| ■ 영문 제목 : Global Blankmasks for Semiconductors Market 2024 by Manufacturers, Regions, Type and Application, Forecast to 2030 | |
 | ■ 상품코드 : GIR2406C5957 ■ 조사/발행회사 : Globalinforesearch ■ 발행일 : 2024년 6월 ■ 페이지수 : 약100 ■ 작성언어 : 영어 ■ 보고서 형태 : PDF ■ 납품 방식 : E메일 (주문후 2-3일 소요) ■ 조사대상 지역 : 글로벌 ■ 산업 분야 : 전자＆반도체 |
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조사회사 Global Info Research의 최신 조사에 따르면, 세계의 반도체용 블랭크 마스크 시장 규모는 2023년에 XXX백만 달러로 분석되었으며, 검토 기간 동안 xx%의 CAGR로 2030년까지 XXX백만 달러의 재조정된 규모로 성장이 예측됩니다.
Global Info Research 보고서에는 반도체용 블랭크 마스크 산업 체인 동향 개요, IC 범핑, IC 리드 프레임, 기타 응용분야 및 선진 및 개발 도상국의 주요 기업의 시장 현황, 반도체용 블랭크 마스크의 최첨단 기술, 특허, 최신 용도 및 시장 동향을 분석했습니다.
지역별로는 주요 지역의 반도체용 블랭크 마스크 시장을 분석합니다. 북미와 유럽은 정부 이니셔티브와 수요자 인식 제고에 힘입어 꾸준한 성장세를 보이고 있습니다. 아시아 태평양, 특히 중국은 탄탄한 내수 수요와 지원 정책, 강력한 제조 기반을 바탕으로 글로벌 반도체용 블랭크 마스크 시장을 주도하고 있습니다.
[주요 특징]
본 보고서는 반도체용 블랭크 마스크 시장에 대한 포괄적인 이해를 제공합니다. 본 보고서는 산업에 대한 전체적인 관점과 개별 구성 요소 및 이해 관계자에 대한 자세한 통찰력을 제공합니다. 본 보고서는 반도체용 블랭크 마스크 산업 내의 시장 역학, 동향, 과제 및 기회를 분석합니다. 또한, 거시적 관점에서 시장을 분석하는 것이 포함됩니다.
시장 규모 및 세분화: 본 보고서는 판매량, 매출 및 종류별 (예 : 수지 블랭크 마스크, 유리 블랭크 마스크)의 시장 점유율을 포함한 전체 시장 규모에 대한 데이터를 수집합니다.
산업 분석: 보고서는 정부 정책 및 규제, 기술 발전, 수요자 선호도, 시장 역학 등 광범위한 산업 동향을 분석합니다. 이 분석은 반도체용 블랭크 마스크 시장에 영향을 미치는 주요 동인과 과제를 이해하는데 도움이 됩니다.
지역 분석: 본 보고서에는 지역 또는 국가 단위로 반도체용 블랭크 마스크 시장을 조사하는 것이 포함됩니다. 보고서는 정부 인센티브, 인프라 개발, 경제 상황 및 수요자 행동과 같은 지역 요인을 분석하여 다양한 시장 내의 변화와 기회를 식별합니다.
시장 전망: 보고서는 수집된 데이터와 분석을 통해 반도체용 블랭크 마스크 시장에 대한 미래 전망 및 예측을 다룹니다. 여기에는 시장 성장률 추정, 시장 수요 예측, 새로운 트렌드 파악 등이 포함될 수 있습니다. 본 보고서에는 반도체용 블랭크 마스크에 대한 보다 세분화된 접근 방식도 포함됩니다.
기업 분석: 본 보고서는 반도체용 블랭크 마스크 제조업체, 공급업체 및 기타 관련 업계 플레이어를 다룹니다. 이 분석에는 재무 성과, 시장 포지셔닝, 제품 포트폴리오, 파트너십 및 전략에 대한 조사가 포함됩니다.
수요자 분석: 보고서는 반도체용 블랭크 마스크에 대한 수요자 행동, 선호도 및 태도에 대한 데이터를 다룹니다. 여기에는 설문 조사, 인터뷰 및 응용 분야별 (IC 범핑, IC 리드 프레임, 기타)의 다양한 수요자 리뷰 및 피드백 분석이 포함될 수 있습니다.
기술 분석: 반도체용 블랭크 마스크과 관련된 특정 기술을 다루는 보고서입니다. 반도체용 블랭크 마스크 분야의 현재 상황 및 잠재적 미래 발전 가능성을 평가합니다.
경쟁 환경: 본 보고서는 개별 기업, 공급업체 및 수요업체를 분석하여 반도체용 블랭크 마스크 시장의 경쟁 환경에 대한 통찰력을 제공합니다. 이 분석은 시장 점유율, 경쟁 우위 및 업계 플레이어 간의 차별화 가능성을 이해하는 데 도움이 됩니다.
시장 검증: 본 보고서에는 설문 조사, 인터뷰 및 포커스 그룹과 같은 주요 조사를 통해 결과 및 예측을 검증하는 작업이 포함됩니다.
[시장 세분화]
반도체용 블랭크 마스크 시장은 종류 및 용도별로 나뉩니다. 2019-2030년 기간 동안 세그먼트 간의 시장규모에 대한 정확한 계산 및 예측을 볼륨 및 금액 측면에서 제공합니다.
종류별 시장 세그먼트
– 수지 블랭크 마스크, 유리 블랭크 마스크
용도별 시장 세그먼트
– IC 범핑, IC 리드 프레임, 기타
주요 대상 기업
– S&S TECH, Shin-Etsu Chemical Co.,, AGC Inc., ULVAC COATING CORPORATION., Telic Company, HOYA, ZR OPTICS, Ustron
지역 분석은 다음을 포함합니다.
– 북미 (미국, 캐나다, 멕시코)
– 유럽 (독일, 프랑스, 영국, 러시아, 이탈리아)
– 아시아 태평양 (중국, 일본, 한국, 인도, 동남아시아, 호주)
– 남미 (브라질, 아르헨티나, 콜롬비아)
– 중동 및 아프리카 (사우디아라비아, 아랍에미리트, 이집트, 남아프리카공화국)
본 조사 보고서는 아래 항목으로 구성되어 있습니다.
– 반도체용 블랭크 마스크 제품 범위, 시장 개요, 시장 추정, 주의 사항 및 기준 연도를 설명합니다.
– 2019년부터 2024년까지 반도체용 블랭크 마스크의 가격, 판매량, 매출 및 세계 시장 점유율과 함께 반도체용 블랭크 마스크의 주요 제조업체를 프로파일링합니다.
– 반도체용 블랭크 마스크 경쟁 상황, 판매량, 매출 및 주요 제조업체의 글로벌 시장 점유율이 상세하게 분석 됩니다.
– 반도체용 블랭크 마스크 상세 데이터는 2019년부터 2030년까지 지역별 판매량, 소비금액 및 성장성을 보여주기 위해 지역 레벨로 표시됩니다.
– 2019년부터 2030년까지 판매량 시장 점유율 및 성장률을 종류별, 용도별로 분류합니다.
– 2017년부터 2023년까지 세계 주요 국가의 판매량, 소비금액 및 시장 점유율과 함께 국가 레벨로 판매 데이터를 분류하고, 2025년부터 2030년까지 판매량 및 매출과 함께 지역, 종류 및 용도별로 반도체용 블랭크 마스크 시장 예측을 수행합니다.
– 시장 역학, 성장요인, 저해요인, 동향 및 포터의 다섯 가지 힘 분석.
– 주요 원자재 및 주요 공급 업체, 반도체용 블랭크 마스크의 산업 체인.
– 반도체용 블랭크 마스크 판매 채널, 유통 업체, 고객(수요기업), 조사 결과 및 결론을 설명합니다.
※납품 보고서의 구성항목 및 내용은 본 페이지에 기재된 내용과 다를 수 있습니다. 보고서 주문 전에 당사에 보고서 샘플을 요청해서 구성항목 및 기재 내용을 반드시 확인하시길 바랍니다. 보고서 샘플에 없는 내용은 납품 드리는 보고서에도 포함되지 않습니다.
■ 보고서 목차■ 시장 개요 ■ 제조업체 프로필 S&S TECH Shin-Etsu Chemical Co., AGC Inc. ■ 제조업체간 경쟁 환경 ■ 지역별 소비 분석 ■ 종류별 시장 세분화 ■ 용도별 시장 세분화 ■ 북미 ■ 유럽 ■ 아시아 태평양 ■ 남미 ■ 중동 및 아프리카 ■ 시장 역학 ■ 원자재 및 산업 체인 ■ 유통 채널별 출하량 ■ 조사 결과 [그림 목록]- 반도체용 블랭크 마스크 이미지 - 종류별 세계의 반도체용 블랭크 마스크 소비 금액 (2019 & 2023 & 2030) - 2023년 종류별 세계의 반도체용 블랭크 마스크 소비 금액 시장 점유율 - 용도별 세계의 반도체용 블랭크 마스크 소비 금액 (2019 & 2023 & 2030) - 2023년 용도별 세계의 반도체용 블랭크 마스크 소비 금액 시장 점유율 - 세계의 반도체용 블랭크 마스크 소비 금액 (2019 & 2023 & 2030) - 세계의 반도체용 블랭크 마스크 소비 금액 및 예측 (2019-2030) - 세계의 반도체용 블랭크 마스크 판매량 (2019-2030) - 세계의 반도체용 블랭크 마스크 평균 가격 (2019-2030) - 2023년 제조업체별 세계의 반도체용 블랭크 마스크 판매량 시장 점유율 - 2023년 제조업체별 세계의 반도체용 블랭크 마스크 소비 금액 시장 점유율 - 2023년 상위 3개 반도체용 블랭크 마스크 제조업체(소비 금액) 시장 점유율 - 2023년 상위 6개 반도체용 블랭크 마스크 제조업체(소비 금액) 시장 점유율 - 지역별 반도체용 블랭크 마스크 판매량 시장 점유율 - 지역별 반도체용 블랭크 마스크 소비 금액 시장 점유율 - 북미 반도체용 블랭크 마스크 소비 금액 - 유럽 반도체용 블랭크 마스크 소비 금액 - 아시아 태평양 반도체용 블랭크 마스크 소비 금액 - 남미 반도체용 블랭크 마스크 소비 금액 - 중동 및 아프리카 반도체용 블랭크 마스크 소비 금액 - 세계의 종류별 반도체용 블랭크 마스크 판매량 시장 점유율 - 세계의 종류별 반도체용 블랭크 마스크 소비 금액 시장 점유율 - 세계의 종류별 반도체용 블랭크 마스크 평균 가격 - 세계의 용도별 반도체용 블랭크 마스크 판매량 시장 점유율 - 세계의 용도별 반도체용 블랭크 마스크 소비 금액 시장 점유율 - 세계의 용도별 반도체용 블랭크 마스크 평균 가격 - 북미 반도체용 블랭크 마스크 종류별 판매량 시장 점유율 - 북미 반도체용 블랭크 마스크 용도별 판매 수량 시장 점유율 - 북미 반도체용 블랭크 마스크 국가별 판매 수량 시장 점유율 - 북미 반도체용 블랭크 마스크 국가별 소비 금액 시장 점유율 - 미국 반도체용 블랭크 마스크 소비 금액 및 성장률 - 캐나다 반도체용 블랭크 마스크 소비 금액 및 성장률 - 멕시코 반도체용 블랭크 마스크 소비 금액 및 성장률 - 유럽 반도체용 블랭크 마스크 종류별 판매량 시장 점유율 - 유럽 반도체용 블랭크 마스크 용도별 판매량 시장 점유율 - 유럽 반도체용 블랭크 마스크 국가별 판매량 시장 점유율 - 유럽 반도체용 블랭크 마스크 국가별 소비 금액 시장 점유율 - 독일 반도체용 블랭크 마스크 소비 금액 및 성장률 - 프랑스 반도체용 블랭크 마스크 소비 금액 및 성장률 - 영국 반도체용 블랭크 마스크 소비 금액 및 성장률 - 러시아 반도체용 블랭크 마스크 소비 금액 및 성장률 - 이탈리아 반도체용 블랭크 마스크 소비 금액 및 성장률 - 아시아 태평양 반도체용 블랭크 마스크 종류별 판매량 시장 점유율 - 아시아 태평양 반도체용 블랭크 마스크 용도별 판매량 시장 점유율 - 아시아 태평양 반도체용 블랭크 마스크 지역별 판매 수량 시장 점유율 - 아시아 태평양 반도체용 블랭크 마스크 지역별 소비 금액 시장 점유율 - 중국 반도체용 블랭크 마스크 소비 금액 및 성장률 - 일본 반도체용 블랭크 마스크 소비 금액 및 성장률 - 한국 반도체용 블랭크 마스크 소비 금액 및 성장률 - 인도 반도체용 블랭크 마스크 소비 금액 및 성장률 - 동남아시아 반도체용 블랭크 마스크 소비 금액 및 성장률 - 호주 반도체용 블랭크 마스크 소비 금액 및 성장률 - 남미 반도체용 블랭크 마스크 종류별 판매량 시장 점유율 - 남미 반도체용 블랭크 마스크 용도별 판매량 시장 점유율 - 남미 반도체용 블랭크 마스크 국가별 판매 수량 시장 점유율 - 남미 반도체용 블랭크 마스크 국가별 소비 금액 시장 점유율 - 브라질 반도체용 블랭크 마스크 소비 금액 및 성장률 - 아르헨티나 반도체용 블랭크 마스크 소비 금액 및 성장률 - 중동 및 아프리카 반도체용 블랭크 마스크 종류별 판매량 시장 점유율 - 중동 및 아프리카 반도체용 블랭크 마스크 용도별 판매량 시장 점유율 - 중동 및 아프리카 반도체용 블랭크 마스크 지역별 판매량 시장 점유율 - 중동 및 아프리카 반도체용 블랭크 마스크 지역별 소비 금액 시장 점유율 - 터키 반도체용 블랭크 마스크 소비 금액 및 성장률 - 이집트 반도체용 블랭크 마스크 소비 금액 및 성장률 - 사우디 아라비아 반도체용 블랭크 마스크 소비 금액 및 성장률 - 남아프리카 공화국 반도체용 블랭크 마스크 소비 금액 및 성장률 - 반도체용 블랭크 마스크 시장 성장 요인 - 반도체용 블랭크 마스크 시장 제약 요인 - 반도체용 블랭크 마스크 시장 동향 - 포터의 다섯 가지 힘 분석 - 2023년 반도체용 블랭크 마스크의 제조 비용 구조 분석 - 반도체용 블랭크 마스크의 제조 공정 분석 - 반도체용 블랭크 마스크 산업 체인 - 직접 채널 장단점 - 간접 채널 장단점 - 방법론 - 조사 프로세스 및 데이터 소스 ※납품 보고서의 구성항목 및 내용은 본 페이지에 기재된 내용과 다를 수 있습니다. 보고서 주문 전에 당사에 보고서 샘플을 요청해서 구성항목 및 기재 내용을 반드시 확인하시길 바랍니다. 보고서 샘플에 없는 내용은 납품 드리는 보고서에도 포함되지 않습니다. |
| ※참고 정보 반도체 제조 공정에서 블랭크 마스크(Blank Mask)는 미세한 패턴을 웨이퍼 위에 새기는 포토리소그래피(Photolithography) 과정에서 핵심적인 역할을 수행하는 재료입니다. 블랭크 마스크는 기본적으로 빛을 투과시키거나 차단하는 기능성 패턴을 형성하기 위한 기판과 그 위에 코팅된 감광성 물질(포토레지스트)로 구성됩니다. 웨이퍼에 집적될 회로 패턴의 청사진 역할을 하는 이 블랭크 마스크는 반도체 집적회로(IC)의 성능과 밀도를 결정짓는 매우 중요한 요소 중 하나입니다. 블랭크 마스크의 기본적인 개념은 빛을 이용하여 웨이퍼 상에 원하는 회로 패턴을 정확하게 전사하는 데 있습니다. 포토리소그래피 공정은 주로 빛을 특정 회로 패턴에 따라 변조하여 웨이퍼 위에 감광성 물질이 도포된 상태에서 조사를 하는 방식으로 진행됩니다. 이때 블랭크 마스크는 빛을 통과시키는 부분과 차단하는 부분을 정밀하게 제어하여 원하는 패턴을 구현하는 역할을 합니다. 즉, 블랭크 마스크는 회로 패턴 정보를 담고 있는 원본 마스터라고 할 수 있습니다. 블랭크 마스크의 구조는 크게 투명한 기판(Substrate)과 그 위에 증착된 불투명한 막(Opaque Film), 그리고 감광성 물질(Photoresist)로 구성됩니다. 기판으로는 보통 석영 유리(Quartz Glass)가 사용되는데, 이는 빛의 투과율이 높고 열팽창 계수가 낮아 공정 중 변형을 최소화할 수 있기 때문입니다. 불투명한 막으로는 주로 크롬(Cr)이 사용되며, 이 크롬 막에 레이저나 전자빔을 이용하여 회로 패턴을 식각합니다. 마지막으로 이 크롬 패턴 위에 포토레지스트가 도포됩니다. 이 포토레지스트는 빛을 받으면 화학적 변화를 일으켜 현상액에 의해 제거되거나 남게 되어 최종적으로 패턴을 형성하게 됩니다. 최근에는 더욱 미세한 패턴 구현을 위해 전자빔(Electron Beam)을 직접 사용하여 패턴을 형성하는 일명 ‘E-beam 마스크’나, 불투명 막 대신 위상 변화를 이용하여 패턴을 형성하는 위상 반전 마스크(Phase Shift Mask) 등 다양한 형태의 마스크가 사용되고 있습니다. 블랭크 마스크의 가장 중요한 특징 중 하나는 바로 패턴의 정밀도와 선명도입니다. 반도체 회로의 미세화가 가속화됨에 따라 블랭크 마스크에 그려지는 패턴 역시 수 나노미터(nm) 수준의 정밀도를 요구하게 됩니다. 이는 블랭크 마스크 제조 기술의 핵심이며, 패턴의 해상도, 선폭의 균일성, 패턴의 결함 등이 반도체 소자의 성능에 직접적인 영향을 미칩니다. 또한, 빛의 파장과 관련된 회절(Diffraction) 및 간섭(Interference) 현상을 제어하기 위한 다양한 광학적 기법이 블랭크 마스크 설계 및 제조에 적용됩니다. 예를 들어, 빛의 파장보다 작은 패턴을 구현하기 위해 원거리 근접(Off-axis Illumination)이나 위상 반전 마스크(Phase Shift Mask)와 같은 기술들이 블랭크 마스크와 함께 사용됩니다. 블랭크 마스크는 사용되는 빛의 종류에 따라 크게 두 가지 종류로 나눌 수 있습니다. 첫 번째는 주로 자외선(UV)을 사용하는 광학 마스크(Optical Mask)입니다. 현재 대부분의 반도체 제조 공정에서 사용되는 마스크가 여기에 해당됩니다. 광학 마스크는 다시 사용되는 자외선의 파장에 따라 i-line(365nm), KrF(248nm), ArF(193nm), EUV(13.5nm) 마스크 등으로 구분됩니다. 파장이 짧을수록 더 미세한 패턴을 구현할 수 있으므로, EUV 마스크는 차세대 반도체 제조 기술의 핵심으로 간주됩니다. 두 번째는 전자빔을 사용하는 전자빔 마스크(Electron Beam Mask)입니다. 전자빔은 빛보다 파장이 훨씬 짧기 때문에 매우 높은 해상도를 구현할 수 있습니다. 하지만 전자빔은 공기 중에서 산란되기 쉽고, 조사 속도가 느리다는 단점이 있어 주로 고해상도 패턴을 시연하거나 소량 생산에 사용됩니다. 블랭크 마스크의 주된 용도는 당연히 반도체 웨이퍼 상에 회로 패턴을 전사하는 것입니다. 더 구체적으로는 메모리 반도체(DRAM, NAND Flash)나 시스템 반도체(CPU, GPU, AP) 등 모든 종류의 집적회로 제조 공정에서 필수적으로 사용됩니다. 반도체 공정의 각 단계마다 서로 다른 회로 패턴이 새겨져야 하므로, 각 공정 단계에 해당하는 수십 개의 블랭크 마스크가 필요하게 됩니다. 이러한 마스크들은 극자외선(EUV)과 같은 첨단 기술을 사용하여 생산되는데, EUV 블랭크 마스크는 기존의 광학 마스크와는 달리 빛을 반사시켜 패턴을 형성하는 반사형 마스크(Reflective Mask)이며, 몰리브덴(Mo)과 실리콘(Si)의 다층 박막 위에 크롬 등의 불투명 물질로 패턴을 형성하는 방식으로 제작됩니다. 블랭크 마스크와 관련된 주요 기술로는 마스크 패턴 제작 기술, 마스크 검사 및 수리 기술, 그리고 마스크 재료 기술 등이 있습니다. 마스크 패턴 제작 기술은 앞서 언급한 전자빔 리소그래피 기술이나 레이저 직접 기록 기술(Laser Direct Imaging, LDI) 등이 포함됩니다. 마스크 검사 기술은 제작된 마스크에 미세한 결함이 없는지 100% 검사하는 기술인데, 이는 반도체 수율에 직접적인 영향을 미치기 때문에 매우 중요합니다. 또한, 결함을 발견했을 경우 이를 수리하는 마스크 수리 기술 또한 필수적입니다. 마스크 재료 기술로는 더 높은 해상도 구현을 위한 새로운 기판 재료나 코팅 막 재료 개발, 그리고 광학적 특성을 개선하기 위한 다양한 재료 연구가 활발히 진행되고 있습니다. 최근에는 반도체 미세화의 한계를 극복하기 위한 다양한 시도들이 이루어지고 있으며, 이에 따라 블랭크 마스크 기술 또한 지속적으로 발전하고 있습니다. 특히, 3차원 집적 회로(3D IC)나 새로운 구조의 트랜지스터(GAAFET 등)를 구현하기 위해서는 기존과는 다른 새로운 형태의 마스크 기술이 요구될 수 있습니다. 또한, 마스크 수명 및 내구성을 높이기 위한 재료 및 코팅 기술 개발도 중요하게 다루어지고 있습니다. 이러한 블랭크 마스크 기술의 발전은 차세대 반도체 기술의 혁신을 이끌어가는 중요한 원동력이라 할 수 있습니다. |
| ※본 조사보고서 [세계의 반도체용 블랭크 마스크 시장 2024 : 기업, 종류, 용도, 시장예측] (코드 : GIR2406C5957) 판매에 관한 면책사항을 반드시 확인하세요. |
| ※본 조사보고서 [세계의 반도체용 블랭크 마스크 시장 2024 : 기업, 종류, 용도, 시장예측] 에 대해서 E메일 문의는 여기를 클릭하세요. |
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