지로 가속시켜 타겟(target) 물질에 충돌시킵니다. 이 충돌로 인해 타겟 물질의 원자들이 튀어나오게 되고, 이 원자들이 기판(substrate) 표면에 증착되어 박막을 형성하는 원리입니다. 밀리미터파 레이더용으로 사용되는 스퍼터링 장비는 일반적인 스퍼터링 장비와는 달리, 밀리미터파 대역에서의 우수한 전송 특성 및 낮은 손실 특성을 구현하기 위한 특정 요구사항을 만족시켜야 합니다. 이는 주로 증착되는 박막의 조성, 두께, 균일도, 밀도, 표면 거칠기 등에 의해 결정되며, 이를 정밀하게 제어할 수 있는 스퍼터링 장비 기술이 요구됩니다. 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비의 주요 특징은 다음과 같습니다. 첫째, **고순도 및 저손실 박막 증착 능력**입니다. 밀리미터파는 파장이 짧기 때문에 박막의 미세한 불순물이나 구조적 결함이 신호 손실을 유발할 수 있습니다. 따라서 레이더 성능 저하를 최소화하기 위해 매우 높은 순도를 가진 금속이나 합금, 또는 특수한 유전체 박막을 증착할 수 있어야 합니다. 예를 들어, 구리(Cu), 금(Au), 은(Ag)과 같은 고전도성 금속 박막은 낮은 삽입 손실(insertion loss)을 제공하여 신호의 효율적인 전송을 돕습니다. 또한, 특정 유전체 박막은 임피던스 매칭(impedance matching)을 개선하고 반사 손실을 줄이는 데 기여합니다. 둘째, **뛰어난 박막 균일도 및 제어 능력**입니다. 밀리미터파 도파관이나 안테나 구조는 복잡하고 정밀한 형상을 가지는 경우가 많습니다. 이러한 구조물에 균일한 두께와 물성을 가진 박막을 증착하는 것은 매우 중요합니다. 스퍼터링 장비는 증착 과정에서 타겟과 기판의 거리, 플라즈마 상태, 기판 회전 속도 등을 정밀하게 제어함으로써 넓은 영역에 걸쳐 매우 균일한 박막을 형성할 수 있어야 합니다. 셋째, **다양한 재료 증착 가능성**입니다. 밀리미터파 레이더 시스템에는 단순히 전도성 박막뿐만 아니라, 절연, 반사 방지, 또는 특정 전자적 특성을 부여하기 위한 다양한 재료의 박막이 필요할 수 있습니다. 스퍼터링 장비는 금속, 합금, 산화물, 질화물 등 다양한 종류의 재료를 증착할 수 있는 유연성을 제공해야 합니다. 스퍼터링 장비의 종류는 크게 증착 방식에 따라 분류할 수 있습니다. 일반적인 스퍼터링 방식으로는 DC 스퍼터링(DC Sputtering)과 RF 스퍼터링(RF Sputtering)이 있습니다. DC 스퍼터링은 주로 전도성 타겟 물질을 증착하는 데 사용되며, 높은 증착 속도를 얻을 수 있다는 장점이 있습니다. 그러나 절연체 타겟에는 직접 적용하기 어렵습니다. RF 스퍼터링은 전도성 및 절연체 타겟 모두에 적용 가능하며, 플라즈마 안정성이 뛰어나 비교적 균일한 박막을 얻는 데 유리합니다. 밀리미터파 레이더 부품의 경우, 미세 구조가 많고 표면 상태가 중요하므로 높은 품질의 박막을 얻기 위해 이러한 기본 방식에 더하여 다양한 개량된 스퍼터링 기술들이 적용됩니다. 예를 들어, **마그네트론 스퍼터링(Magnetron Sputtering)**은 타겟 주변에 자기장을 발생시켜 플라즈마를 집중시키고 이온화율을 높여 증착 속도를 향상시키고 더 밀도 높은 박막을 얻는 데 유리합니다. 이는 고품질 박막을 요구하는 밀리미터파 레이더 부품 증착에 많이 활용됩니다. 또한, **이온빔 스퍼터링(Ion Beam Sputtering, IBS)**은 타겟 물질을 이온빔으로 직접 조사하여 스퍼터링하는 방식으로, 증착 속도는 상대적으로 낮지만 매우 높은 순도와 밀도, 그리고 뛰어난 박막 제어 능력을 제공하여 밀리미터파 대역에서의 손실을 최소화하는 데 최적화될 수 있습니다. 더불어, **반응성 스퍼터링(Reactive Sputtering)**은 스퍼터링 과정에서 산소(O2)나 질소(N2)와 같은 반응성 가스를 첨가하여 산화물(oxide)이나 질화물(nitride) 박막을 형성하는 기술로, 밀리미터파 레이더의 절연층이나 특정 기능성 박막 형성에 활용됩니다. **듀얼 타겟 스퍼터링(Dual Target Sputtering)**이나 **멀티 타겟 스퍼터링(Multi Target Sputtering)**과 같이 여러 개의 타겟을 동시에 사용하여 복합 재료 박막을 형성하거나 특정 조성비를 갖는 합금 박막을 증착하는 기술도 밀리미터파 레이더에서 요구되는 다양한 재료 특성을 구현하는 데 중요한 역할을 합니다. 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비의 주요 용도는 다음과 같습니다. 가장 중요한 용도는 **도파관 및 도파관 부품의 내부 코팅**입니다. 밀리미터파 신호는 도파관을 통해 전송되는데, 도파관 내부 표면에 고전도성 금속 박막을 코팅함으로써 신호 손실을 최소화하고 전송 효율을 극대화합니다. 또한, **안테나 소자의 제조 및 코팅**에도 사용됩니다. 밀리미터파 레이더의 고성능을 위해서는 정밀하게 설계된 안테나 구조가 필수적이며, 이러한 안테나 소자의 표면에 전도성 또는 반사 방지 박막을 증착하여 안테나의 이득(gain)과 효율을 향상시킬 수 있습니다. **임피던스 매칭 소자의 제작** 또한 중요한 용도 중 하나입니다. 레이더 시스템 내에서 서로 다른 임피던스를 가진 부품들을 효과적으로 연결하기 위해 정밀하게 설계된 임피던스 매칭 소자가 사용되는데, 이러한 소자의 성능은 스퍼터링으로 증착되는 박막의 특성에 크게 좌우됩니다. 더불어, **센서 및 필터 소자 제조**에도 활용될 수 있습니다. 밀리미터파 레이더 시스템에는 특정 주파수 대역의 신호만을 선택적으로 통과시키거나 특정 신호를 감지하는 다양한 수동 및 능동 소자들이 포함될 수 있으며, 이들 소자의 제작에도 스퍼터링 기술이 적용됩니다. 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비와 관련된 핵심 기술들은 다음과 같습니다. **플라즈마 제어 기술**은 스퍼터링 공정의 핵심이며, 플라즈마의 밀도, 온도, 이온 에너지 분포 등을 정밀하게 제어함으로써 박막의 조성, 결정 구조, 밀도, 표면 거칠기 등을 최적화하는 데 매우 중요합니다. **타겟 재료 및 설계 기술** 또한 중요합니다. 밀리미터파 레이더에서 요구되는 특정 전자기적 특성을 발현하는 고순도 타겟 재료를 개발하고, 타겟의 형상 및 구성 요소를 최적화하여 효율적인 스퍼터링을 유도하는 기술이 필요합니다. **공정 최적화 및 모니터링 기술**은 스퍼터링 파라미터(압력, 가스 유량, RF/DC 전력, 기판 온도 등)를 최적화하여 원하는 박막 특성을 얻는 것을 포함하며, 실시간으로 공정 상태를 모니터링하고 피드백 제어하는 기술은 공정의 재현성과 안정성을 보장하는 데 필수적입니다. 또한, **박막 특성 분석 및 평가 기술**은 증착된 박막의 두께, 균일도, 조성, 전기적 특성(전기 전도도, 유전 상수 등), 광학적 특성, 표면 형상 등을 정밀하게 분석하고 평가하여 공정을 개선하는 데 중요한 기반이 됩니다. 최근에는 인공지능(AI) 및 머신러닝(ML) 기술을 활용하여 스퍼터링 공정 변수를 최적화하고 불량률을 줄이는 연구도 활발히 진행되고 있습니다. 결론적으로, 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비는 높은 주파수 대역에서의 우수한 성능을 구현하기 위해 고순도, 저손실, 그리고 매우 정밀하게 제어된 박막을 증착하는 데 필수적인 첨단 장비입니다. 다양한 스퍼터링 기법의 발전과 함께 밀리미터파 레이더 기술의 발전 또한 가속화될 것이며, 이는 자율 주행 차량, 첨단 통신 시스템, 보안 검색 등 다양한 분야에서의 혁신을 이끌 것으로 기대됩니다. |

| ※본 조사보고서 [글로벌 밀리미터파 레이더용 스퍼터링 장비 시장예측 2024-2030] (코드 : MONT2407F49808) 판매에 관한 면책사항을 반드시 확인하세요. |
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