| ■ 영문 제목 : Global EUV Photomask Substrate Market 2024 by Manufacturers, Regions, Type and Application, Forecast to 2030 | |
 | ■ 상품코드 : GIR2407E18833 ■ 조사/발행회사 : Globalinforesearch ■ 발행일 : 2024년 4월 (2025년 또는 2026년) 갱신판이 있습니다. 문의주세요. ■ 페이지수 : 약100 ■ 작성언어 : 영어 ■ 보고서 형태 : PDF ■ 납품 방식 : E메일 (주문후 2-3일 소요) ■ 조사대상 지역 : 글로벌 ■ 산업 분야 : IT/전자 |
| Single User (1명 열람용) | USD3,480 ⇒환산￦4,872,000 | 견적의뢰/주문/질문 |
| Multi User (20명 열람용) | USD5,220 ⇒환산￦7,308,000 | 견적의뢰/주문/질문 |
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조사회사 Global Info Research의 최신 조사에 따르면, 세계의 EUV 포토 마스크 기판 시장 규모는 2023년에 XXX백만 달러로 분석되었으며, 검토 기간 동안 xx%의 CAGR로 2030년까지 XXX백만 달러의 재조정된 규모로 성장이 예측됩니다.
Global Info Research 보고서에는 EUV 포토 마스크 기판 산업 체인 동향 개요, 7nm 및 5nm 반도체 공정, 기타 반도체 공정 응용분야 및 선진 및 개발 도상국의 주요 기업의 시장 현황, EUV 포토 마스크 기판의 최첨단 기술, 특허, 최신 용도 및 시장 동향을 분석했습니다.
지역별로는 주요 지역의 EUV 포토 마스크 기판 시장을 분석합니다. 북미와 유럽은 정부 이니셔티브와 수요자 인식 제고에 힘입어 꾸준한 성장세를 보이고 있습니다. 아시아 태평양, 특히 중국은 탄탄한 내수 수요와 지원 정책, 강력한 제조 기반을 바탕으로 글로벌 EUV 포토 마스크 기판 시장을 주도하고 있습니다.
[주요 특징]
본 보고서는 EUV 포토 마스크 기판 시장에 대한 포괄적인 이해를 제공합니다. 본 보고서는 산업에 대한 전체적인 관점과 개별 구성 요소 및 이해 관계자에 대한 자세한 통찰력을 제공합니다. 본 보고서는 EUV 포토 마스크 기판 산업 내의 시장 역학, 동향, 과제 및 기회를 분석합니다. 또한, 거시적 관점에서 시장을 분석하는 것이 포함됩니다.
시장 규모 및 세분화: 본 보고서는 판매량, 매출 및 종류별 (예 : 6″ X 6″ 기판, 기타)의 시장 점유율을 포함한 전체 시장 규모에 대한 데이터를 수집합니다.
산업 분석: 보고서는 정부 정책 및 규제, 기술 발전, 수요자 선호도, 시장 역학 등 광범위한 산업 동향을 분석합니다. 이 분석은 EUV 포토 마스크 기판 시장에 영향을 미치는 주요 동인과 과제를 이해하는데 도움이 됩니다.
지역 분석: 본 보고서에는 지역 또는 국가 단위로 EUV 포토 마스크 기판 시장을 조사하는 것이 포함됩니다. 보고서는 정부 인센티브, 인프라 개발, 경제 상황 및 수요자 행동과 같은 지역 요인을 분석하여 다양한 시장 내의 변화와 기회를 식별합니다.
시장 전망: 보고서는 수집된 데이터와 분석을 통해 EUV 포토 마스크 기판 시장에 대한 미래 전망 및 예측을 다룹니다. 여기에는 시장 성장률 추정, 시장 수요 예측, 새로운 트렌드 파악 등이 포함될 수 있습니다. 본 보고서에는 EUV 포토 마스크 기판에 대한 보다 세분화된 접근 방식도 포함됩니다.
기업 분석: 본 보고서는 EUV 포토 마스크 기판 제조업체, 공급업체 및 기타 관련 업계 플레이어를 다룹니다. 이 분석에는 재무 성과, 시장 포지셔닝, 제품 포트폴리오, 파트너십 및 전략에 대한 조사가 포함됩니다.
수요자 분석: 보고서는 EUV 포토 마스크 기판에 대한 수요자 행동, 선호도 및 태도에 대한 데이터를 다룹니다. 여기에는 설문 조사, 인터뷰 및 응용 분야별 (7nm 및 5nm 반도체 공정, 기타 반도체 공정)의 다양한 수요자 리뷰 및 피드백 분석이 포함될 수 있습니다.
기술 분석: EUV 포토 마스크 기판과 관련된 특정 기술을 다루는 보고서입니다. EUV 포토 마스크 기판 분야의 현재 상황 및 잠재적 미래 발전 가능성을 평가합니다.
경쟁 환경: 본 보고서는 개별 기업, 공급업체 및 수요업체를 분석하여 EUV 포토 마스크 기판 시장의 경쟁 환경에 대한 통찰력을 제공합니다. 이 분석은 시장 점유율, 경쟁 우위 및 업계 플레이어 간의 차별화 가능성을 이해하는 데 도움이 됩니다.
시장 검증: 본 보고서에는 설문 조사, 인터뷰 및 포커스 그룹과 같은 주요 조사를 통해 결과 및 예측을 검증하는 작업이 포함됩니다.
[시장 세분화]
EUV 포토 마스크 기판 시장은 종류 및 용도별로 나뉩니다. 2019-2030년 기간 동안 세그먼트 간의 시장규모에 대한 정확한 계산 및 예측을 볼륨 및 금액 측면에서 제공합니다.
종류별 시장 세그먼트
– 6″ X 6″ 기판, 기타
용도별 시장 세그먼트
– 7nm 및 5nm 반도체 공정, 기타 반도체 공정
주요 대상 기업
– AGC,Hoya,S&S Tech,Applied Materials,Photronics Inc,Toppan Photomasks
지역 분석은 다음을 포함합니다.
– 북미 (미국, 캐나다, 멕시코)
– 유럽 (독일, 프랑스, 영국, 러시아, 이탈리아)
– 아시아 태평양 (중국, 일본, 한국, 인도, 동남아시아, 호주)
– 남미 (브라질, 아르헨티나, 콜롬비아)
– 중동 및 아프리카 (사우디아라비아, 아랍에미리트, 이집트, 남아프리카공화국)
본 조사 보고서는 아래 항목으로 구성되어 있습니다.
– EUV 포토 마스크 기판 제품 범위, 시장 개요, 시장 추정, 주의 사항 및 기준 연도를 설명합니다.
– 2019년부터 2024년까지 EUV 포토 마스크 기판의 가격, 판매량, 매출 및 세계 시장 점유율과 함께 EUV 포토 마스크 기판의 주요 제조업체를 프로파일링합니다.
– EUV 포토 마스크 기판 경쟁 상황, 판매량, 매출 및 주요 제조업체의 글로벌 시장 점유율이 상세하게 분석 됩니다.
– EUV 포토 마스크 기판 상세 데이터는 2019년부터 2030년까지 지역별 판매량, 소비금액 및 성장성을 보여주기 위해 지역 레벨로 표시됩니다.
– 2019년부터 2030년까지 판매량 시장 점유율 및 성장률을 종류별, 용도별로 분류합니다.
– 2017년부터 2023년까지 세계 주요 국가의 판매량, 소비금액 및 시장 점유율과 함께 국가 레벨로 판매 데이터를 분류하고, 2025년부터 2030년까지 판매량 및 매출과 함께 지역, 종류 및 용도별로 EUV 포토 마스크 기판 시장 예측을 수행합니다.
– 시장 역학, 성장요인, 저해요인, 동향 및 포터의 다섯 가지 힘 분석.
– 주요 원자재 및 주요 공급 업체, EUV 포토 마스크 기판의 산업 체인.
– EUV 포토 마스크 기판 판매 채널, 유통 업체, 고객(수요기업), 조사 결과 및 결론을 설명합니다.
※납품 보고서의 구성항목 및 내용은 본 페이지에 기재된 내용과 다를 수 있습니다. 보고서 주문 전에 당사에 보고서 샘플을 요청해서 구성항목 및 기재 내용을 반드시 확인하시길 바랍니다. 보고서 샘플에 없는 내용은 납품 드리는 보고서에도 포함되지 않습니다.
■ 보고서 목차■ 시장 개요 ■ 제조업체 프로필 AGC Hoya S&S Tech ■ 제조업체간 경쟁 환경 ■ 지역별 소비 분석 ■ 종류별 시장 세분화 ■ 용도별 시장 세분화 ■ 북미 ■ 유럽 ■ 아시아 태평양 ■ 남미 ■ 중동 및 아프리카 ■ 시장 역학 ■ 원자재 및 산업 체인 ■ 유통 채널별 출하량 ■ 조사 결과 [그림 목록]- EUV 포토 마스크 기판 이미지 - 종류별 세계의 EUV 포토 마스크 기판 소비 금액 (2019 & 2023 & 2030) - 2023년 종류별 세계의 EUV 포토 마스크 기판 소비 금액 시장 점유율 - 용도별 세계의 EUV 포토 마스크 기판 소비 금액 (2019 & 2023 & 2030) - 2023년 용도별 세계의 EUV 포토 마스크 기판 소비 금액 시장 점유율 - 세계의 EUV 포토 마스크 기판 소비 금액 (2019 & 2023 & 2030) - 세계의 EUV 포토 마스크 기판 소비 금액 및 예측 (2019-2030) - 세계의 EUV 포토 마스크 기판 판매량 (2019-2030) - 세계의 EUV 포토 마스크 기판 평균 가격 (2019-2030) - 2023년 제조업체별 세계의 EUV 포토 마스크 기판 판매량 시장 점유율 - 2023년 제조업체별 세계의 EUV 포토 마스크 기판 소비 금액 시장 점유율 - 2023년 상위 3개 EUV 포토 마스크 기판 제조업체(소비 금액) 시장 점유율 - 2023년 상위 6개 EUV 포토 마스크 기판 제조업체(소비 금액) 시장 점유율 - 지역별 EUV 포토 마스크 기판 판매량 시장 점유율 - 지역별 EUV 포토 마스크 기판 소비 금액 시장 점유율 - 북미 EUV 포토 마스크 기판 소비 금액 - 유럽 EUV 포토 마스크 기판 소비 금액 - 아시아 태평양 EUV 포토 마스크 기판 소비 금액 - 남미 EUV 포토 마스크 기판 소비 금액 - 중동 및 아프리카 EUV 포토 마스크 기판 소비 금액 - 세계의 종류별 EUV 포토 마스크 기판 판매량 시장 점유율 - 세계의 종류별 EUV 포토 마스크 기판 소비 금액 시장 점유율 - 세계의 종류별 EUV 포토 마스크 기판 평균 가격 - 세계의 용도별 EUV 포토 마스크 기판 판매량 시장 점유율 - 세계의 용도별 EUV 포토 마스크 기판 소비 금액 시장 점유율 - 세계의 용도별 EUV 포토 마스크 기판 평균 가격 - 북미 EUV 포토 마스크 기판 종류별 판매량 시장 점유율 - 북미 EUV 포토 마스크 기판 용도별 판매 수량 시장 점유율 - 북미 EUV 포토 마스크 기판 국가별 판매 수량 시장 점유율 - 북미 EUV 포토 마스크 기판 국가별 소비 금액 시장 점유율 - 미국 EUV 포토 마스크 기판 소비 금액 및 성장률 - 캐나다 EUV 포토 마스크 기판 소비 금액 및 성장률 - 멕시코 EUV 포토 마스크 기판 소비 금액 및 성장률 - 유럽 EUV 포토 마스크 기판 종류별 판매량 시장 점유율 - 유럽 EUV 포토 마스크 기판 용도별 판매량 시장 점유율 - 유럽 EUV 포토 마스크 기판 국가별 판매량 시장 점유율 - 유럽 EUV 포토 마스크 기판 국가별 소비 금액 시장 점유율 - 독일 EUV 포토 마스크 기판 소비 금액 및 성장률 - 프랑스 EUV 포토 마스크 기판 소비 금액 및 성장률 - 영국 EUV 포토 마스크 기판 소비 금액 및 성장률 - 러시아 EUV 포토 마스크 기판 소비 금액 및 성장률 - 이탈리아 EUV 포토 마스크 기판 소비 금액 및 성장률 - 아시아 태평양 EUV 포토 마스크 기판 종류별 판매량 시장 점유율 - 아시아 태평양 EUV 포토 마스크 기판 용도별 판매량 시장 점유율 - 아시아 태평양 EUV 포토 마스크 기판 지역별 판매 수량 시장 점유율 - 아시아 태평양 EUV 포토 마스크 기판 지역별 소비 금액 시장 점유율 - 중국 EUV 포토 마스크 기판 소비 금액 및 성장률 - 일본 EUV 포토 마스크 기판 소비 금액 및 성장률 - 한국 EUV 포토 마스크 기판 소비 금액 및 성장률 - 인도 EUV 포토 마스크 기판 소비 금액 및 성장률 - 동남아시아 EUV 포토 마스크 기판 소비 금액 및 성장률 - 호주 EUV 포토 마스크 기판 소비 금액 및 성장률 - 남미 EUV 포토 마스크 기판 종류별 판매량 시장 점유율 - 남미 EUV 포토 마스크 기판 용도별 판매량 시장 점유율 - 남미 EUV 포토 마스크 기판 국가별 판매 수량 시장 점유율 - 남미 EUV 포토 마스크 기판 국가별 소비 금액 시장 점유율 - 브라질 EUV 포토 마스크 기판 소비 금액 및 성장률 - 아르헨티나 EUV 포토 마스크 기판 소비 금액 및 성장률 - 중동 및 아프리카 EUV 포토 마스크 기판 종류별 판매량 시장 점유율 - 중동 및 아프리카 EUV 포토 마스크 기판 용도별 판매량 시장 점유율 - 중동 및 아프리카 EUV 포토 마스크 기판 지역별 판매량 시장 점유율 - 중동 및 아프리카 EUV 포토 마스크 기판 지역별 소비 금액 시장 점유율 - 터키 EUV 포토 마스크 기판 소비 금액 및 성장률 - 이집트 EUV 포토 마스크 기판 소비 금액 및 성장률 - 사우디 아라비아 EUV 포토 마스크 기판 소비 금액 및 성장률 - 남아프리카 공화국 EUV 포토 마스크 기판 소비 금액 및 성장률 - EUV 포토 마스크 기판 시장 성장 요인 - EUV 포토 마스크 기판 시장 제약 요인 - EUV 포토 마스크 기판 시장 동향 - 포터의 다섯 가지 힘 분석 - 2023년 EUV 포토 마스크 기판의 제조 비용 구조 분석 - EUV 포토 마스크 기판의 제조 공정 분석 - EUV 포토 마스크 기판 산업 체인 - 직접 채널 장단점 - 간접 채널 장단점 - 방법론 - 조사 프로세스 및 데이터 소스 ※납품 보고서의 구성항목 및 내용은 본 페이지에 기재된 내용과 다를 수 있습니다. 보고서 주문 전에 당사에 보고서 샘플을 요청해서 구성항목 및 기재 내용을 반드시 확인하시길 바랍니다. 보고서 샘플에 없는 내용은 납품 드리는 보고서에도 포함되지 않습니다. |
| ※참고 정보 극자외선(EUV) 리소그래피는 차세대 반도체 제조 기술의 핵심으로, 기존의 불화아르곤(ArF) 리소그래피로는 구현하기 어려운 미세 패턴을 형성할 수 있게 해줍니다. 이러한 EUV 리소그래피 공정의 근간을 이루는 핵심 부품이 바로 EUV 포토 마스크 기판입니다. EUV 포토 마스크 기판은 복잡하고 정밀한 반도체 회로 패턴을 고해상도로 웨이퍼에 전사하기 위한 마스크의 베이스 역할을 수행합니다. EUV 포토 마스크 기판의 기본적인 정의는 극자외선 광원을 이용하여 미세 패턴을 형성하는 리소그래피 공정에서 사용되는 마스크 제작을 위한 고품질의 투명 또는 반사 기반 재료를 의미합니다. 전통적인 포토 마스크와는 달리, EUV 광은 공기 중의 수분을 비롯한 다양한 물질에 의해 흡수되기 때문에 진공 환경에서만 사용 가능하며, 이는 마스크 기판 자체의 특성에도 큰 영향을 미칩니다. 따라서 EUV 포토 마스크 기판은 높은 투과율, 낮은 열팽창 계수, 뛰어난 평탄도, 그리고 EUV 광에 대한 안정성 등 여러 가지 엄격한 요구 사항을 만족해야 합니다. EUV 포토 마스크 기판의 가장 두드러진 특징 중 하나는 바로 **EUV 광에 대한 높은 투과율**입니다. EUV 광은 파장이 매우 짧기 때문에(13.5 nm), 일반적인 석영(quartz)이나 유리 재료로는 흡수율이 매우 높아 마스크 기판으로 사용하기 어렵습니다. 따라서 EUV 포토 마스크 기판으로는 EUV 광을 잘 투과시키는 특수한 재료가 사용됩니다. 대표적으로는 **몰리브덴 실리사이드(MoSi)**나 **몰리브덴 규화물(MoSi$_2$)**과 같은 금속 실리사이드 화합물이 사용되며, 때로는 이러한 물질들을 박막 형태로 코팅하여 사용하기도 합니다. 이러한 재료들은 EUV 광에 대한 투과율이 높을 뿐만 아니라, 흡수된 광 에너지를 효율적으로 소산시키는 능력도 가지고 있어 마스크의 성능과 내구성을 향상시키는 데 기여합니다. 또 다른 중요한 특징은 **낮은 열팽창 계수(CTE, Coefficient of Thermal Expansion)**입니다. EUV 리소그래피 공정은 높은 에너지의 광원을 사용하기 때문에 마스크 기판에 열이 발생할 수 있습니다. 이 열로 인해 마스크 기판이 팽창하게 되면, 미세한 패턴의 위치가 틀어지게 되어 웨이퍼에 전사되는 회로의 정확도가 떨어지게 됩니다. 이를 방지하기 위해 EUV 포토 마스크 기판은 실온과 EUV 조사 시의 온도 변화에 따른 팽창 정도가 매우 작아야 합니다. 일반적으로 **실리콘 카바이드(SiC)**나 **실리콘(Si)**과 같은 재료들이 이러한 낮은 CTE 특성을 만족시키기 위해 기판 재료로 고려되거나, 기존 유리 기판 위에 낮은 CTE를 가지는 박막을 코팅하는 방식으로 활용됩니다. **뛰어난 평탄도(Flatness)** 또한 EUV 포토 마스크 기판의 필수적인 요구 사항입니다. 마스크 기판의 표면이 불균일하게 되면, EUV 광이 웨이퍼로 전달되는 과정에서 초점이 흐려지거나 왜곡이 발생하여 패턴의 해상도와 균일도가 저하됩니다. 따라서 EUV 포토 마스크 기판은 나노미터 수준의 극도로 높은 평탄도를 유지해야 하며, 이를 위해 정밀한 연마 공정과 엄격한 품질 관리가 필수적입니다. 표면의 미세한 불순물이나 결함은 EUV 광에 의해 증폭되어 웨이퍼에 치명적인 영향을 미칠 수 있으므로, 초청정(ultra-clean) 환경에서의 제작 및 취급이 매우 중요합니다. EUV 포토 마스크 기판은 크게 **반사형 마스크 기판(Reflective Mask Substrate)**과 **투과형 마스크 기판(Transmissive Mask Substrate)**으로 구분될 수 있습니다. 그러나 EUV 광의 높은 흡수율 문제로 인해 현재 상용화된 EUV 포토 마스크는 대부분 반사형 마스크입니다. **반사형 마스크 기판**은 기판 위에 EUV 광을 반사시키는 다층 박막 구조(multilayer film structure)를 형성하고, 그 위에 패턴 정보를 기록하는 방식입니다. 기판 자체는 주로 실리콘 카바이드(SiC)와 같이 낮은 열팽창 계수를 가지는 물질로 제작되며, 그 위에 몰리브덴/실리콘(Mo/Si) 등의 다층 박막을 코팅하여 EUV 광을 효율적으로 반사시킵니다. 이 다층 박막은 브래그 반사기(Bragg reflector)와 유사한 원리로 작동하여, 특정 파장의 EUV 광을 높은 효율로 반사시킵니다. 패턴 정보는 이 반사층 위에 형성된 흡수체(absorber) 박막에 그려지며, 이 흡수체 박막은 EUV 광을 흡수하여 불필요한 영역의 빛이 웨이퍼에 도달하는 것을 막습니다. **투과형 마스크 기판**은 이론적으로는 빛을 투과시켜 패턴을 형성하는 방식이지만, EUV 광의 특성상 효과적인 투과형 마스크 재료를 찾는 것이 매우 어렵습니다. 일부 연구에서는 특정 종류의 결정성 물질이나 특수 코팅을 통해 EUV 광의 투과율을 높이려는 시도가 있었지만, 아직까지는 반사형 마스크가 주류를 이루고 있습니다. 만약 미래에 효과적인 투과형 EUV 마스크 기판 재료가 개발된다면, 마스크 제작 공정이 간소화되고 비용이 절감될 수 있는 가능성이 있습니다. EUV 포토 마스크 기판의 주요 용도는 당연하게도 **첨단 반도체 칩 제조**입니다. 스마트폰의 AP, 고성능 서버용 CPU, AI 가속기 등에 사용되는 고집적, 고성능 반도체 회로 패턴을 구현하는 데 필수적입니다. 미세 회로 패턴을 웨이퍼에 정확하고 균일하게 전사함으로써 반도체 소자의 성능을 극대화하고, 더 작은 공간에 더 많은 기능을 집약시킬 수 있게 합니다. 특히 7nm 이하 공정에서는 EUV 리소그래피가 없이는 구현이 불가능한 수준의 미세 패턴을 다루기 때문에, EUV 포토 마스크 기판의 중요성은 더욱 강조됩니다. EUV 포토 마스크 기판과 관련된 기술은 매우 다양하고 복잡합니다. 먼저, **기판 재료 자체의 개발**이 중요합니다. 앞서 언급한 실리콘 카바이드(SiC) 외에도, 더 낮은 CTE를 가지거나 EUV 광에 대한 안정성이 뛰어난 새로운 재료에 대한 연구가 지속적으로 이루어지고 있습니다. 또한, **기판 표면 처리 및 연마 기술**은 EUV 마스크의 성능을 결정하는 핵심 요소로, 나노미터 수준의 평탄도를 구현하고 표면 결함을 최소화하는 기술이 중요합니다. **다층 박막 증착 기술** 또한 EUV 포토 마스크 기판과 불가분의 관계에 있습니다. 몰리브덴/실리콘(Mo/Si) 다층 박막은 극도로 얇은 두께로 여러 번 반복 증착되는데, 각 박막의 두께와 주기(period)를 정밀하게 제어하는 것이 EUV 반사율을 최적화하는 데 매우 중요합니다. 이를 위해 스퍼터링(sputtering)이나 전자빔 증착(electron beam deposition)과 같은 첨단 박막 증착 기술이 사용되며, 증착 과정에서 발생하는 내부 응력이나 박막의 결정성을 제어하는 기술도 중요합니다. **패턴 형성 기술** 역시 EUV 포토 마스크 제작 과정에서 핵심적인 역할을 합니다. 마스크에 그려지는 패턴은 전자빔 리소그래피(electron beam lithography, EBL)와 같은 고분해능 프린팅 기술을 이용하여 증착된 흡수체 박막에 형성됩니다. 이 과정에서 전자빔의 빔 사이즈, 스캔 속도, 조사량 등을 정밀하게 제어하여 원하는 패턴을 오류 없이 구현하는 것이 중요합니다. 또한, **결함 검출 및 수리 기술**은 EUV 포토 마스크의 품질을 보증하는 데 필수적입니다. 미세한 결함이라도 웨이퍼 전사 시 치명적인 오류를 유발할 수 있기 때문에, 고해상도의 검사 장비를 통해 결함을 정확하게 검출하고, 필요하다면 레이저 등을 이용해 결함을 수리하는 기술이 요구됩니다. 결론적으로, EUV 포토 마스크 기판은 첨단 반도체 제조 기술의 근간을 이루는 핵심 부품으로서, 극자외선 광원의 특성을 이해하고 이를 효과적으로 활용하기 위한 고도의 재료 과학 및 공정 기술이 집약되어 있습니다. 끊임없이 요구되는 미세화 및 성능 향상 추세 속에서 EUV 포토 마스크 기판의 발전은 미래 반도체 산업의 경쟁력을 좌우하는 중요한 요소가 될 것입니다. |
| ※본 조사보고서 [세계의 EUV 포토 마스크 기판 시장 2024 : 기업, 종류, 용도, 시장예측] (코드 : GIR2407E18833) 판매에 관한 면책사항을 반드시 확인하세요. |
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