| ■ 영문 제목 : Global Aluminum Sputtering Target Market Growth 2025-2031 | |
 | ■ 상품코드 : LPK23JL1320 ■ 조사/발행회사 : LP Information ■ 발행일 : 2025년 3월 ■ 페이지수 : 127 ■ 작성언어 : 영어 ■ 보고서 형태 : PDF ■ 납품 방식 : E메일 ■ 조사대상 지역 : 글로벌 ■ 산업 분야 : 전자&반도체 |
| Single User (1명 열람용) | USD3,660 ⇒환산￦4,941,000 | 견적의뢰/주문/질문 |
| Multi User (20명 열람용) | USD5,490 ⇒환산￦7,411,500 | 견적의뢰/주문/질문 |
| Corporate User (기업 열람용) | USD7,320 ⇒환산￦9,882,000 | 견적의뢰/구입/질문 |
|
※가격옵션 설명 - 납기는 즉일~2일소요됩니다. 3일이상 소요되는 경우는 별도표기 또는 연락드립니다. - 지불방법은 계좌이체/무통장입금 또는 카드결제입니다. |
| LPI (LP Information)의 최신 조사 보고서는 알루미늄 스퍼터링 타겟의 과거 판매실적을 살펴보고 2024년의 알루미늄 스퍼터링 타겟 판매실적을 검토하여 2025년부터 2031년까지 예상되는 알루미늄 스퍼터링 타겟 판매에 대한 지역 및 시장 세그먼트별 포괄적인 분석을 제공합니다. 세계의 알루미늄 스퍼터링 타겟 시장규모는 2024년 xxx백만 달러에서 연평균 xx% 성장하여 2031년에는 xxx백만 달러에 달할 것으로 예측되고 있습니다. 본 보고서의 시장규모 데이터는 무역 전쟁 및 러시아-우크라이나 전쟁의 영향을 반영했습니다. 본 보고서는 알루미늄 스퍼터링 타겟의 세계시장에 관해서 조사, 분석한 자료로서, 기업별 시장 점유율, 지역별 시장규모 (미주, 미국, 캐나다, 멕시코, 브라질, 아시아, 중국, 일본, 한국, 동남아시아, 인도, 유럽, 독일, 프랑스, 영국, 이탈리아, 러시아, 중동/아프리카, 이집트, 남아프리카, 터키, 중동GCC국 등), 시장동향, 판매/유통업자/고객 리스트, 시장예측 (2026년-2031년), 주요 기업동향 (기업정보, 제품, 판매량, 매출, 가격, 매출총이익) 등의 정보를 포함하고 있습니다. 또한, 주요지역의 종류별 시장규모 (저순도 알루미늄 스퍼터링 타겟, 고순도 알루미늄 스퍼터링 타겟, 초고순도 알루미늄 스퍼터링 타겟)와 용도별 시장규모 (반도체, 태양 전지, 평판 디스플레이, 기타) 데이터도 수록되어 있습니다. ***** 목차 구성 ***** 보고서의 범위 경영자용 요약 - 세계의 알루미늄 스퍼터링 타겟 시장규모 2020년-2031년 - 지역별 알루미늄 스퍼터링 타겟 시장분석 - 종류별 알루미늄 스퍼터링 타겟 시장규모 2020년-2025년 (저순도 알루미늄 스퍼터링 타겟, 고순도 알루미늄 스퍼터링 타겟, 초고순도 알루미늄 스퍼터링 타겟) - 용도별 알루미늄 스퍼터링 타겟 시장규모 2020년-2025년 (반도체, 태양 전지, 평판 디스플레이, 기타) 기업별 알루미늄 스퍼터링 타겟 시장분석 - 기업별 알루미늄 스퍼터링 타겟 판매량 - 기업별 알루미늄 스퍼터링 타겟 매출액 - 기업별 알루미늄 스퍼터링 타겟 판매가격 - 주요기업의 알루미늄 스퍼터링 타겟 생산거점, 판매거점 - 시장 집중도 분석 지역별 분석 - 지역별 알루미늄 스퍼터링 타겟 판매량 2020년-2025년 - 지역별 알루미늄 스퍼터링 타겟 매출액 2020년-2025년 미주 시장 - 미주의 알루미늄 스퍼터링 타겟 시장규모 2020년-2025년 - 미주의 알루미늄 스퍼터링 타겟 시장규모 : 종류별 - 미주의 알루미늄 스퍼터링 타겟 시장규모 : 용도별 - 미국 알루미늄 스퍼터링 타겟 시장규모 - 캐나다 알루미늄 스퍼터링 타겟 시장규모 - 멕시코 알루미늄 스퍼터링 타겟 시장규모 - 브라질 알루미늄 스퍼터링 타겟 시장규모 아시아 시장 - 아시아의 알루미늄 스퍼터링 타겟 시장규모 2020년-2025년 - 아시아의 알루미늄 스퍼터링 타겟 시장규모 : 종류별 - 아시아의 알루미늄 스퍼터링 타겟 시장규모 : 용도별 - 중국 알루미늄 스퍼터링 타겟 시장규모 - 일본 알루미늄 스퍼터링 타겟 시장규모 - 한국 알루미늄 스퍼터링 타겟 시장규모 - 동남아시아 알루미늄 스퍼터링 타겟 시장규모 - 인도 알루미늄 스퍼터링 타겟 시장규모 유럽 시장 - 유럽의 알루미늄 스퍼터링 타겟 시장규모 2020년-2025년 - 유럽의 알루미늄 스퍼터링 타겟 시장규모 : 종류별 - 유럽의 알루미늄 스퍼터링 타겟 시장규모 : 용도별 - 독일 알루미늄 스퍼터링 타겟 시장규모 - 프랑스 알루미늄 스퍼터링 타겟 시장규모 - 영국 알루미늄 스퍼터링 타겟 시장규모 중동/아프리카 시장 - 중동/아프리카의 알루미늄 스퍼터링 타겟 시장규모 2020년-2025년 - 중동/아프리카의 알루미늄 스퍼터링 타겟 시장규모 : 종류별 - 중동/아프리카의 알루미늄 스퍼터링 타겟 시장규모 : 용도별 - 이집트 알루미늄 스퍼터링 타겟 시장규모 - 남아프리카 알루미늄 스퍼터링 타겟 시장규모 - 중동GCC 알루미늄 스퍼터링 타겟 시장규모 시장의 성장요인, 과제, 동향 - 시장의 성장요인, 기회 - 시장의 과제, 리스크 - 산업 동향 제조원가 구조 분석 - 원재료 및 공급업체 - 알루미늄 스퍼터링 타겟의 제조원가 구조 분석 - 알루미늄 스퍼터링 타겟의 제조 프로세스 분석 - 알루미늄 스퍼터링 타겟의 산업체인 구조 마케팅, 유통업체, 고객 - 판매채널 - 알루미늄 스퍼터링 타겟의 유통업체 - 알루미늄 스퍼터링 타겟의 주요 고객 지역별 알루미늄 스퍼터링 타겟 시장 예측 - 지역별 알루미늄 스퍼터링 타겟 시장규모 예측 2026년-2031년 - 미주 지역 예측 - 아시아 지역 예측 - 유럽 지역 예측 - 중동/아프리카 지역 예측 - 알루미늄 스퍼터링 타겟의 종류별 시장예측 (저순도 알루미늄 스퍼터링 타겟, 고순도 알루미늄 스퍼터링 타겟, 초고순도 알루미늄 스퍼터링 타겟) - 알루미늄 스퍼터링 타겟의 용도별 시장예측 (반도체, 태양 전지, 평판 디스플레이, 기타) 주요 기업 분석 (기업정보, 제품, 판매량, 매출, 가격, 매출총이익) - JX Nippon Mining & Metals Corporation, Praxair, Plansee SE, Mitsui Mining & Smelting, Hitachi Metals, Honeywell, Sumitomo Chemical, ULVAC, Materion (Heraeus), GRIKIN Advanced Material Co., Ltd., TOSOH, Ningbo Jiangfeng, Heesung, Luvata, Fujian Acetron New Materials Co., Ltd, Changzhou Sujing Electronic Material, Luoyang Sifon Electronic Materials, FURAYA Metals Co., Ltd, Advantec, Angstrom Sciences, Umicore Thin Film Products 조사의 결론 |
Aluminum Sputtering Target is a material that is used to create thin films in a technique known as sputter deposition, or thin film deposition.
LPI (LP Information)’ newest research report, the “Aluminum Sputtering Target Industry Forecast” looks at past sales and reviews total world Aluminum Sputtering Target sales in 2024, providing a comprehensive analysis by region and market sector of projected Aluminum Sputtering Target sales for 2025 through 2031. With Aluminum Sputtering Target sales broken down by region, market sector and sub-sector, this report provides a detailed analysis in US$ millions of the world Aluminum Sputtering Target industry.
This Insight Report provides a comprehensive analysis of the global Aluminum Sputtering Target landscape and highlights key trends related to product segmentation, company formation, revenue, and market share, latest development, and M&A activity. This report also analyzes the strategies of leading global companies with a focus on Aluminum Sputtering Target portfolios and capabilities, market entry strategies, market positions, and geographic footprints, to better understand these firms’ unique position in an accelerating global Aluminum Sputtering Target market.
This Insight Report evaluates the key market trends, drivers, and affecting factors shaping the global outlook for Aluminum Sputtering Target and breaks down the forecast by type, by application, geography, and market size to highlight emerging pockets of opportunity. With a transparent methodology based on hundreds of bottom-up qualitative and quantitative market inputs, this study forecast offers a highly nuanced view of the current state and future trajectory in the global Aluminum Sputtering Target.
The global Aluminum Sputtering Target market size is projected to grow from US$ million in 2024 to US$ million in 2031; it is expected to grow at a CAGR of % from 2025 to 2031.
United States market for Aluminum Sputtering Target is estimated to increase from US$ million in 2024 to US$ million by 2031, at a CAGR of % from 2025 through 2031.
China market for Aluminum Sputtering Target is estimated to increase from US$ million in 2024 to US$ million by 2031, at a CAGR of % from 2025 through 2031.
Europe market for Aluminum Sputtering Target is estimated to increase from US$ million in 2024 to US$ million by 2031, at a CAGR of % from 2025 through 2031.
Global key Aluminum Sputtering Target players cover JX Nippon Mining & Metals Corporation, Praxair, Plansee SE, Mitsui Mining & Smelting, Hitachi Metals, Honeywell, Sumitomo Chemical, ULVAC and Materion (Heraeus), etc. In terms of revenue, the global two largest companies occupied for a share nearly % in 2024.
This report presents a comprehensive overview, market shares, and growth opportunities of Aluminum Sputtering Target market by product type, application, key manufacturers and key regions and countries.
[Market Segmentation]
Segmentation by type
Low Purity Aluminum Sputtering Target
High Purity Aluminum Sputtering Target
Ultra High Purity Aluminum Sputtering Target
Segmentation by application
Semiconductors
Solar Cell
Flat Panel Display
Others
This report also splits the market by region:
Americas
United States
Canada
Mexico
Brazil
APAC
China
Japan
Korea
Southeast Asia
India
Australia
Europe
Germany
France
UK
Italy
Russia
Middle East & Africa
Egypt
South Africa
Israel
Turkey
GCC Countries
The below companies that are profiled have been selected based on inputs gathered from primary experts and analyzing the company’s coverage, product portfolio, its market penetration.
JX Nippon Mining & Metals Corporation
Praxair
Plansee SE
Mitsui Mining & Smelting
Hitachi Metals
Honeywell
Sumitomo Chemical
ULVAC
Materion (Heraeus)
GRIKIN Advanced Material Co., Ltd.
TOSOH
Ningbo Jiangfeng
Heesung
Luvata
Fujian Acetron New Materials Co., Ltd
Changzhou Sujing Electronic Material
Luoyang Sifon Electronic Materials
FURAYA Metals Co., Ltd
Advantec
Angstrom Sciences
Umicore Thin Film Products
[Key Questions Addressed in this Report]
What is the 10-year outlook for the global Aluminum Sputtering Target market?
What factors are driving Aluminum Sputtering Target market growth, globally and by region?
Which technologies are poised for the fastest growth by market and region?
How do Aluminum Sputtering Target market opportunities vary by end market size?
How does Aluminum Sputtering Target break out type, application?
What are the influences of trade war and Russia-Ukraine war?
1 Scope of the Report |
| ※참고 정보 ## 알루미늄 스퍼터링 타겟: 얇은 막 증착의 핵심 소재 알루미늄 스퍼터링 타겟은 물리 기상 증착(Physical Vapor Deposition, PVD)의 한 방법인 스퍼터링(Sputtering) 공정에서 금속 알루미늄 박막을 형성하기 위한 재료입니다. 스퍼터링은 고진공 상태에서 아르곤(Ar)과 같은 불활성 가스를 플라즈마 상태로 만든 후, 이 플라즈마에 포함된 이온들을 고에너지로 가속시켜 타겟 물질에 충돌시키는 방식으로 작동합니다. 충돌 시 타겟 물질의 원자들이 튀어나와 기판 위에 쌓이면서 얇은 막을 형성하게 됩니다. 알루미늄 스퍼터링 타겟은 바로 이러한 과정에서 알루미늄 원자를 공급하는 역할을 하는, 매우 중요한 소재라고 할 수 있습니다. 알루미늄 스퍼터링 타겟의 핵심적인 특징은 그 순도와 밀도입니다. 박막의 전기적, 광학적, 기계적 특성은 타겟 물질의 순도에 크게 좌우됩니다. 불순물이 많으면 원하는 성능을 제대로 발휘하지 못할 뿐만 아니라, 공정 자체의 안정성에도 영향을 미칠 수 있습니다. 따라서 전자 산업 등 첨단 기술 분야에서 사용되는 알루미늄 스퍼터링 타겟은 매우 높은 순도를 요구합니다. 또한, 타겟의 밀도 또한 중요합니다. 밀도가 높을수록 스퍼터링 시 원자가 효율적으로 튀어나올 수 있어 증착 속도와 타겟의 사용 수명을 향상시킬 수 있습니다. 일반적으로 99.999% (5N) 이상의 초고순도 알루미늄이 사용되며, 특정 응용 분야에서는 더욱 높은 순도가 요구되기도 합니다. 알루미늄 스퍼터링 타겟은 사용되는 알루미늄의 조성이나 형태에 따라 다양한 종류로 나눌 수 있습니다. 가장 기본적인 형태는 단일 조성의 순수 알루미늄 타겟입니다. 하지만 알루미늄 자체의 특성만으로는 부족한 경우, 다른 원소와 합금된 알루미늄 합금 타겟도 사용됩니다. 예를 들어, 구리(Cu)가 소량 첨가된 Al-Cu 합금 타겟은 전기 전도도를 향상시키거나 박막의 접착력을 높이는 데 사용될 수 있습니다. 또한, 스퍼터링 공정의 효율성을 높이기 위해 특수하게 설계된 형상의 타겟들도 존재합니다. 예를 들어, 로터리 타겟(Rotary Target)이나 플레이트 타겟(Plate Target) 등은 대면적 증착이나 생산성 향상을 위해 개발되었습니다. 이 외에도 입자 크기나 결정 구조를 제어하여 박막의 미세 구조를 조절하기 위한 특수 처리된 타겟들도 있습니다. 알루미늄 스퍼터링 타겟의 용도는 매우 광범위합니다. 가장 대표적인 분야는 반도체 산업입니다. 반도체 집적회로(IC)의 배선 형성에 알루미늄 또는 알루미늄 합금 박막이 널리 사용됩니다. 알루미늄은 우수한 전기 전도성과 식각(etching) 용이성 때문에 초기부터 금속 배선 재료로 각광받았으며, 현재에도 칩의 다양한 층간 연결에 필수적인 소재입니다. 또한, 디스플레이 산업에서도 알루미늄 스퍼터링 타겟이 중요하게 사용됩니다. 액정 디스플레이(LCD)나 유기발광다이오드(OLED) 디스플레이의 전극이나 반사층 형성에 알루미늄 박막이 사용되어 전기 신호를 전달하고 빛을 반사하는 역할을 합니다. 이러한 디스플레이의 성능과 수명을 결정하는 데 있어 알루미늄 박막의 품질은 매우 중요합니다. 그 외에도 태양 전지 산업에서 태양광을 효율적으로 집광하거나 전기를 수집하기 위한 전극 재료로 알루미늄 박막이 사용됩니다. 또한, 자동차 산업에서는 차량의 경량화를 위해 부품의 코팅이나 전도성 부여를 위해 알루미늄 박막을 활용하기도 합니다. 일반적인 금속 코팅이나 장식 코팅에도 알루미늄이 사용되어 광택이나 내식성을 부여합니다. 과학 기술의 발전과 함께 다양한 새로운 응용 분야에서도 알루미늄 스퍼터링 타겟의 중요성이 더욱 커지고 있습니다. 알루미늄 스퍼터링 타겟과 관련된 기술은 타겟 자체의 제조 기술뿐만 아니라 스퍼터링 공정 기술, 그리고 증착된 박막의 특성 분석 기술까지 포함합니다. 타겟 제조 기술로는 고순도 알루미늄의 정련, 합금 제조, 분말 야금 또는 용융 응고법을 이용한 압축 및 소결, 그리고 최종적인 기계 가공을 통해 원하는 형상과 표면 품질을 갖춘 타겟을 만드는 과정이 포함됩니다. 스퍼터링 공정 기술로는 DC 스퍼터링, RF 스퍼터링, 마그네트론 스퍼터링, 반응성 스퍼터링 등 다양한 스퍼터링 방식이 있으며, 각 방식마다 증착 속도, 박막의 치밀도, 플라즈마 생성 조건 등이 달라집니다. 특히, 대면적 증착이나 균일한 박막 형성을 위한 공정 제어 기술이 중요하게 다루어집니다. 박막의 특성 분석 기술로는 박막의 두께, 조성, 결정 구조, 전기적 특성(전기 전도도, 저항), 광학적 특성(반사율, 투과율), 기계적 특성(경도, 접착력) 등을 측정하고 평가하는 기술이 필요합니다. 이러한 연관 기술들의 발전은 알루미늄 스퍼터링 타겟의 성능 향상과 새로운 응용 분야 개척에 기여합니다. 알루미늄 스퍼터링 타겟은 단순한 금속 덩어리가 아니라, 첨단 기술 산업의 근간을 이루는 핵심 소재로서 그 가치가 매우 높습니다. 끊임없는 기술 개발과 품질 향상을 통해 앞으로도 다양한 분야에서 그 중요성을 더욱 확고히 할 것으로 기대됩니다. |
| ※본 조사보고서 [세계의 알루미늄 스퍼터링 타겟 시장예측 2025년-2031년] (코드 : LPK23JL1320) 판매에 관한 면책사항을 반드시 확인하세요. |
| ※본 조사보고서 [세계의 알루미늄 스퍼터링 타겟 시장예측 2025년-2031년] 에 대해서 E메일 문의는 여기를 클릭하세요. |
※당 사이트에 없는 보고서도 취급 가능한 경우가 많으니 문의 주세요!