| ■ 영문 제목 : Global DUV Lithography Systems Market 2024 by Manufacturers, Regions, Type and Application, Forecast to 2030 | |
 | ■ 상품코드 : GIR2407E16404 ■ 조사/발행회사 : Globalinforesearch ■ 발행일 : 2024년 4월 ■ 페이지수 : 약100 ■ 작성언어 : 영어 ■ 보고서 형태 : PDF ■ 납품 방식 : E메일 (주문후 2-3일 소요) ■ 조사대상 지역 : 글로벌 ■ 산업 분야 : IT/전자 |
| Single User (1명 열람용) | USD3,480 ⇒환산￦4,872,000 | 견적의뢰/주문/질문 |
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조사회사 Global Info Research의 최신 조사에 따르면, 세계의 DUV 리소그래피 시스템 시장 규모는 2023년에 XXX백만 달러로 분석되었으며, 검토 기간 동안 xx%의 CAGR로 2030년까지 XXX백만 달러의 재조정된 규모로 성장이 예측됩니다.
Global Info Research 보고서에는 DUV 리소그래피 시스템 산업 체인 동향 개요, 인공 지능, 의료, 가전 제품, 기타 응용분야 및 선진 및 개발 도상국의 주요 기업의 시장 현황, DUV 리소그래피 시스템의 최첨단 기술, 특허, 최신 용도 및 시장 동향을 분석했습니다.
지역별로는 주요 지역의 DUV 리소그래피 시스템 시장을 분석합니다. 북미와 유럽은 정부 이니셔티브와 수요자 인식 제고에 힘입어 꾸준한 성장세를 보이고 있습니다. 아시아 태평양, 특히 중국은 탄탄한 내수 수요와 지원 정책, 강력한 제조 기반을 바탕으로 글로벌 DUV 리소그래피 시스템 시장을 주도하고 있습니다.
[주요 특징]
본 보고서는 DUV 리소그래피 시스템 시장에 대한 포괄적인 이해를 제공합니다. 본 보고서는 산업에 대한 전체적인 관점과 개별 구성 요소 및 이해 관계자에 대한 자세한 통찰력을 제공합니다. 본 보고서는 DUV 리소그래피 시스템 산업 내의 시장 역학, 동향, 과제 및 기회를 분석합니다. 또한, 거시적 관점에서 시장을 분석하는 것이 포함됩니다.
시장 규모 및 세분화: 본 보고서는 판매량, 매출 및 종류별 (예 : ArF 건식 엑시머 시스템, ArF 침수 엑시머 시스템, KrF 엑시머 시스템)의 시장 점유율을 포함한 전체 시장 규모에 대한 데이터를 수집합니다.
산업 분석: 보고서는 정부 정책 및 규제, 기술 발전, 수요자 선호도, 시장 역학 등 광범위한 산업 동향을 분석합니다. 이 분석은 DUV 리소그래피 시스템 시장에 영향을 미치는 주요 동인과 과제를 이해하는데 도움이 됩니다.
지역 분석: 본 보고서에는 지역 또는 국가 단위로 DUV 리소그래피 시스템 시장을 조사하는 것이 포함됩니다. 보고서는 정부 인센티브, 인프라 개발, 경제 상황 및 수요자 행동과 같은 지역 요인을 분석하여 다양한 시장 내의 변화와 기회를 식별합니다.
시장 전망: 보고서는 수집된 데이터와 분석을 통해 DUV 리소그래피 시스템 시장에 대한 미래 전망 및 예측을 다룹니다. 여기에는 시장 성장률 추정, 시장 수요 예측, 새로운 트렌드 파악 등이 포함될 수 있습니다. 본 보고서에는 DUV 리소그래피 시스템에 대한 보다 세분화된 접근 방식도 포함됩니다.
기업 분석: 본 보고서는 DUV 리소그래피 시스템 제조업체, 공급업체 및 기타 관련 업계 플레이어를 다룹니다. 이 분석에는 재무 성과, 시장 포지셔닝, 제품 포트폴리오, 파트너십 및 전략에 대한 조사가 포함됩니다.
수요자 분석: 보고서는 DUV 리소그래피 시스템에 대한 수요자 행동, 선호도 및 태도에 대한 데이터를 다룹니다. 여기에는 설문 조사, 인터뷰 및 응용 분야별 (인공 지능, 의료, 가전 제품, 기타)의 다양한 수요자 리뷰 및 피드백 분석이 포함될 수 있습니다.
기술 분석: DUV 리소그래피 시스템과 관련된 특정 기술을 다루는 보고서입니다. DUV 리소그래피 시스템 분야의 현재 상황 및 잠재적 미래 발전 가능성을 평가합니다.
경쟁 환경: 본 보고서는 개별 기업, 공급업체 및 수요업체를 분석하여 DUV 리소그래피 시스템 시장의 경쟁 환경에 대한 통찰력을 제공합니다. 이 분석은 시장 점유율, 경쟁 우위 및 업계 플레이어 간의 차별화 가능성을 이해하는 데 도움이 됩니다.
시장 검증: 본 보고서에는 설문 조사, 인터뷰 및 포커스 그룹과 같은 주요 조사를 통해 결과 및 예측을 검증하는 작업이 포함됩니다.
[시장 세분화]
DUV 리소그래피 시스템 시장은 종류 및 용도별로 나뉩니다. 2019-2030년 기간 동안 세그먼트 간의 시장규모에 대한 정확한 계산 및 예측을 볼륨 및 금액 측면에서 제공합니다.
종류별 시장 세그먼트
– ArF 건식 엑시머 시스템, ArF 침수 엑시머 시스템, KrF 엑시머 시스템
용도별 시장 세그먼트
– 인공 지능, 의료, 가전 제품, 기타
주요 대상 기업
– Canon Inc., Nikon Corporation, ASML Holdings
지역 분석은 다음을 포함합니다.
– 북미 (미국, 캐나다, 멕시코)
– 유럽 (독일, 프랑스, 영국, 러시아, 이탈리아)
– 아시아 태평양 (중국, 일본, 한국, 인도, 동남아시아, 호주)
– 남미 (브라질, 아르헨티나, 콜롬비아)
– 중동 및 아프리카 (사우디아라비아, 아랍에미리트, 이집트, 남아프리카공화국)
본 조사 보고서는 아래 항목으로 구성되어 있습니다.
– DUV 리소그래피 시스템 제품 범위, 시장 개요, 시장 추정, 주의 사항 및 기준 연도를 설명합니다.
– 2019년부터 2024년까지 DUV 리소그래피 시스템의 가격, 판매량, 매출 및 세계 시장 점유율과 함께 DUV 리소그래피 시스템의 주요 제조업체를 프로파일링합니다.
– DUV 리소그래피 시스템 경쟁 상황, 판매량, 매출 및 주요 제조업체의 글로벌 시장 점유율이 상세하게 분석 됩니다.
– DUV 리소그래피 시스템 상세 데이터는 2019년부터 2030년까지 지역별 판매량, 소비금액 및 성장성을 보여주기 위해 지역 레벨로 표시됩니다.
– 2019년부터 2030년까지 판매량 시장 점유율 및 성장률을 종류별, 용도별로 분류합니다.
– 2017년부터 2023년까지 세계 주요 국가의 판매량, 소비금액 및 시장 점유율과 함께 국가 레벨로 판매 데이터를 분류하고, 2025년부터 2030년까지 판매량 및 매출과 함께 지역, 종류 및 용도별로 DUV 리소그래피 시스템 시장 예측을 수행합니다.
– 시장 역학, 성장요인, 저해요인, 동향 및 포터의 다섯 가지 힘 분석.
– 주요 원자재 및 주요 공급 업체, DUV 리소그래피 시스템의 산업 체인.
– DUV 리소그래피 시스템 판매 채널, 유통 업체, 고객(수요기업), 조사 결과 및 결론을 설명합니다.
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■ 보고서 목차■ 시장 개요 ■ 제조업체 프로필 Canon Inc. Nikon Corporation ASML Holdings ■ 제조업체간 경쟁 환경 ■ 지역별 소비 분석 ■ 종류별 시장 세분화 ■ 용도별 시장 세분화 ■ 북미 ■ 유럽 ■ 아시아 태평양 ■ 남미 ■ 중동 및 아프리카 ■ 시장 역학 ■ 원자재 및 산업 체인 ■ 유통 채널별 출하량 ■ 조사 결과 [그림 목록]- DUV 리소그래피 시스템 이미지 - 종류별 세계의 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 (2019 & 2023 & 2030) - 2023년 종류별 세계의 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 시장 점유율 - 용도별 세계의 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 (2019 & 2023 & 2030) - 2023년 용도별 세계의 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 시장 점유율 - 세계의 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 (2019 & 2023 & 2030) - 세계의 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 및 예측 (2019-2030) - 세계의 DUV 리소그래피 시스템 판매량 (2019-2030) - 세계의 DUV 리소그래피 시스템 평균 가격 (2019-2030) - 2023년 제조업체별 세계의 DUV 리소그래피 시스템 판매량 시장 점유율 - 2023년 제조업체별 세계의 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 시장 점유율 - 2023년 상위 3개 DUV 리소그래피 시스템 제조업체(소비 금액) 시장 점유율 - 2023년 상위 6개 DUV 리소그래피 시스템 제조업체(소비 금액) 시장 점유율 - 지역별 DUV 리소그래피 시스템 판매량 시장 점유율 - 지역별 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 시장 점유율 - 북미 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 - 유럽 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 - 아시아 태평양 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 - 남미 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 - 중동 및 아프리카 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 - 세계의 종류별 DUV 리소그래피 시스템 판매량 시장 점유율 - 세계의 종류별 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 시장 점유율 - 세계의 종류별 DUV 리소그래피 시스템 평균 가격 - 세계의 용도별 DUV 리소그래피 시스템 판매량 시장 점유율 - 세계의 용도별 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 시장 점유율 - 세계의 용도별 DUV 리소그래피 시스템 평균 가격 - 북미 DUV 리소그래피 시스템 종류별 판매량 시장 점유율 - 북미 DUV 리소그래피 시스템 용도별 판매 수량 시장 점유율 - 북미 DUV 리소그래피 시스템 국가별 판매 수량 시장 점유율 - 북미 DUV 리소그래피 시스템 국가별 소비 금액 시장 점유율 - 미국 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 및 성장률 - 캐나다 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 및 성장률 - 멕시코 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 및 성장률 - 유럽 DUV 리소그래피 시스템 종류별 판매량 시장 점유율 - 유럽 DUV 리소그래피 시스템 용도별 판매량 시장 점유율 - 유럽 DUV 리소그래피 시스템 국가별 판매량 시장 점유율 - 유럽 DUV 리소그래피 시스템 국가별 소비 금액 시장 점유율 - 독일 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 및 성장률 - 프랑스 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 및 성장률 - 영국 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 및 성장률 - 러시아 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 및 성장률 - 이탈리아 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 및 성장률 - 아시아 태평양 DUV 리소그래피 시스템 종류별 판매량 시장 점유율 - 아시아 태평양 DUV 리소그래피 시스템 용도별 판매량 시장 점유율 - 아시아 태평양 DUV 리소그래피 시스템 지역별 판매 수량 시장 점유율 - 아시아 태평양 DUV 리소그래피 시스템 지역별 소비 금액 시장 점유율 - 중국 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 및 성장률 - 일본 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 및 성장률 - 한국 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 및 성장률 - 인도 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 및 성장률 - 동남아시아 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 및 성장률 - 호주 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 및 성장률 - 남미 DUV 리소그래피 시스템 종류별 판매량 시장 점유율 - 남미 DUV 리소그래피 시스템 용도별 판매량 시장 점유율 - 남미 DUV 리소그래피 시스템 국가별 판매 수량 시장 점유율 - 남미 DUV 리소그래피 시스템 국가별 소비 금액 시장 점유율 - 브라질 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 및 성장률 - 아르헨티나 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 및 성장률 - 중동 및 아프리카 DUV 리소그래피 시스템 종류별 판매량 시장 점유율 - 중동 및 아프리카 DUV 리소그래피 시스템 용도별 판매량 시장 점유율 - 중동 및 아프리카 DUV 리소그래피 시스템 지역별 판매량 시장 점유율 - 중동 및 아프리카 DUV 리소그래피 시스템 지역별 소비 금액 시장 점유율 - 터키 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 및 성장률 - 이집트 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 및 성장률 - 사우디 아라비아 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 및 성장률 - 남아프리카 공화국 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 및 성장률 - DUV 리소그래피 시스템 시장 성장 요인 - DUV 리소그래피 시스템 시장 제약 요인 - DUV 리소그래피 시스템 시장 동향 - 포터의 다섯 가지 힘 분석 - 2023년 DUV 리소그래피 시스템의 제조 비용 구조 분석 - DUV 리소그래피 시스템의 제조 공정 분석 - DUV 리소그래피 시스템 산업 체인 - 직접 채널 장단점 - 간접 채널 장단점 - 방법론 - 조사 프로세스 및 데이터 소스 ※납품 보고서의 구성항목 및 내용은 본 페이지에 기재된 내용과 다를 수 있습니다. 보고서 주문 전에 당사에 보고서 샘플을 요청해서 구성항목 및 기재 내용을 반드시 확인하시길 바랍니다. 보고서 샘플에 없는 내용은 납품 드리는 보고서에도 포함되지 않습니다. |
| ※참고 정보 **DUV 리소그래피 시스템의 이해** 집적회로(IC) 제조 공정의 핵심 기술인 리소그래피는 웨이퍼 위에 복잡한 회로 패턴을 새기는 과정입니다. 그중에서도 심자외선(Deep Ultraviolet, DUV) 리소그래피 시스템은 현재 반도체 산업에서 가장 널리 사용되는 기술이며, 미세하고 정밀한 패턴 형성에 지대한 역할을 하고 있습니다. DUV 리소그래피는 빛의 파장을 이용하여 마스크에 담긴 회로 패턴을 웨이퍼 표면에 전사하는 방식을 사용합니다. 여기서 '심자외선'이란 일반적인 자외선보다 파장이 짧은 영역의 빛을 의미하며, 이 짧은 파장을 활용함으로써 더욱 미세한 회로 선폭을 구현할 수 있게 됩니다. DUV 리소그래피 시스템의 가장 근본적인 개념은 '광원'과 '광학계', 그리고 '감광액(photoresist)'이라는 세 가지 요소의 유기적인 조합입니다. 광원은 패턴 형성에 사용되는 빛을 생성하는 역할을 하며, DUV 리소그래피에서는 주로 불화아르곤(ArF) 엑시머 레이저가 사용됩니다. ArF 레이저는 193nm의 비교적 짧은 파장을 가지며, 이는 기존의 i-line (365nm)이나 KrF (248nm) 리소그래피보다 훨씬 미세한 패턴 구현을 가능하게 합니다. 이러한 광원은 렌즈와 거울로 구성된 복잡한 광학계를 통과하면서 웨이퍼 상의 특정 위치에 정확하게 초점을 맺게 됩니다. 이때, 마스크(또는 레티클)는 구현하고자 하는 회로 패턴의 원본 정보를 담고 있으며, 이 패턴은 빛을 통과시키거나 차단하는 방식으로 빛의 강약을 조절합니다. 웨이퍼 위에는 빛에 반응하여 물리적 또는 화학적 변화를 일으키는 감광액이 코팅되어 있습니다. 이 감광액은 빛이 조사된 부분과 조사되지 않은 부분으로 나뉘어, 이후 현상(development) 과정을 거치면서 선택적으로 제거됩니다. 빛이 조사된 부분만 제거되는 정성 감광액(positive photoresist) 또는 빛이 조사되지 않은 부분만 제거되는 역성 감광액(negative photoresist)이 사용되며, 이 과정을 통해 마스크의 패턴이 웨이퍼 상의 감광액에 전사됩니다. 이렇게 형성된 감광액 패턴은 이후 식각(etching)이나 증착(deposition)과 같은 추가 공정에서 마스크 역할을 수행하여 최종적으로 회로를 완성하게 됩니다. DUV 리소그래피 시스템의 가장 큰 특징은 짧은 파장의 빛을 사용함으로써 높은 해상도를 달성한다는 점입니다. 리소그래피의 해상도는 빛의 파장과 조명 조건, 광학계의 개구수(Numerical Aperture, NA)에 의해 결정되는 '회절 한계'에 의해 제한됩니다. 파장이 짧을수록, NA가 높을수록 더 미세한 패턴을 구현할 수 있습니다. ArF 레이저의 193nm 파장은 현존하는 상용 리소그래피 기술 중에서 가장 미세한 패턴을 구현할 수 있는 중요한 요소입니다. 이러한 해상도를 더욱 향상시키기 위해 DUV 리소그래피 시스템은 다양한 고급 기술들을 접목하고 있습니다. 대표적인 기술로는 **액침(Immersion) 리소그래피**가 있습니다. 액침 리소그래피는 광학계의 마지막 렌즈와 웨이퍼 사이를 고굴절률의 액체(주로 초순수, ultrapure water)로 채우는 방식입니다. 이는 렌즈와 웨이퍼 사이의 등가적인 광학적 거리를 늘려 NA를 증가시키는 효과를 가져옵니다. 등가 NA가 증가하면 해상도가 향상되어 동일한 파장의 빛으로도 더 미세한 패턴을 찍을 수 있게 됩니다. ArF 액침 리소그래피는 193nm 파장의 한계를 극복하고 45nm 이하의 미세 공정에 필수적인 기술로 자리 잡았습니다. 또 다른 중요한 기술은 **다중 패터닝(Multi-patterning)** 기법입니다. 193nm 파장 단독으로는 특정 미세 패턴을 구현하는 데 한계가 있을 때, 여러 번의 리소그래피 및 식각 공정을 거쳐 원하는 패턴을 완성하는 방식입니다. 예를 들어, 더블 패터닝(Double patterning), 트리플 패터닝(Triple patterning), 쿼드러플 패터닝(Quadruple patterning) 등이 있으며, 이러한 기법들을 통해 10nm 이하의 초미세 공정에서도 정밀한 패턴 형성이 가능해집니다. 다중 패터닝은 공정 단계가 늘어나고 복잡성이 증가하는 단점이 있지만, 현존하는 DUV 리소그래피 기술로 초미세 회로를 구현하기 위한 필수적인 전략입니다. 또한, **위상 반전 마스크(Phase-Shift Mask, PSM)** 기술도 해상도 향상에 기여합니다. 위상 반전 마스크는 마스크의 특정 영역에 빛의 위상을 변화시켜 회절을 제어함으로써 패턴의 명암 대비를 높이고 선폭을 더욱 선명하게 만드는 기술입니다. 이를 통해 인접한 패턴 간의 간섭 현상을 줄이고 해상도를 개선할 수 있습니다. DUV 리소그래피 시스템의 용도는 매우 광범위합니다. 스마트폰, 컴퓨터, 서버 등 각종 전자기기의 핵심 부품인 중앙처리장치(CPU), 그래픽처리장치(GPU), 메모리 반도체(DRAM, NAND flash) 등의 제조에 필수적으로 사용됩니다. 특히, 수 나노미터 단위의 초미세 회로가 집적되는 최첨단 로직 반도체와 고성능 메모리 반도체 생산에서 DUV 리소그래피 시스템의 역할은 절대적입니다. 아울러 자동차, 통신 장비, 의료 기기 등 다양한 산업 분야에서 사용되는 반도체 칩 생산에도 광범위하게 활용됩니다. DUV 리소그래피 시스템은 지속적으로 발전하고 있으며, 관련 기술들도 함께 진화하고 있습니다. 광원의 성능 향상, 광학계의 설계 최적화, 새로운 감광액 재료의 개발, 그리고 소프트웨어적인 보정 기술(Optical Proximity Correction, OPC) 등이 끊임없이 연구되고 적용됩니다. 특히, 더욱 짧은 파장의 심자외선인 **극자외선(Extreme Ultraviolet, EUV)** 리소그래피 기술이 7nm 이하 공정에서 상용화되고 있지만, 여전히 많은 공정에서는 DUV 리소그래피가 핵심적인 역할을 수행하고 있으며, 향후에도 일정 기간 동안은 함께 사용될 것으로 예상됩니다. DUV 리소그래피는 검증된 기술과 상대적으로 안정적인 수율, 그리고 EUV 대비 낮은 투자 비용 등의 장점을 바탕으로 앞으로도 반도체 산업의 발전에 중요한 역할을 계속할 것입니다. |
| ※본 조사보고서 [세계의 DUV 리소그래피 시스템 시장 2024 : 기업, 종류, 용도, 시장예측] (코드 : GIR2407E16404) 판매에 관한 면책사항을 반드시 확인하세요. |
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