| ■ 영문 제목 : Sputtering Target Material Market, Global Outlook and Forecast 2024-2030 | |
 | ■ 상품코드 : MONT2407F49811 ■ 조사/발행회사 : Market Monitor Global ■ 발행일 : 2024년 3월 ■ 페이지수 : 약100 ■ 작성언어 : 영어 ■ 보고서 형태 : PDF ■ 납품 방식 : E메일 (주문후 2-3일 소요) ■ 조사대상 지역 : 글로벌 ■ 산업 분야 : 부품/재료 |
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본 조사 보고서는 현재 동향, 시장 역학 및 미래 전망에 초점을 맞춰, 스퍼터링 타겟 재료 시장에 대한 포괄적인 분석을 제공합니다. 본 보고서는 북미, 유럽, 아시아 태평양 및 신흥 시장과 같은 주요 지역을 포함한 전 세계 스퍼터링 타겟 재료 시장을 대상으로 합니다. 또한 스퍼터링 타겟 재료의 성장을 주도하는 주요 요인, 업계가 직면한 과제 및 시장 참여자를 위한 잠재적 기회도 기재합니다.
글로벌 스퍼터링 타겟 재료 시장은 최근 몇 년 동안 환경 문제, 정부 인센티브 및 기술 발전의 증가로 인해 급속한 성장을 목격했습니다. 스퍼터링 타겟 재료 시장은 반도체, 태양열, LCD 평판 디스플레이, 기타 평판 디스플레이를 포함한 다양한 이해 관계자에게 기회를 제공합니다. 민간 부문과 정부 간의 협력은 스퍼터링 타겟 재료 시장에 대한 지원 정책, 연구 개발 노력 및 투자를 가속화 할 수 있습니다. 또한 증가하는 소비자 수요는 시장 확장의 길을 제시합니다.
글로벌 스퍼터링 타겟 재료 시장은 2023년에 미화 XXX백만 달러로 조사되었으며 2030년까지 미화 XXX백만 달러에 도달할 것으로 예상되며, 예측 기간 동안 XXX%의 CAGR로 성장할 것으로 예상됩니다.
[주요 특징]
스퍼터링 타겟 재료 시장에 대한 조사 보고서에는 포괄적인 통찰력을 제공하고 이해 관계자의 의사 결정을 용이하게하는 몇 가지 주요 항목이 포함되어 있습니다.
요약 : 본 보고서는 스퍼터링 타겟 재료 시장의 주요 결과, 시장 동향 및 주요 통찰력에 대한 개요를 제공합니다.
시장 개요: 본 보고서는 스퍼터링 타겟 재료 시장의 정의, 역사적 추이, 현재 시장 규모를 포함한 포괄적인 개요를 제공합니다. 종류(예: 금속 타겟, 합금 타겟, 세라믹 복합 타겟), 지역 및 용도별로 시장을 세분화하여 각 세그먼트 내의 주요 동인, 과제 및 기회를 중점적으로 다룹니다.
시장 역학: 본 보고서는 스퍼터링 타겟 재료 시장의 성장과 발전을 주도하는 시장 역학을 분석합니다. 본 보고서에는 정부 정책 및 규정, 기술 발전, 소비자 동향 및 선호도, 인프라 개발, 업계 협력에 대한 평가가 포함되어 있습니다. 이 분석은 이해 관계자가 스퍼터링 타겟 재료 시장의 궤적에 영향을 미치는 요인을 이해하는데 도움이됩니다.
경쟁 환경: 본 보고서는 스퍼터링 타겟 재료 시장내 경쟁 환경에 대한 심층 분석을 제공합니다. 여기에는 주요 시장 플레이어의 프로필, 시장 점유율, 전략, 제품 포트폴리오 및 최근 동향이 포함됩니다.
시장 세분화 및 예측: 본 보고서는 종류, 지역 및 용도와 같은 다양한 매개 변수를 기반으로 스퍼터링 타겟 재료 시장을 세분화합니다. 정량적 데이터 및 분석을 통해 각 세그먼트의 시장 규모와 성장 예측을 제공합니다. 이를 통해 이해 관계자가 성장 기회를 파악하고 정보에 입각한 투자 결정을 내릴 수 있습니다.
기술 동향: 본 보고서는 주요기술의 발전과 새로운 대체품 등 스퍼터링 타겟 재료 시장을 형성하는 주요 기술 동향을 강조합니다. 이러한 트렌드가 시장 성장, 채택률, 소비자 선호도에 미치는 영향을 분석합니다.
시장 과제와 기회: 본 보고서는 기술적 병목 현상, 비용 제한, 높은 진입 장벽 등 스퍼터링 타겟 재료 시장이 직면한 주요 과제를 파악하고 분석합니다. 또한 정부 인센티브, 신흥 시장, 이해관계자 간의 협업 등 시장 성장의 기회에 대해서도 강조합니다.
규제 및 정책 분석: 본 보고서는 정부 인센티브, 배출 기준, 인프라 개발 계획 등 스퍼터링 타겟 재료에 대한 규제 및 정책 환경을 평가합니다. 이러한 정책이 시장 성장에 미치는 영향을 분석하고 향후 규제 동향에 대한 인사이트를 제공합니다.
권장 사항 및 결론: 본 보고서는 소비자, 정책 입안자, 투자자, 인프라 제공업체 등 이해관계자를 위한 실행 가능한 권고 사항으로 마무리합니다. 이러한 권장 사항은 조사 결과를 바탕으로 스퍼터링 타겟 재료 시장의 주요 과제와 기회를 해결할 수 있습니다.
참고 데이터 및 부록: 보고서에는 분석 및 조사 결과를 입증하기 위한 보조 데이터, 차트, 그래프가 포함되어 있습니다. 또한 데이터 소스, 설문조사, 상세한 시장 예측과 같은 추가 세부 정보가 담긴 부록도 포함되어 있습니다.
[시장 세분화]
스퍼터링 타겟 재료 시장은 종류별 및 용도별로 세분화됩니다. 2019-2030년 기간 동안 세그먼트 간의 성장은 종류별 및 용도별로 시장규모에 대한 정확한 계산 및 예측을 볼륨 및 금액 측면에서 제공합니다.
■ 종류별 시장 세그먼트
– 금속 타겟, 합금 타겟, 세라믹 복합 타겟
■ 용도별 시장 세그먼트
– 반도체, 태양열, LCD 평판 디스플레이, 기타 평판 디스플레이
■ 지역별 및 국가별 글로벌 스퍼터링 타겟 재료 시장 점유율, 2023년(%)
– 북미 (미국, 캐나다, 멕시코)
– 유럽 (독일, 프랑스, 영국, 이탈리아, 러시아)
– 아시아 (중국, 일본, 한국, 동남아시아, 인도)
– 남미 (브라질, 아르헨티나)
– 중동 및 아프리카 (터키, 이스라엘, 사우디 아라비아, UAE)
■ 주요 업체
– Materion (Heraeus),JX Nippon Mining & Metals Corporation,Praxair,Plansee SE,Mitsui Mining & Smelting,Hitachi Metals,Honeywell,Sumitomo Chemical,ULVAC,GRIKIN Advanced Material Co., Ltd.,TOSOH,Ningbo Jiangfeng,Heesung,Luvata,Fujian Acetron New Materials Co., Ltd,Changzhou Sujing Electronic Material,Luoyang Sifon Electronic Materials,FURAYA Metals Co., Ltd,Advantec,Angstrom Sciences,Umicore Thin Film Products
[주요 챕터의 개요]
1 장 : 스퍼터링 타겟 재료의 정의, 시장 개요를 소개
2 장 : 매출 및 판매량을 기준으로한 글로벌 스퍼터링 타겟 재료 시장 규모
3 장 : 스퍼터링 타겟 재료 제조업체 경쟁 환경, 가격, 판매량 및 매출 시장 점유율, 최신 동향, M&A 정보 등에 대한 자세한 분석
4 장 : 종류별 시장 분석을 제공 (각 세그먼트의 시장 규모와 성장 잠재력을 다룸)
5 장 : 용도별 시장 분석을 제공 (각 세그먼트의 시장 규모와 성장 잠재력을 다룸)
6 장 : 지역 및 국가별 스퍼터링 타겟 재료 판매량. 각 지역 및 주요 국가의 시장 규모와 성장 잠재력에 대한 정량적 분석을 제공. 세계 각국의 시장 개발, 향후 개발 전망, 시장 기회을 소개
7 장 : 주요 업체의 프로필을 제공. 제품 판매, 매출, 가격, 총 마진, 제품 소개, 최근 동향 등 시장 내 주요 업체의 기본 상황을 자세히 소개
8 장 : 지역별 및 국가별 글로벌 스퍼터링 타겟 재료 시장규모
9 장 : 시장 역학, 시장의 최신 동향, 시장의 추진 요인 및 제한 요인, 업계내 업체가 직면한 과제 및 리스크, 업계의 관련 정책 분석을 소개
10 장 : 산업의 업 스트림 및 다운 스트림을 포함한 산업 체인 분석
11 장 : 보고서의 주요 요점 및 결론
※납품 보고서의 구성항목 및 내용은 본 페이지에 기재된 내용과 다를 수 있습니다. 보고서 주문 전에 당사에 보고서 샘플을 요청해서 구성항목 및 기재 내용을 반드시 확인하시길 바랍니다. 보고서 샘플에 없는 내용은 납품 드리는 보고서에도 포함되지 않습니다.
■ 보고서 목차1. 조사 및 분석 보고서 소개 2. 글로벌 스퍼터링 타겟 재료 전체 시장 규모 3. 기업 환경 4. 종류별 시장 분석 5. 용도별 시장 분석 6. 지역별 시장 분석 7. 제조업체 및 브랜드 프로필 Materion (Heraeus),JX Nippon Mining & Metals Corporation,Praxair,Plansee SE,Mitsui Mining & Smelting,Hitachi Metals,Honeywell,Sumitomo Chemical,ULVAC,GRIKIN Advanced Material Co., Ltd.,TOSOH,Ningbo Jiangfeng,Heesung,Luvata,Fujian Acetron New Materials Co., Ltd,Changzhou Sujing Electronic Material,Luoyang Sifon Electronic Materials,FURAYA Metals Co., Ltd,Advantec,Angstrom Sciences,Umicore Thin Film Products Materion (Heraeus) JX Nippon Mining & Metals Corporation Praxair 8. 글로벌 스퍼터링 타겟 재료 생산 능력 분석 9. 주요 시장 동향, 기회, 동인 및 제약 요인 10. 스퍼터링 타겟 재료 공급망 분석 11. 결론 [그림 목록]- 종류별 스퍼터링 타겟 재료 세그먼트, 2023년 - 용도별 스퍼터링 타겟 재료 세그먼트, 2023년 - 글로벌 스퍼터링 타겟 재료 시장 개요, 2023년 - 글로벌 스퍼터링 타겟 재료 시장 규모: 2023년 VS 2030년 - 글로벌 스퍼터링 타겟 재료 매출, 2019-2030 - 글로벌 스퍼터링 타겟 재료 판매량: 2019-2030 - 스퍼터링 타겟 재료 매출 기준 상위 3개 및 5개 업체 시장 점유율, 2023년 - 글로벌 종류별 스퍼터링 타겟 재료 매출, 2023년 VS 2030년 - 글로벌 종류별 스퍼터링 타겟 재료 매출 시장 점유율 - 글로벌 종류별 스퍼터링 타겟 재료 판매량 시장 점유율 - 글로벌 종류별 스퍼터링 타겟 재료 가격 - 글로벌 용도별 스퍼터링 타겟 재료 매출, 2023년 VS 2030년 - 글로벌 용도별 스퍼터링 타겟 재료 매출 시장 점유율 - 글로벌 용도별 스퍼터링 타겟 재료 판매량 시장 점유율 - 글로벌 용도별 스퍼터링 타겟 재료 가격 - 지역별 스퍼터링 타겟 재료 매출, 2023년 VS 2030년 - 지역별 스퍼터링 타겟 재료 매출 시장 점유율 - 지역별 스퍼터링 타겟 재료 매출 시장 점유율 - 지역별 스퍼터링 타겟 재료 판매량 시장 점유율 - 북미 국가별 스퍼터링 타겟 재료 매출 시장 점유율 - 북미 국가별 스퍼터링 타겟 재료 판매량 시장 점유율 - 미국 스퍼터링 타겟 재료 시장규모 - 캐나다 스퍼터링 타겟 재료 시장규모 - 멕시코 스퍼터링 타겟 재료 시장규모 - 유럽 국가별 스퍼터링 타겟 재료 매출 시장 점유율 - 유럽 국가별 스퍼터링 타겟 재료 판매량 시장 점유율 - 독일 스퍼터링 타겟 재료 시장규모 - 프랑스 스퍼터링 타겟 재료 시장규모 - 영국 스퍼터링 타겟 재료 시장규모 - 이탈리아 스퍼터링 타겟 재료 시장규모 - 러시아 스퍼터링 타겟 재료 시장규모 - 아시아 지역별 스퍼터링 타겟 재료 매출 시장 점유율 - 아시아 지역별 스퍼터링 타겟 재료 판매량 시장 점유율 - 중국 스퍼터링 타겟 재료 시장규모 - 일본 스퍼터링 타겟 재료 시장규모 - 한국 스퍼터링 타겟 재료 시장규모 - 동남아시아 스퍼터링 타겟 재료 시장규모 - 인도 스퍼터링 타겟 재료 시장규모 - 남미 국가별 스퍼터링 타겟 재료 매출 시장 점유율 - 남미 국가별 스퍼터링 타겟 재료 판매량 시장 점유율 - 브라질 스퍼터링 타겟 재료 시장규모 - 아르헨티나 스퍼터링 타겟 재료 시장규모 - 중동 및 아프리카 국가별 스퍼터링 타겟 재료 매출 시장 점유율 - 중동 및 아프리카 국가별 스퍼터링 타겟 재료 판매량 시장 점유율 - 터키 스퍼터링 타겟 재료 시장규모 - 이스라엘 스퍼터링 타겟 재료 시장규모 - 사우디 아라비아 스퍼터링 타겟 재료 시장규모 - 아랍에미리트 스퍼터링 타겟 재료 시장규모 - 글로벌 스퍼터링 타겟 재료 생산 능력 - 지역별 스퍼터링 타겟 재료 생산량 비중, 2023년 VS 2030년 - 스퍼터링 타겟 재료 산업 가치 사슬 - 마케팅 채널 ※납품 보고서의 구성항목 및 내용은 본 페이지에 기재된 내용과 다를 수 있습니다. 보고서 주문 전에 당사에 보고서 샘플을 요청해서 구성항목 및 기재 내용을 반드시 확인하시길 바랍니다. 보고서 샘플에 없는 내용은 납품 드리는 보고서에도 포함되지 않습니다. |
| ※참고 정보 스퍼터링 타겟 재료는 물리 기상 증착(Physical Vapor Deposition, PVD)의 한 종류인 스퍼터링(Sputtering) 공정에서 증착될 박막의 원재료로 사용되는 고체 물질을 의미합니다. 스퍼터링은 진공 또는 저압 환경에서 이온화된 기체(주로 아르곤)를 가속시켜 타겟 재료 표면에 충돌시키고, 이 충돌 에너지를 통해 타겟 재료의 원자나 분자를 떼어내어 기판 위에 증착시켜 박막을 형성하는 기술입니다. 이러한 스퍼터링 공정의 핵심적인 요소가 바로 타겟 재료이며, 증착하고자 하는 박막의 종류와 특성을 결정짓는 가장 중요한 요인이라 할 수 있습니다. 스퍼터링 타겟 재료의 중요한 특징 중 하나는 매우 높은 순도를 요구한다는 점입니다. 타겟 재료에 포함된 불순물은 증착되는 박막에도 그대로 반영되어, 박막의 전기적, 광학적, 기계적 특성에 심각한 영향을 미칠 수 있습니다. 예를 들어, 반도체 소자 제작에 사용되는 박막의 경우 극미량의 불순물도 소자의 성능 저하나 고장을 유발할 수 있으므로, 수 99.999% 이상의 고순도 타겟 재료가 필수적으로 요구됩니다. 또한, 타겟 재료는 스퍼터링 과정에서 안정적으로 원자를 방출할 수 있어야 하며, 장시간 사용에도 불구하고 성능 저하나 변형이 적어야 합니다. 이는 타겟 재료의 밀도, 결정 구조, 열전도성 등 다양한 물리적, 화학적 특성과 관련이 있습니다. 스퍼터링 타겟 재료는 매우 광범위한 종류를 가지고 있으며, 주로 증착하고자 하는 박막의 조성에 따라 결정됩니다. 가장 기본적인 형태로는 단일 원소로 구성된 금속 타겟이 있습니다. 예를 들어, 알루미늄(Al), 구리(Cu), 금(Au), 백금(Pt), 티타늄(Ti), 텅스텐(W) 등 다양한 금속들이 단일 원소 타겟으로 사용됩니다. 이러한 금속 박막은 전도성, 반사성, 접착성 등의 특성을 활용하여 다양한 전자 부품, 광학 코팅, 장식용 코팅 등에 응용됩니다. 이 외에도 두 개 이상의 원소가 결합된 합금 타겟, 산화물 타겟, 질화물 타겟, 탄화물 타겟 등 다양한 화합물 타겟도 존재합니다. 합금 타겟의 예로는 니켈-크롬(Ni-Cr), 스테인리스강(Stainless Steel) 등이 있으며, 내식성이나 특정 기계적 강도를 높이는 데 사용됩니다. 산화물 타겟으로는 산화알루미늄(Al₂O₃), 산화티타늄(TiO₂), 산화인듐주석(Indium Tin Oxide, ITO) 등이 대표적입니다. ITO는 투명 전도성 박막을 형성하는 데 널리 사용되며, 터치스크린, 디스플레이 패널 등에 필수적인 소재입니다. 질화물 타겟으로는 질화티타늄(TiN), 질화알루미늄(AlN) 등이 있으며, 이는 높은 경도, 내마모성, 내열성 등을 요구하는 코팅에 적용됩니다. 탄화물 타겟으로는 탄화규소(SiC) 등이 있으며, 역시 높은 경도와 내열성이 요구되는 응용 분야에 사용됩니다. 또한, 특정 용도에 맞춰 설계된 복합 타겟이나 다층 타겟도 사용됩니다. 예를 들어, 특정 비율의 합금을 만들기 위해 여러 금속을 혼합하거나, 서로 다른 스퍼터링 속도를 가진 원소들을 균일하게 증착시키기 위해 특별히 설계된 타겟이 개발되기도 합니다. 이러한 타겟들은 복잡한 조성의 박막을 안정적으로 형성하는 데 중요한 역할을 합니다. 스퍼터링 타겟 재료의 용도는 매우 다양하며, 현대 산업의 거의 모든 분야에 걸쳐 광범위하게 활용되고 있습니다. 반도체 산업에서는 트랜지스터의 게이트 전극, 배선, 접합층 등을 형성하기 위해 알루미늄, 구리, 텅스텐, 몰리브덴 등의 금속 타겟과 질화물 타겟이 사용됩니다. 디스플레이 산업에서는 LCD, OLED 등의 전극 및 투명 전도성 박막 형성에 ITO 타겟이 필수적이며, 산화물 타겟들이 광학적 특성을 조절하는 데 사용됩니다. 광학 산업에서는 렌즈, 거울, 필터 등의 표면에 반사율, 투과율, 경도 등을 조절하기 위해 금, 은, 알루미늄, 산화티타늄, 산화규소 등의 다양한 타겟이 사용됩니다. 이 외에도 자동차 산업에서는 헤드라이트 반사 코팅, 도어 핸들 장식 코팅 등에 금속 타겟이 활용되며, 의료 산업에서는 임플란트나 수술 도구의 생체 적합성 및 항균성을 높이기 위한 코팅에 티타늄, 질화티타늄 등의 타겟이 사용됩니다. 에너지 산업에서는 태양 전지의 효율을 높이기 위한 투명 전극이나 반사 코팅에 ITO, 은 등의 타겟이 사용되며, 자기 기록 매체나 센서 등에도 특정 금속 및 합금 타겟이 사용됩니다. 최근에는 고온 초전도체나 강자성체, 유전체 등 기능성 신소재 박막 형성에도 특수 타겟 재료들이 활발히 연구 및 개발되고 있습니다. 스퍼터링 타겟 재료와 관련된 기술은 타겟 재료 자체의 개발뿐만 아니라, 타겟을 효과적으로 제조하고 스퍼터링 공정에 적용하는 기술까지 포괄합니다. 고순도 타겟 재료를 제조하기 위해서는 불순물을 최소화하는 정련 공정 기술이 중요합니다. 또한, 타겟의 밀도를 높여 스퍼터링 효율을 증대시키고 장시간 사용을 가능하게 하는 소결 및 압출, 단조 등의 성형 기술도 중요하게 다루어집니다. 타겟의 표면 상태도 스퍼터링 효율과 박막 품질에 영향을 미치므로, 정밀한 가공 및 표면 처리 기술도 중요합니다. 스퍼터링 공정 자체에서도 타겟 재료의 특성을 최적으로 활용하기 위한 다양한 기술들이 개발되고 있습니다. 예를 들어, DC 스퍼터링, RF 스퍼터링, 마그네트론 스퍼터링, 반응성 스퍼터링 등 다양한 스퍼터링 방식이 타겟 재료의 종류와 증착하고자 하는 박막의 특성에 따라 선택됩니다. 특히 절연체나 산화물, 질화물 등은 DC 스퍼터링으로는 효과적으로 증착하기 어렵기 때문에 RF 스퍼터링이나 DC 마그네트론 스퍼터링을 개선한 방식이 사용됩니다. 또한, 원하는 박막 조성을 정밀하게 제어하기 위해 여러 개의 타겟을 동시에 사용하거나, 타겟의 스퍼터링 속도 차이를 보상하는 제어 기술도 발전하고 있습니다. 나아가, 플라즈마 발생 방식, 기판 온도, 증착 압력 등의 공정 변수들을 최적화하여 고품질의 박막을 얻기 위한 연구도 지속적으로 이루어지고 있습니다. 최신 기술로는 타겟의 손실을 최소화하고 스퍼터링 효율을 극대화하는 새로운 형태의 타겟 디자인이나, 연속적인 타겟 공급 방식을 사용하는 기술들도 개발되고 있습니다. |
| ※본 조사보고서 [글로벌 스퍼터링 타겟 재료 시장예측 2024-2030] (코드 : MONT2407F49811) 판매에 관한 면책사항을 반드시 확인하세요. |
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