| ■ 영문 제목 : Etching Gas Market, Global Outlook and Forecast 2024-2030 | |
 | ■ 상품코드 : MONT2406B14563 ■ 조사/발행회사 : Market Monitor Global ■ 발행일 : 2024년 6월 ■ 페이지수 : 약100 ■ 작성언어 : 영어 ■ 보고서 형태 : PDF ■ 납품 방식 : E메일 (주문후 2-3일 소요) ■ 조사대상 지역 : 글로벌 ■ 산업 분야 : 화학&재료 |
| Single User (1명 열람용) | USD3,250 ⇒환산￦4,550,000 | 견적의뢰/주문/질문 |
| Multi User (20명 열람용) | USD4,225 ⇒환산￦5,915,000 | 견적의뢰/주문/질문 |
| Enterprise User (동일기업내 공유가능) | USD4,875 ⇒환산￦6,825,000 | 견적의뢰/구입/질문 |
|
※가격옵션 설명 - 납기는 즉일~2일소요됩니다. 3일이상 소요되는 경우는 별도표기 또는 연락드립니다. - 지불방법은 계좌이체/무통장입금 또는 카드결제입니다. |
본 조사 보고서는 현재 동향, 시장 역학 및 미래 전망에 초점을 맞춰, 식각 가스 시장에 대한 포괄적인 분석을 제공합니다. 본 보고서는 북미, 유럽, 아시아 태평양 및 신흥 시장과 같은 주요 지역을 포함한 전 세계 식각 가스 시장을 대상으로 합니다. 또한 식각 가스의 성장을 주도하는 주요 요인, 업계가 직면한 과제 및 시장 참여자를 위한 잠재적 기회도 기재합니다.
글로벌 식각 가스 시장은 최근 몇 년 동안 환경 문제, 정부 인센티브 및 기술 발전의 증가로 인해 급속한 성장을 목격했습니다. 식각 가스 시장은 태블릿 패널 디스플레이, 광전지 신에너지, 집적 회로를 포함한 다양한 이해 관계자에게 기회를 제공합니다. 민간 부문과 정부 간의 협력은 식각 가스 시장에 대한 지원 정책, 연구 개발 노력 및 투자를 가속화 할 수 있습니다. 또한 증가하는 소비자 수요는 시장 확장의 길을 제시합니다.
글로벌 식각 가스 시장은 2023년에 미화 XXX백만 달러로 조사되었으며 2030년까지 미화 XXX백만 달러에 도달할 것으로 예상되며, 예측 기간 동안 XXX%의 CAGR로 성장할 것으로 예상됩니다.
[주요 특징]
식각 가스 시장에 대한 조사 보고서에는 포괄적인 통찰력을 제공하고 이해 관계자의 의사 결정을 용이하게하는 몇 가지 주요 항목이 포함되어 있습니다.
요약 : 본 보고서는 식각 가스 시장의 주요 결과, 시장 동향 및 주요 통찰력에 대한 개요를 제공합니다.
시장 개요: 본 보고서는 식각 가스 시장의 정의, 역사적 추이, 현재 시장 규모를 포함한 포괄적인 개요를 제공합니다. 종류(예: 불소 함유 가스, 염소 함유 가스, 산소 함유 가스, 기타), 지역 및 용도별로 시장을 세분화하여 각 세그먼트 내의 주요 동인, 과제 및 기회를 중점적으로 다룹니다.
시장 역학: 본 보고서는 식각 가스 시장의 성장과 발전을 주도하는 시장 역학을 분석합니다. 본 보고서에는 정부 정책 및 규정, 기술 발전, 소비자 동향 및 선호도, 인프라 개발, 업계 협력에 대한 평가가 포함되어 있습니다. 이 분석은 이해 관계자가 식각 가스 시장의 궤적에 영향을 미치는 요인을 이해하는데 도움이됩니다.
경쟁 환경: 본 보고서는 식각 가스 시장내 경쟁 환경에 대한 심층 분석을 제공합니다. 여기에는 주요 시장 플레이어의 프로필, 시장 점유율, 전략, 제품 포트폴리오 및 최근 동향이 포함됩니다.
시장 세분화 및 예측: 본 보고서는 종류, 지역 및 용도와 같은 다양한 매개 변수를 기반으로 식각 가스 시장을 세분화합니다. 정량적 데이터 및 분석을 통해 각 세그먼트의 시장 규모와 성장 예측을 제공합니다. 이를 통해 이해 관계자가 성장 기회를 파악하고 정보에 입각한 투자 결정을 내릴 수 있습니다.
기술 동향: 본 보고서는 주요기술의 발전과 새로운 대체품 등 식각 가스 시장을 형성하는 주요 기술 동향을 강조합니다. 이러한 트렌드가 시장 성장, 채택률, 소비자 선호도에 미치는 영향을 분석합니다.
시장 과제와 기회: 본 보고서는 기술적 병목 현상, 비용 제한, 높은 진입 장벽 등 식각 가스 시장이 직면한 주요 과제를 파악하고 분석합니다. 또한 정부 인센티브, 신흥 시장, 이해관계자 간의 협업 등 시장 성장의 기회에 대해서도 강조합니다.
규제 및 정책 분석: 본 보고서는 정부 인센티브, 배출 기준, 인프라 개발 계획 등 식각 가스에 대한 규제 및 정책 환경을 평가합니다. 이러한 정책이 시장 성장에 미치는 영향을 분석하고 향후 규제 동향에 대한 인사이트를 제공합니다.
권장 사항 및 결론: 본 보고서는 소비자, 정책 입안자, 투자자, 인프라 제공업체 등 이해관계자를 위한 실행 가능한 권고 사항으로 마무리합니다. 이러한 권장 사항은 조사 결과를 바탕으로 식각 가스 시장의 주요 과제와 기회를 해결할 수 있습니다.
참고 데이터 및 부록: 보고서에는 분석 및 조사 결과를 입증하기 위한 보조 데이터, 차트, 그래프가 포함되어 있습니다. 또한 데이터 소스, 설문조사, 상세한 시장 예측과 같은 추가 세부 정보가 담긴 부록도 포함되어 있습니다.
[시장 세분화]
식각 가스 시장은 종류별 및 용도별로 세분화됩니다. 2019-2030년 기간 동안 세그먼트 간의 성장은 종류별 및 용도별로 시장규모에 대한 정확한 계산 및 예측을 볼륨 및 금액 측면에서 제공합니다.
■ 종류별 시장 세그먼트
– 불소 함유 가스, 염소 함유 가스, 산소 함유 가스, 기타
■ 용도별 시장 세그먼트
– 태블릿 패널 디스플레이, 광전지 신에너지, 집적 회로
■ 지역별 및 국가별 글로벌 식각 가스 시장 점유율, 2023년(%)
– 북미 (미국, 캐나다, 멕시코)
– 유럽 (독일, 프랑스, 영국, 이탈리아, 러시아)
– 아시아 (중국, 일본, 한국, 동남아시아, 인도)
– 남미 (브라질, 아르헨티나)
– 중동 및 아프리카 (터키, 이스라엘, 사우디 아라비아, UAE)
■ 주요 업체
– Showa Denko Group, Kanto Denka Kogyo, Linde Group, Air Product, Honeywell, Solvay, AGC, Concorde Specialty Gases, Matheson Tri-Gas, SIAD, Guangdong Huate Gas, Peric Special Gases, Haohua Chemical Science&Technology Corp, Jiangsu Nata Opto-electronic Material, Jiangsu Jacques Technology
[주요 챕터의 개요]
1 장 : 식각 가스의 정의, 시장 개요를 소개
2 장 : 매출 및 판매량을 기준으로한 글로벌 식각 가스 시장 규모
3 장 : 식각 가스 제조업체 경쟁 환경, 가격, 판매량 및 매출 시장 점유율, 최신 동향, M&A 정보 등에 대한 자세한 분석
4 장 : 종류별 시장 분석을 제공 (각 세그먼트의 시장 규모와 성장 잠재력을 다룸)
5 장 : 용도별 시장 분석을 제공 (각 세그먼트의 시장 규모와 성장 잠재력을 다룸)
6 장 : 지역 및 국가별 식각 가스 판매량. 각 지역 및 주요 국가의 시장 규모와 성장 잠재력에 대한 정량적 분석을 제공. 세계 각국의 시장 개발, 향후 개발 전망, 시장 기회을 소개
7 장 : 주요 업체의 프로필을 제공. 제품 판매, 매출, 가격, 총 마진, 제품 소개, 최근 동향 등 시장 내 주요 업체의 기본 상황을 자세히 소개
8 장 : 지역별 및 국가별 글로벌 식각 가스 시장규모
9 장 : 시장 역학, 시장의 최신 동향, 시장의 추진 요인 및 제한 요인, 업계내 업체가 직면한 과제 및 리스크, 업계의 관련 정책 분석을 소개
10 장 : 산업의 업 스트림 및 다운 스트림을 포함한 산업 체인 분석
11 장 : 보고서의 주요 요점 및 결론
※납품 보고서의 구성항목 및 내용은 본 페이지에 기재된 내용과 다를 수 있습니다. 보고서 주문 전에 당사에 보고서 샘플을 요청해서 구성항목 및 기재 내용을 반드시 확인하시길 바랍니다. 보고서 샘플에 없는 내용은 납품 드리는 보고서에도 포함되지 않습니다.
■ 보고서 목차1. 조사 및 분석 보고서 소개 2. 글로벌 식각 가스 전체 시장 규모 3. 기업 환경 4. 종류별 시장 분석 5. 용도별 시장 분석 6. 지역별 시장 분석 7. 제조업체 및 브랜드 프로필 Showa Denko Group, Kanto Denka Kogyo, Linde Group, Air Product, Honeywell, Solvay, AGC, Concorde Specialty Gases, Matheson Tri-Gas, SIAD, Guangdong Huate Gas, Peric Special Gases, Haohua Chemical Science&Technology Corp, Jiangsu Nata Opto-electronic Material, Jiangsu Jacques Technology Showa Denko Group Kanto Denka Kogyo Linde Group 8. 글로벌 식각 가스 생산 능력 분석 9. 주요 시장 동향, 기회, 동인 및 제약 요인 10. 식각 가스 공급망 분석 11. 결론 [그림 목록]- 종류별 식각 가스 세그먼트, 2023년 - 용도별 식각 가스 세그먼트, 2023년 - 글로벌 식각 가스 시장 개요, 2023년 - 글로벌 식각 가스 시장 규모: 2023년 VS 2030년 - 글로벌 식각 가스 매출, 2019-2030 - 글로벌 식각 가스 판매량: 2019-2030 - 식각 가스 매출 기준 상위 3개 및 5개 업체 시장 점유율, 2023년 - 글로벌 종류별 식각 가스 매출, 2023년 VS 2030년 - 글로벌 종류별 식각 가스 매출 시장 점유율 - 글로벌 종류별 식각 가스 판매량 시장 점유율 - 글로벌 종류별 식각 가스 가격 - 글로벌 용도별 식각 가스 매출, 2023년 VS 2030년 - 글로벌 용도별 식각 가스 매출 시장 점유율 - 글로벌 용도별 식각 가스 판매량 시장 점유율 - 글로벌 용도별 식각 가스 가격 - 지역별 식각 가스 매출, 2023년 VS 2030년 - 지역별 식각 가스 매출 시장 점유율 - 지역별 식각 가스 매출 시장 점유율 - 지역별 식각 가스 판매량 시장 점유율 - 북미 국가별 식각 가스 매출 시장 점유율 - 북미 국가별 식각 가스 판매량 시장 점유율 - 미국 식각 가스 시장규모 - 캐나다 식각 가스 시장규모 - 멕시코 식각 가스 시장규모 - 유럽 국가별 식각 가스 매출 시장 점유율 - 유럽 국가별 식각 가스 판매량 시장 점유율 - 독일 식각 가스 시장규모 - 프랑스 식각 가스 시장규모 - 영국 식각 가스 시장규모 - 이탈리아 식각 가스 시장규모 - 러시아 식각 가스 시장규모 - 아시아 지역별 식각 가스 매출 시장 점유율 - 아시아 지역별 식각 가스 판매량 시장 점유율 - 중국 식각 가스 시장규모 - 일본 식각 가스 시장규모 - 한국 식각 가스 시장규모 - 동남아시아 식각 가스 시장규모 - 인도 식각 가스 시장규모 - 남미 국가별 식각 가스 매출 시장 점유율 - 남미 국가별 식각 가스 판매량 시장 점유율 - 브라질 식각 가스 시장규모 - 아르헨티나 식각 가스 시장규모 - 중동 및 아프리카 국가별 식각 가스 매출 시장 점유율 - 중동 및 아프리카 국가별 식각 가스 판매량 시장 점유율 - 터키 식각 가스 시장규모 - 이스라엘 식각 가스 시장규모 - 사우디 아라비아 식각 가스 시장규모 - 아랍에미리트 식각 가스 시장규모 - 글로벌 식각 가스 생산 능력 - 지역별 식각 가스 생산량 비중, 2023년 VS 2030년 - 식각 가스 산업 가치 사슬 - 마케팅 채널 ※납품 보고서의 구성항목 및 내용은 본 페이지에 기재된 내용과 다를 수 있습니다. 보고서 주문 전에 당사에 보고서 샘플을 요청해서 구성항목 및 기재 내용을 반드시 확인하시길 바랍니다. 보고서 샘플에 없는 내용은 납품 드리는 보고서에도 포함되지 않습니다. |
| ※참고 정보 식각 가스(Etching Gas)는 반도체 제조 공정에서 특정 물질을 제거하여 원하는 패턴을 형성하는 식각(Etching) 과정에 사용되는 화학 물질을 의미합니다. 식각은 주로 웨이퍼 위에 형성된 포토레지스트(Photoresist)라는 감광 물질로 마스크된 영역을 제외한 부분을 선택적으로 제거하여 회로 패턴을 구현하는 핵심적인 공정입니다. 식각 가스는 이처럼 물리적인 방법이나 화학적인 반응을 통해 미세한 회로를 정밀하게 새겨 넣는 데 필수적인 역할을 수행합니다. 식각 가스의 가장 중요한 특징은 특정 물질에 대한 높은 반응성입니다. 식각 공정의 목표는 웨이퍼 상의 특정 재료, 예를 들어 실리콘 산화막(SiO2), 질화 실리콘(SiN), 금속 배선 재료(알루미늄, 구리 등) 또는 실리콘 자체를 선택적으로 제거하는 것입니다. 이를 위해 사용되는 식각 가스는 해당 재료와 빠르고 효율적으로 반응하여 휘발성 화합물을 형성하거나, 이 휘발성 화합물이 기판 표면에서 쉽게 제거되도록 만들어야 합니다. 이러한 선택성은 공정의 정밀도를 결정하는 중요한 요소이며, 원치 않는 다른 막질이나 패턴에는 영향을 주지 않아야 합니다. 식각 가스의 종류는 매우 다양하며, 이는 식각 대상 물질의 종류, 식각 방식(습식 식각 또는 건식 식각), 요구되는 식각 속도, 선택비, 그리고 패턴의 미세함 등에 따라 달라집니다. 습식 식각(Wet Etching)에서 사용되는 식각 가스 또는 식각액은 일반적으로 액체 상태로 존재하며, 화학 반응을 통해 식각 대상 물질을 용해시키거나 반응 생성물을 형성하여 제거합니다. 예를 들어, 실리콘 산화막을 식각하는 데에는 불산(HF) 기반의 용액이 사용되는데, 불산은 실리콘 산화막과 반응하여 휘발성 사불화규소(SiF4)와 물을 생성하거나, 수용성 육불화규산염(H2SiF6)을 형성하여 제거합니다. 질화 실리콘을 식각하는 데에는 인산(H3PO4) 용액이 사용되며, 고온에서 질화 실리콘과 반응하여 휘발성 물질이나 수용성 화합물을 형성합니다. 금속 배선 재료의 경우, 염산(HCl)이나 질산(HNO3)과 같은 산화성 산 용액이 사용되어 금속을 산화시키고 용해시킵니다. 습식 식각은 비교적 간단하고 비용이 저렴하며 높은 선택비를 얻을 수 있다는 장점이 있지만, 등방성 식각(Isotropic Etching)으로 인해 미세 패턴 구현에 한계가 있을 수 있다는 단점이 있습니다. 건식 식각(Dry Etching)은 플라즈마(Plasma)를 이용하여 식각 가스를 이온화시키거나 활성화시켜 식각을 진행하는 방식입니다. 건식 식각은 제어된 조건에서 비등방성 식각(Anisotropic Etching)을 구현할 수 있어 미세 패턴 형성에 매우 중요합니다. 건식 식각에 사용되는 식각 가스의 종류는 식각 대상 물질과 플라즈마의 종류에 따라 매우 다양하게 구분됩니다. * **플루오린(Fluorine) 계열 가스:** 불소(F2), 사불화탄소(CF4), 삼불화메탄(CHF3), 오불화인(PF5), 육불화황(SF6), 육불화텅스텐(WF6) 등이 있습니다. 이 가스들은 플라즈마 상태에서 플루오린 라디칼(F•)이나 이온을 생성하여 실리콘, 실리콘 산화막, 질화 실리콘 등을 효과적으로 식각합니다. 예를 들어, SF6는 실리콘 웨이퍼 식각에 매우 강력한 식각 가스로 사용되며, CF4와 O2의 혼합 가스는 실리콘 산화막 식각에 널리 사용됩니다. WF6는 텅스텐 배선 형성 시 불필요한 텅스텐을 제거하는 데 사용될 수 있습니다. 플루오린 계열 가스는 일반적으로 높은 식각 속도를 제공하지만, 선택비 제어가 어렵거나 플라즈마 중화가 필요할 수 있습니다. * **염소(Chlorine) 계열 가스:** 염소(Cl2), 사염화탄소(CCl4), 삼염화인(PCl3), 오염화인(PCl5), 사염화규소(SiCl4), 염화수소(HCl) 등이 있습니다. 이 가스들은 플라즈마 상태에서 염소 라디칼(Cl•)이나 이온을 생성하여 알루미늄, 실리콘, 게르마늄 등 금속 및 반도체 재료를 식각하는 데 효과적입니다. 특히 알루미늄 및 알루미늄 합금 배선 식각에 염소 계열 가스가 필수적으로 사용됩니다. 예를 들어, CCl4나 BCl3(삼염화붕소)는 알루미늄 식각에 널리 사용되며, SiCl4는 실리콘 에피(Epitaxy) 공정 전 잔류물을 제거하거나 실리콘을 식각하는 데 사용될 수 있습니다. 염소 계열 가스는 플루오린 계열 가스에 비해 금속 식각에 더 효과적이며, 휘발성 금속 염화물을 형성하여 제거합니다. * **탄소(Carbon) 계열 가스:** 메탄(CH4), 에탄(C2H6), 프로판(C3H8)과 같은 탄화수소 계열 가스들이 있습니다. 이러한 가스들은 플라즈마 상태에서 탄소 라디칼이나 수소 라디칼을 생성하여 다양한 식각 공정에 활용됩니다. 예를 들어, CH4는 실리콘 탄화물(SiC)이나 질화 규소(Si3N4) 식각에 사용될 수 있으며, 특정 금속 식각 시 식각 부산물과 반응하여 보호막을 형성하는 역할을 하기도 합니다. 이 외에도 특정 공정에서는 다양한 탄소 함유 가스가 사용되어 식각 속도, 선택비, 표면 거칠기 등을 조절합니다. * **산소(Oxygen) 계열 가스:** 산소(O2)는 단독으로 사용되기보다는 다른 식각 가스와 혼합하여 사용되는 경우가 많습니다. O2는 포토레지스트 잔류물(스크럼, Scum)을 제거하는 데 효과적이며, 플루오린 계열 식각 가스와 함께 사용될 때 실리콘 산화막의 식각 속도를 향상시키고 식각 부산물의 휘발성을 높이는 역할을 합니다. 또한, 식각 과정에서 발생하는 탄소 함유 부산물을 CO나 CO2 형태로 휘발시켜 제거하는 데에도 기여합니다. * **첨가 가스(Additive Gas) 및 버퍼 가스(Buffer Gas):** 식각 공정의 정밀도를 높이기 위해 다양한 첨가 가스나 버퍼 가스가 사용됩니다. 예를 들어, 수소(H2)는 금속 식각 시 과도한 반응을 억제하거나 식각 표면을 환원시키는 역할을 할 수 있으며, 질소(N2)는 플라즈마를 안정화시키거나 반응성을 조절하는 데 사용될 수 있습니다. 또한, 희가스(Noble Gas)인 아르곤(Ar)이나 헬륨(He)은 플라즈마 발생을 돕고 이온 에너지 제어에 사용되기도 합니다. 특히, 이온 결합 물질이나 산화막 식각 시 이온 충돌에 의한 물리적인 식각 효과를 증대시키기 위해 아르곤이 자주 사용됩니다. 식각 가스의 용도는 매우 광범위하며, 반도체 집적회로(IC)의 모든 제조 단계에서 필수적으로 활용됩니다. * **트랜지스터 형성:** 게이트 전극, 소스/드레인 영역 형성 시 실리콘 기판 또는 게이트 절연막 식각에 사용됩니다. 특히, 미세화되는 트랜지스터 구조에서는 고해상도 패턴을 구현하기 위한 정밀한 식각 기술이 요구됩니다. * **배선 형성:** 금속층(알루미늄, 구리, 텅스텐 등)을 식각하여 회로 간의 전기적 연결을 형성하는 데 사용됩니다. 고집적 회로에서는 다층 배선이 필수적이므로, 각 층마다 적합한 식각 가스가 사용됩니다. * **절연막 형성 및 식각:** 실리콘 산화막, 질화 실리콘 등 절연막을 형성하거나 필요한 부분을 제거하여 소자 간의 전기적 간섭을 방지하고 특정 영역만 노출시키는 데 사용됩니다. * **마이크로 электромеханические 시스템 (MEMS):** MEMS 소자의 미세 구조를 형성하는 데에도 다양한 식각 가스가 사용됩니다. * **디스플레이 패널 제조:** LCD, OLED 등의 디스플레이 패널 제조 공정에서도 박막 트랜지스터(TFT) 형성이나 전극 패턴 제작을 위해 식각 가스가 활용됩니다. 식각 가스의 사용과 관련된 주요 기술로는 다음과 같은 것들이 있습니다. * **플라즈마 소스 기술:** 유도 결합 플라즈마(ICP), 정전 용량 결합 플라즈마(CCP), 전자 사이클로트론 공명(ECR) 플라즈마 등 다양한 플라즈마 발생 소스를 이용하여 고품질의 플라즈마를 생성하고 식각 가스를 효율적으로 활성화시키는 기술이 중요합니다. 이를 통해 높은 밀도의 이온과 라디칼을 생성하고 균일한 식각 성능을 확보합니다. * **반응 제어 기술:** 식각 가스의 종류와 혼합 비율, 플라즈마 파워, 압력, 온도 등 다양한 공정 변수를 정밀하게 제어하여 식각 속도, 선택비, 이방성, 표면 거칠기, 결함 등을 최적화하는 기술이 요구됩니다. 실시간으로 공정을 모니터링하고 피드백 제어를 통해 일관된 결과를 얻는 것이 중요합니다. * **혼합 가스 기술:** 단일 가스보다는 여러 종류의 식각 가스를 혼합하여 사용함으로써 특정 재료에 대한 식각 효율을 높이고, 다른 막질에 대한 선택비를 향상시키며, 부산물 제거 능력을 강화하는 기술이 중요합니다. 예를 들어, 불소계 가스와 산소의 혼합은 실리콘 산화막 식각에서 유리하게 작용합니다. * **부산물 관리 기술:** 식각 과정에서 생성되는 부산물은 공정 효율을 저하시키거나 웨이퍼 표면에 잔류하여 문제를 일으킬 수 있습니다. 따라서 생성된 부산물을 효과적으로 제거하고(예: 진공 펌프 시스템, 스크러버 등) 웨이퍼 표면을 깨끗하게 유지하는 기술이 중요합니다. * **안전 및 환경 규제:** 많은 식각 가스는 인화성, 독성, 부식성 등을 가지고 있어 취급 및 관리에 있어 엄격한 안전 규정을 준수해야 합니다. 또한, 사용 후 폐기되는 가스 및 부산물에 대한 환경 규제도 강화되고 있어 친환경적인 식각 공정 개발 및 부산물 처리 기술도 중요하게 다루어지고 있습니다. 현대의 반도체 공정은 나노미터 수준의 미세 패턴을 요구하고 있어, 식각 가스의 선택 및 공정 제어의 중요성은 더욱 커지고 있습니다. 또한, 새로운 소재의 등장과 3차원 구조의 집적화에 따라 기존과는 다른 특성을 가진 식각 가스 및 식각 기술에 대한 연구 개발이 활발히 진행되고 있습니다. 예를 들어, 고해상도 패턴 형성을 위한 저압 플라즈마 공정이나 새로운 재료 식각을 위한 극미량의 가스 제어 기술 등이 연구되고 있습니다. 이처럼 식각 가스는 반도체 기술 발전의 핵심 동력 중 하나로서 지속적으로 진화하고 있습니다. |
| ※본 조사보고서 [글로벌 식각 가스 시장예측 2024-2030] (코드 : MONT2406B14563) 판매에 관한 면책사항을 반드시 확인하세요. |
| ※본 조사보고서 [글로벌 식각 가스 시장예측 2024-2030] 에 대해서 E메일 문의는 여기를 클릭하세요. |
※당 사이트에 없는 보고서도 취급 가능한 경우가 많으니 문의 주세요!