| ■ 영문 제목 : Global Epitaxial Equipment Market Growth 2025-2031 | |
 | ■ 상품코드 : LPK23JL1430 ■ 조사/발행회사 : LP Information ■ 발행일 : 2025년 3월 ■ 페이지수 : 116 ■ 작성언어 : 영어 ■ 보고서 형태 : PDF ■ 납품 방식 : E메일 ■ 조사대상 지역 : 글로벌 ■ 산업 분야 : 전자&반도체 |
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| LPI (LP Information)의 최신 조사 보고서는 에피택시 장치의 과거 판매실적을 살펴보고 2024년의 에피택시 장치 판매실적을 검토하여 2025년부터 2031년까지 예상되는 에피택시 장치 판매에 대한 지역 및 시장 세그먼트별 포괄적인 분석을 제공합니다. 세계의 에피택시 장치 시장규모는 2024년 xxx백만 달러에서 연평균 xx% 성장하여 2031년에는 xxx백만 달러에 달할 것으로 예측되고 있습니다. 본 보고서의 시장규모 데이터는 무역 전쟁 및 러시아-우크라이나 전쟁의 영향을 반영했습니다. 본 보고서는 에피택시 장치의 세계시장에 관해서 조사, 분석한 자료로서, 기업별 시장 점유율, 지역별 시장규모 (미주, 미국, 캐나다, 멕시코, 브라질, 아시아, 중국, 일본, 한국, 동남아시아, 인도, 유럽, 독일, 프랑스, 영국, 이탈리아, 러시아, 중동/아프리카, 이집트, 남아프리카, 터키, 중동GCC국 등), 시장동향, 판매/유통업자/고객 리스트, 시장예측 (2026년-2031년), 주요 기업동향 (기업정보, 제품, 판매량, 매출, 가격, 매출총이익) 등의 정보를 포함하고 있습니다. 또한, 주요지역의 종류별 시장규모 (MOCVD 장치, 분자선 에피택시 장치, 기타 CVD 장치)와 용도별 시장규모 (LED 산업, 가전 기기, 기타) 데이터도 수록되어 있습니다. ***** 목차 구성 ***** 보고서의 범위 경영자용 요약 - 세계의 에피택시 장치 시장규모 2020년-2031년 - 지역별 에피택시 장치 시장분석 - 종류별 에피택시 장치 시장규모 2020년-2025년 (MOCVD 장치, 분자선 에피택시 장치, 기타 CVD 장치) - 용도별 에피택시 장치 시장규모 2020년-2025년 (LED 산업, 가전 기기, 기타) 기업별 에피택시 장치 시장분석 - 기업별 에피택시 장치 판매량 - 기업별 에피택시 장치 매출액 - 기업별 에피택시 장치 판매가격 - 주요기업의 에피택시 장치 생산거점, 판매거점 - 시장 집중도 분석 지역별 분석 - 지역별 에피택시 장치 판매량 2020년-2025년 - 지역별 에피택시 장치 매출액 2020년-2025년 미주 시장 - 미주의 에피택시 장치 시장규모 2020년-2025년 - 미주의 에피택시 장치 시장규모 : 종류별 - 미주의 에피택시 장치 시장규모 : 용도별 - 미국 에피택시 장치 시장규모 - 캐나다 에피택시 장치 시장규모 - 멕시코 에피택시 장치 시장규모 - 브라질 에피택시 장치 시장규모 아시아 시장 - 아시아의 에피택시 장치 시장규모 2020년-2025년 - 아시아의 에피택시 장치 시장규모 : 종류별 - 아시아의 에피택시 장치 시장규모 : 용도별 - 중국 에피택시 장치 시장규모 - 일본 에피택시 장치 시장규모 - 한국 에피택시 장치 시장규모 - 동남아시아 에피택시 장치 시장규모 - 인도 에피택시 장치 시장규모 유럽 시장 - 유럽의 에피택시 장치 시장규모 2020년-2025년 - 유럽의 에피택시 장치 시장규모 : 종류별 - 유럽의 에피택시 장치 시장규모 : 용도별 - 독일 에피택시 장치 시장규모 - 프랑스 에피택시 장치 시장규모 - 영국 에피택시 장치 시장규모 중동/아프리카 시장 - 중동/아프리카의 에피택시 장치 시장규모 2020년-2025년 - 중동/아프리카의 에피택시 장치 시장규모 : 종류별 - 중동/아프리카의 에피택시 장치 시장규모 : 용도별 - 이집트 에피택시 장치 시장규모 - 남아프리카 에피택시 장치 시장규모 - 중동GCC 에피택시 장치 시장규모 시장의 성장요인, 과제, 동향 - 시장의 성장요인, 기회 - 시장의 과제, 리스크 - 산업 동향 제조원가 구조 분석 - 원재료 및 공급업체 - 에피택시 장치의 제조원가 구조 분석 - 에피택시 장치의 제조 프로세스 분석 - 에피택시 장치의 산업체인 구조 마케팅, 유통업체, 고객 - 판매채널 - 에피택시 장치의 유통업체 - 에피택시 장치의 주요 고객 지역별 에피택시 장치 시장 예측 - 지역별 에피택시 장치 시장규모 예측 2026년-2031년 - 미주 지역 예측 - 아시아 지역 예측 - 유럽 지역 예측 - 중동/아프리카 지역 예측 - 에피택시 장치의 종류별 시장예측 (MOCVD 장치, 분자선 에피택시 장치, 기타 CVD 장치) - 에피택시 장치의 용도별 시장예측 (LED 산업, 가전 기기, 기타) 주요 기업 분석 (기업정보, 제품, 판매량, 매출, 가격, 매출총이익) - AIXTRON, Advanced Micro-Fabrication Equipment Inc, Veeco, LPE (Italy), TAIYO NIPPON SANSO, ASMI, Applied Material, NuFlare, Tokyo Electron, CETC, NAURA, Riber, DCA, Scienta Omicron, Pascal, Dr. Eberl MBE-Komponenten GmbH 조사의 결론 |
LPI (LP Information)’ newest research report, the “Epitaxial Equipment Industry Forecast” looks at past sales and reviews total world Epitaxial Equipment sales in 2024, providing a comprehensive analysis by region and market sector of projected Epitaxial Equipment sales for 2025 through 2031. With Epitaxial Equipment sales broken down by region, market sector and sub-sector, this report provides a detailed analysis in US$ millions of the world Epitaxial Equipment industry.
This Insight Report provides a comprehensive analysis of the global Epitaxial Equipment landscape and highlights key trends related to product segmentation, company formation, revenue, and market share, latest development, and M&A activity. This report also analyzes the strategies of leading global companies with a focus on Epitaxial Equipment portfolios and capabilities, market entry strategies, market positions, and geographic footprints, to better understand these firms’ unique position in an accelerating global Epitaxial Equipment market.
This Insight Report evaluates the key market trends, drivers, and affecting factors shaping the global outlook for Epitaxial Equipment and breaks down the forecast by type, by application, geography, and market size to highlight emerging pockets of opportunity. With a transparent methodology based on hundreds of bottom-up qualitative and quantitative market inputs, this study forecast offers a highly nuanced view of the current state and future trajectory in the global Epitaxial Equipment.
The global Epitaxial Equipment market size is projected to grow from US$ 1279.7 million in 2024 to US$ 1737 million in 2031; it is expected to grow at a CAGR of 1737 from 2025 to 2031.
Global Epitaxial Equipment includes AIXTRON, Advanced Micro, ASMI, NuFlare, etc. Global top four companies hold a share over 56%. North America is the largest market, with a share about 25%, followed by China and Japan with the share about 24% and 12%.
This report presents a comprehensive overview, market shares, and growth opportunities of Epitaxial Equipment market by product type, application, key manufacturers and key regions and countries.
[Market Segmentation]
Segmentation by type
MOCVD Equipment
Molecular Beam Epitaxy Equipment
Other CVD Devices
Segmentation by application
LED Industry
Consumer Electrons
Others
This report also splits the market by region:
Americas
United States
Canada
Mexico
Brazil
APAC
China
Japan
Korea
Southeast Asia
India
Australia
Europe
Germany
France
UK
Italy
Russia
Middle East & Africa
Egypt
South Africa
Israel
Turkey
GCC Countries
The below companies that are profiled have been selected based on inputs gathered from primary experts and analyzing the company’s coverage, product portfolio, its market penetration.
AIXTRON
Advanced Micro-Fabrication Equipment Inc
Veeco
LPE (Italy)
TAIYO NIPPON SANSO
ASMI
Applied Material
NuFlare
Tokyo Electron
CETC
NAURA
Riber
DCA
Scienta Omicron
Pascal
Dr. Eberl MBE-Komponenten GmbH
[Key Questions Addressed in this Report]
What is the 10-year outlook for the global Epitaxial Equipment market?
What factors are driving Epitaxial Equipment market growth, globally and by region?
Which technologies are poised for the fastest growth by market and region?
How do Epitaxial Equipment market opportunities vary by end market size?
How does Epitaxial Equipment break out type, application?
What are the influences of trade war and Russia-Ukraine war?
1 Scope of the Report |
| ※참고 정보 에피택시 장치는 반도체 소자 제작 공정에서 매우 중요한 역할을 하는 설비입니다. 에피택시(Epitaxy)란, 기판 위에 결정성이 높은 박막을 성장시키는 기술을 의미하며, 에피택시 장치는 이러한 에피택시 공정을 수행하기 위한 핵심 장비입니다. 에피택시 기술은 성장시키는 박막의 결정 방향이 기판의 결정 방향과 동일하게 형성되는 박막 성장 방식으로, 이를 통해 기판과 거의 동일한 전기적, 광학적 특성을 가지는 고품질의 박막을 얻을 수 있습니다. 이러한 고품질 박막은 집적회로(IC), 발광다이오드(LED), 레이저 다이오드(LD), 태양전지 등 다양한 첨단 전자 소자 및 광전자 소자의 성능을 결정하는 중요한 요소입니다. 에피택시 장치의 가장 기본적인 개념은 특정 조건 하에서 원료 물질을 기판 표면에 증착시켜 결정성이 우수한 박막을 성장시키는 것입니다. 이 과정에서 가장 중요한 것은 기판의 결정 구조를 그대로 유지하면서 원자 단위로 층을 쌓아 올리는 것입니다. 이를 위해 에피택시 장치는 매우 정밀하게 제어되는 온도, 압력, 반응 가스의 조성 및 흐름, 증착 속도 등의 공정 변수를 유지해야 합니다. 이러한 엄격한 제어는 박막 내의 결함, 불순물, 결정립계 등을 최소화하여 소자의 전기적, 광학적 특성을 극대화하는 데 필수적입니다. 에피택시 장치의 특징을 살펴보면, 첫째, 극도로 청정한 환경이 요구된다는 점을 들 수 있습니다. 박막 성장에 미치는 외부 오염은 결과적으로 성장되는 박막의 품질을 저하시키고 소자의 성능을 떨어뜨리기 때문에, 에피택시 장치는 진공 또는 불활성 가스 환경에서 작동하며, 내부 청정도를 유지하기 위한 다양한 기술이 적용됩니다. 둘째, 온도 제어가 매우 정밀하게 이루어져야 합니다. 에피택시 반응은 온도에 매우 민감하며, 미세한 온도 변화에도 결정 성장 속도, 결정성, 박막의 조성 등이 크게 달라질 수 있습니다. 따라서 에피택시 장치는 수십 나노미터(nm) 수준의 정밀한 온도 제어 시스템을 갖추고 있습니다. 셋째, 다양한 종류의 원료 가스를 정밀하게 제어하고 혼합하여 공급하는 가스 공급 시스템이 중요합니다. 에피택시 공정에 사용되는 원료 가스는 특정 결정 구조를 가진 박막을 성장시키기 위해 화학량론적 비율로 공급되어야 하며, 이러한 가스의 정밀한 혼합 및 제어는 성장되는 박막의 조성 및 특성을 결정짓는 핵심적인 요소입니다. 넷째, 복잡하고 정밀한 기계적 구조를 가지고 있습니다. 기판을 회전시키거나, 로딩 및 언로딩 과정을 자동화하는 등의 기능을 수행하기 위해 다양한 모터, 센서, 로봇 팔 등이 장착되어 있습니다. 에피택시 장치의 종류는 원료 공급 방식과 성장 메커니즘에 따라 크게 두 가지로 나눌 수 있습니다. 첫째, 화학기상증착(CVD, Chemical Vapor Deposition) 방식입니다. CVD 방식은 휘발성 전구체 가스를 반응로 내부에 공급하여 고온의 기판 표면에서 화학 반응을 일으켜 박막을 성장시키는 방법입니다. CVD 방식은 비교적 저렴한 비용으로 넓은 면적에 균일한 박막을 성장시킬 수 있다는 장점이 있습니다. CVD 방식 내에서도 여러 종류가 있는데, 가장 대표적인 것이 **유기금속 화학기상증착(MOCVD, Metalorganic Chemical Vapor Deposition)**입니다. MOCVD는 유기금속 화합물을 전구체로 사용하는 CVD 기술로, III-V족 화합물 반도체(예: GaAs, GaN)나 질화물 반도체 박막 성장에 널리 사용됩니다. 예를 들어, LED나 레이저 다이오드와 같이 특정 파장의 빛을 내는 반도체를 만들기 위해 밴드갭이 다른 여러 물질을 정밀하게 쌓아 올리는 다층 구조를 형성하는 데 매우 효과적입니다. 다른 CVD 방식으로는 **저압 화학기상증착(LPCVD, Low Pressure CVD)**이나 **열응용 화학기상증착(RTCVD, Rapid Thermal CVD)** 등이 있습니다. 둘째, 분자빔증착(MBE, Molecular Beam Epitaxy) 방식입니다. MBE 방식은 초고진공(UHV, Ultra-High Vacuum) 환경에서 증발원에서 나오는 원자나 분자의 빔을 직접 기판 표면에 조사하여 박막을 성장시키는 방법입니다. MBE 방식은 매우 정밀한 두께 및 조성 제어가 가능하며, 표면 거칠기가 매우 균일한 고품질의 박막을 성장시킬 수 있다는 장점이 있습니다. 원료 물질의 증발 온도를 정밀하게 제어하여 빔의 강도를 조절하고, 차폐막(Shutter)을 이용하여 각 원료의 공급을 즉각적으로 차단하거나 개방함으로써 매우 얇고 복잡한 박막 구조를 형성할 수 있습니다. 이러한 정밀도 때문에 초고속 트랜지스터, 양자점(Quantum Dot), 초격자(Superlattice) 등 극한의 성능을 요구하는 첨단 반도체 소자 제작에 주로 사용됩니다. MBE 방식은 또한 박막 성장과 동시에 표면 분석을 수행할 수 있는 장치와 통합되는 경우가 많아, 성장 과정을 실시간으로 모니터링하고 제어하는 데 유리합니다. 에피택시 장치의 용도는 매우 광범위합니다. 가장 대표적인 용도는 **반도체 소자 제작**입니다. 집적회로(IC)의 트랜지스터 성능을 향상시키기 위한 고품질의 실리콘(Si) 또는 실리콘 게르마늄(SiGe) 박막 성장, 전력 반도체 소자의 고내압 특성을 위한 박막 성장 등에 활용됩니다. 또한, **광전자 소자** 분야에서도 빼놓을 수 없는 장비입니다. 스마트폰, TV 등에 사용되는 발광다이오드(LED)나 레이저 다이오드(LD)는 물론, 고효율 태양전지, 광통신 부품 등에서도 에피택시 기술이 필수적으로 사용됩니다. 예를 들어, LED의 경우 다양한 색상을 구현하기 위해 서로 다른 화합물 반도체 박막을 정밀하게 쌓아 올려야 하는데, MOCVD 장치가 이 역할을 수행합니다. 질화갈륨(GaN) 기반의 청색 LED나 UV LED 제작에도 MOCVD가 중요하게 사용됩니다. 최근에는 전력 반도체 분야에서 차세대 소재로 주목받는 실리콘 카바이드(SiC)나 질화갈륨(GaN) 기판 위에 고품질의 박막을 성장시켜 고효율, 고내압 특성을 갖는 전력 소자를 제작하는 데에도 에피택시 장치가 필수적으로 사용되고 있습니다. 에피택시 장치와 관련된 기술로는 **기판 기술**이 있습니다. 에피택시 공정은 기판의 결정성을 바탕으로 박막을 성장시키기 때문에, 기판 자체의 결정 품질이 매우 중요합니다. 고품질의 단결정 기판을 사용하는 것이 최종 박막의 결정성을 보장하는 첫걸음입니다. 또한, **원료 물질(전구체) 기술**도 중요합니다. 어떤 전구체를 사용하느냐에 따라 성장되는 박막의 조성, 결정성, 순도 등이 크게 달라지기 때문에, 고순도이고 안정적인 전구체의 개발 및 공급이 필수적입니다. **공정 최적화 기술** 또한 중요한데, 온도, 압력, 가스 유량, 성장 속도 등 다양한 공정 변수를 정밀하게 제어하고 최적의 조건을 찾아내는 것이 고품질의 박막을 얻는 데 결정적인 역할을 합니다. 최근에는 인공지능(AI)과 머신러닝(ML) 기술을 활용하여 방대한 공정 데이터를 분석하고 최적의 공정 조건을 예측하는 **데이터 기반 공정 최적화** 연구도 활발히 진행되고 있습니다. 더불어, 에피택시 공정 중 발생하는 결함을 실시간으로 검출하고 분석하는 **공정 모니터링 및 진단 기술**도 발전하고 있으며, 이는 공정 수율을 향상시키는 데 기여합니다. 최근에는 나노 기술의 발전과 함께 원자층 증착(ALD, Atomic Layer Deposition) 기술과의 융합을 통해 더욱 정밀하고 복잡한 나노 구조를 형성하는 연구도 이루어지고 있습니다. 에피택시 공정은 단순한 박막 성장을 넘어, 고부가가치를 창출하는 첨단 기술로서 지속적으로 발전하고 있으며, 이는 미래 전자 산업의 발전에 중요한 기반이 될 것입니다. |
| ※본 조사보고서 [세계의 에피택시 장치 시장예측 2025년-2031년] (코드 : LPK23JL1430) 판매에 관한 면책사항을 반드시 확인하세요. |
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