| ■ 영문 제목 : Global Semiconductor Gases Market Growth 2025-2031 | |
 | ■ 상품코드 : LPK23JU0529 ■ 조사/발행회사 : LP Information ■ 발행일 : 2025년 3월 ■ 페이지수 : 115 ■ 작성언어 : 영어 ■ 보고서 형태 : PDF ■ 납품 방식 : E메일 ■ 조사대상 지역 : 글로벌 ■ 산업 분야 : 화학&재료 |
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| LP인포메이션 (LPI) 의 최신 조사 자료는 반도체용 가스의 과거 판매실적을 살펴보고 2024년의 반도체용 가스 판매실적을 검토하여 2025년부터 2031년까지 예상되는 반도체용 가스 판매에 대한 지역 및 시장 세그먼트별 포괄적인 분석을 제공합니다. 글로벌 반도체용 가스 시장규모는 2024년 xxx백만 달러에서 연평균 xx% 성장하여 2031년에는 xxx백만 달러에 달할 것으로 예측되고 있습니다. 본 보고서의 시장규모 데이터는 무역 전쟁 및 러시아-우크라이나 전쟁의 영향을 반영했습니다. 본 조사 자료는 글로벌 반도체용 가스 시장에 관해서 조사, 분석한 보고서로서, 기업별 시장 점유율, 지역별 시장규모 (미주, 미국, 캐나다, 멕시코, 브라질, 아시아 태평양, 중국, 일본, 한국, 동남아시아, 인도, 유럽, 독일, 프랑스, 영국, 이탈리아, 러시아, 중동/아프리카, 이집트, 남아프리카, 터키, 중동GCC국 등), 시장동향, 판매/유통업자/고객 리스트, 시장예측 (2026년-2031년), 주요 기업동향 (기업정보, 제품, 판매량, 매출, 가격, 매출총이익) 등의 정보를 수록하고 있습니다. 또한, 주요지역의 종류별 (수소, 삼불화질소, 염소 가스, 실리콘 가스, 암모니아 가스, 기타) 시장규모와 용도별 (챔버 클린, 산화, 층착, 에칭, 도핑, 기타) 시장규모 데이터도 포함되어 있습니다. ***** 목차 구성 ***** 보고서의 범위 경영자용 요약 - 글로벌 반도체용 가스 시장규모 2020년-2031년 - 지역별 반도체용 가스 시장분석 - 종류별 반도체용 가스 시장규모 2020년-2025년 (수소, 삼불화질소, 염소 가스, 실리콘 가스, 암모니아 가스, 기타) - 용도별 반도체용 가스 시장규모 2020년-2025년 (챔버 클린, 산화, 층착, 에칭, 도핑, 기타) 기업별 반도체용 가스 시장분석 - 기업별 반도체용 가스 판매량 - 기업별 반도체용 가스 매출액 - 기업별 반도체용 가스 판매가격 - 주요기업의 반도체용 가스 생산거점, 판매거점 - 시장 집중도 분석 지역별 분석 - 지역별 반도체용 가스 판매량 2020년-2025년 - 지역별 반도체용 가스 매출액 2020년-2025년 미주 시장 - 미주의 반도체용 가스 시장규모 2020년-2025년 - 미주의 반도체용 가스 시장규모 : 종류별 - 미주의 반도체용 가스 시장규모 : 용도별 - 미국 반도체용 가스 시장규모 - 캐나다 반도체용 가스 시장규모 - 멕시코 반도체용 가스 시장규모 - 브라질 반도체용 가스 시장규모 아시아 태평양 시장 - 아시아 태평양의 반도체용 가스 시장규모 2020년-2025년 - 아시아 태평양의 반도체용 가스 시장규모 : 종류별 - 아시아 태평양의 반도체용 가스 시장규모 : 용도별 - 중국 반도체용 가스 시장규모 - 일본 반도체용 가스 시장규모 - 한국 반도체용 가스 시장규모 - 동남아시아 반도체용 가스 시장규모 - 인도 반도체용 가스 시장규모 유럽 시장 - 유럽의 반도체용 가스 시장규모 2020년-2025년 - 유럽의 반도체용 가스 시장규모 : 종류별 - 유럽의 반도체용 가스 시장규모 : 용도별 - 독일 반도체용 가스 시장규모 - 프랑스 반도체용 가스 시장규모 - 영국 반도체용 가스 시장규모 중동/아프리카 시장 - 중동/아프리카의 반도체용 가스 시장규모 2020년-2025년 - 중동/아프리카의 반도체용 가스 시장규모 : 종류별 - 중동/아프리카의 반도체용 가스 시장규모 : 용도별 - 이집트 반도체용 가스 시장규모 - 남아프리카 반도체용 가스 시장규모 - 중동GCC 반도체용 가스 시장규모 시장의 성장요인, 과제, 동향 - 시장의 성장요인, 기회 - 시장의 과제, 리스크 - 산업 동향 제조원가 구조 분석 - 원재료 및 공급업체 - 반도체용 가스의 제조원가 구조 분석 - 반도체용 가스의 제조 프로세스 분석 - 반도체용 가스의 산업체인 구조 마케팅, 유통업체, 고객 - 판매채널 - 반도체용 가스의 유통업체 - 반도체용 가스의 주요 고객 지역별 반도체용 가스 시장 예측 - 지역별 반도체용 가스 시장규모 예측 2026년-2031년 - 미주 시장 예측 - 아시아 태평양 시장 예측 - 유럽 시장 예측 - 중동/아프리카 시장 예측 - 반도체용 가스의 종류별 시장예측 (수소, 삼불화질소, 염소 가스, 실리콘 가스, 암모니아 가스, 기타) - 반도체용 가스의 용도별 시장예측 (챔버 클린, 산화, 층착, 에칭, 도핑, 기타) 주요 기업 분석 (기업정보, 제품, 판매량, 매출, 가격, 매출총이익) - SK Materials, Versum Materials, Air Liquide, Taiyo Nippon Sanso, Praxair-Linde, Kanto Denka, Showa Denko, Air Products and Chemicals, Hyosung, Sumitomo Seika Chemicals, Central Glass, The 718th Research Institute of CSSC, Adeka, REC, Mitsui Chemical, Tokuyama, Guangdong Huate Gas 조사의 결과/결론 |
The semiconductor industry is one of the most dynamic, sophisticated, and competitive markets worldwide. As it continues to grow, so too does the demand for ultra-pure gases and chemicals. A reliable supply of high purity gases is critical to advanced semiconductor manufacturing. Producing an integrated circuit requires over 30 different process gases for etching, deposition, oxidation, doping, and inerting applications. The range of gases used is broader than in virtually any other industry. Trace impurities at the parts-per-million, parts-per- billion, and even parts-per-trillion levels must be measured and eliminated.
LPI (LP Information)’ newest research report, the “Semiconductor Gases Industry Forecast” looks at past sales and reviews total world Semiconductor Gases sales in 2024, providing a comprehensive analysis by region and market sector of projected Semiconductor Gases sales for 2025 through 2031. With Semiconductor Gases sales broken down by region, market sector and sub-sector, this report provides a detailed analysis in US$ millions of the world Semiconductor Gases industry.
This Insight Report provides a comprehensive analysis of the global Semiconductor Gases landscape and highlights key trends related to product segmentation, company formation, revenue, and market share, latest development, and M&A activity. This report also analyzes the strategies of leading global companies with a focus on Semiconductor Gases portfolios and capabilities, market entry strategies, market positions, and geographic footprints, to better understand these firms’ unique position in an accelerating global Semiconductor Gases market.
This Insight Report evaluates the key market trends, drivers, and affecting factors shaping the global outlook for Semiconductor Gases and breaks down the forecast by type, by application, geography, and market size to highlight emerging pockets of opportunity. With a transparent methodology based on hundreds of bottom-up qualitative and quantitative market inputs, this study forecast offers a highly nuanced view of the current state and future trajectory in the global Semiconductor Gases.
The global Semiconductor Gases market size is projected to grow from US$ 3536.9 million in 2024 to US$ 6056.7 million in 2031; it is expected to grow at a CAGR of 6056.7 from 2025 to 2031.
The global sales of Semiconductor Gases increased from 63932 tons in 2015 to 98816 tons in 2019, at a CAGR of 11.50%. The global Semiconductor Gases market size is expected to gain market growth in the forecast period of 2019 to 2026, with a CAGR of 7.66% in the forecast period of 2019 to 2026. In the future, the market in developed countries will have some growth and the market in developing countries will have a faster growth rate.
This report presents a comprehensive overview, market shares, and growth opportunities of Semiconductor Gases market by product type, application, key manufacturers and key regions and countries.
[Market Segmentation]
Segmentation by type
Hydrogen
Nitrogen Trifluoride
Chlorine Gas
Silicon Gases
Ammonia Gas
Others
Segmentation by application
Chamber Clean
Oxidation
Deposition
Etching
Doping
Others
This report also splits the market by region:
Americas
United States
Canada
Mexico
Brazil
APAC
China
Japan
Korea
Southeast Asia
India
Australia
Europe
Germany
France
UK
Italy
Russia
Middle East & Africa
Egypt
South Africa
Israel
Turkey
GCC Countries
The below companies that are profiled have been selected based on inputs gathered from primary experts and analyzing the company’s coverage, product portfolio, its market penetration.
SK Materials
Versum Materials
Air Liquide
Taiyo Nippon Sanso
Praxair-Linde
Kanto Denka
Showa Denko
Air Products and Chemicals
Hyosung
Sumitomo Seika Chemicals
Central Glass
The 718th Research Institute of CSSC
Adeka
REC
Mitsui Chemical
Tokuyama
Guangdong Huate Gas
[Key Questions Addressed in this Report]
What is the 10-year outlook for the global Semiconductor Gases market?
What factors are driving Semiconductor Gases market growth, globally and by region?
Which technologies are poised for the fastest growth by market and region?
How do Semiconductor Gases market opportunities vary by end market size?
How does Semiconductor Gases break out type, application?
What are the influences of trade war and Russia-Ukraine war?
1 Scope of the Report |
| ※참고 정보 반도체 제조 공정은 매우 복잡하고 정밀한 과정을 거치며, 이 과정에서 다양한 종류의 가스가 필수적으로 사용됩니다. 이러한 가스들을 통칭하여 '반도체용 가스'라고 부릅니다. 반도체용 가스는 단순히 물질의 기체 상태를 의미하는 것이 아니라, 반도체 웨이퍼 표면에 원하는 물질을 증착시키거나, 불필요한 물질을 제거하고, 공정 환경을 제어하는 등 반도체 제조의 각 단계에서 특정한 역할을 수행하도록 엄선되고 정제된 고순도 가스를 지칭합니다. 따라서 반도체용 가스는 일반 산업용 가스와는 비교할 수 없는 수준의 순도와 품질 관리가 요구됩니다. 반도체 제조에서 가스가 갖는 핵심적인 특징은 그 역할에 따라 매우 다양하게 나타납니다. 첫째, **고순도**는 반도체용 가스의 가장 중요한 특징입니다. 반도체 회로의 미세한 패턴과 집적도를 높이기 위해서는 불순물이 극도로 적은 가스가 필수적입니다. 나노미터(nm) 단위의 선폭을 구현하는 현대 반도체 공정에서 극소량의 불순물이라도 웨이퍼 표면에 달라붙으면 회로의 결함을 유발하고 성능 저하의 원인이 되기 때문입니다. 따라서 반도체용 가스는 보통 99.999% (5-nine) 이상의 초고순도를 가지며, 경우에 따라서는 99.99999% (7-nine) 또는 그 이상의 순도를 요구하기도 합니다. 이러한 고순도를 달성하기 위해 특수 정제 기술과 분석 기술이 적용됩니다. 둘째, **화학적 특성** 또한 매우 중요합니다. 특정 공정 단계에서 원하는 화학 반응을 일으키거나, 표면을 식각(etching)하거나, 증착(deposition)하는 데 필요한 적절한 반응성과 안정성을 갖춘 가스가 선택됩니다. 예를 들어, 식각 공정에서는 웨이퍼 표면의 특정 물질만 선택적으로 제거할 수 있는 반응성을 가진 가스가 사용되며, 증착 공정에서는 웨이퍼 위에 균일하고 치밀한 박막을 형성할 수 있는 가스가 사용됩니다. 셋째, **안정적인 공급**이 보장되어야 합니다. 반도체 생산 라인은 24시간 쉬지 않고 가동되는 경우가 많으므로, 공정 중단 없이 안정적으로 가스를 공급받는 것이 중요합니다. 이를 위해 특수 용기 및 공급 시스템이 사용되며, 가스의 누출이나 변질을 방지하는 철저한 관리가 이루어집니다. 마지막으로, **안전성** 또한 고려되어야 합니다. 일부 반도체용 가스는 독성이 있거나 인화성이 높은 경우가 있어, 취급, 저장, 운송 및 사용에 있어서 엄격한 안전 규정 및 절차가 준수되어야 합니다. 반도체 제조 공정에서 사용되는 가스의 종류는 매우 다양하며, 그 역할에 따라 크게 다음과 같이 분류할 수 있습니다. 첫째, **공정 가스(Process Gases)**는 웨이퍼 표면에서 화학 반응을 일으켜 박막을 형성하거나 표면을 식각하는 등 직접적으로 반도체 소자를 만드는 데 사용되는 가스들입니다. 이 범주에는 매우 다양한 종류의 가스가 포함됩니다. 예를 들어, **증착 공정**에서는 실리콘 화합물 가스들이 주로 사용됩니다. **사일란(SiH4, Silane)**은 대표적인 실리콘 박막 증착 가스로, 원자층 증착(ALD)이나 화학 기상 증착(CVD) 공정에서 실리콘 원자를 공급하는 역할을 합니다. 순도가 낮은 사일란은 발화성이 높아 취급에 주의가 필요하지만, 고순도 사일란은 안정적인 증착 성능을 제공합니다. **테트라에톡시실란(TEOS, Tetraethoxy silane)**은 저온에서 산화막(SiO2)을 형성하는 데 사용되는 액체 전구체 가스입니다. 증기 상태로 공급되며, 균일하고 치밀한 산화막 증착에 유리합니다. 또한, 질화막(SiN) 증착에는 **암모니아(NH3, Ammonia)**나 **디실란(Si2H6, Disilane)** 등이 사용됩니다. 금속 박막 증착에는 **텅스텐(W)** 증착에 사용되는 **텅스텐 헥사플루오라이드(WF6, Tungsten Hexafluoride)**, 구리(Cu) 증착에 사용되는 **테트라키스(디메틸아미노)텅스텐(TDMAT, Tetrakis(dimethylamino)tungsten)**과 같은 금속 유기 화합물 가스들이 사용됩니다. **식각 공정**에서는 웨이퍼 표면의 불필요한 물질을 제거하는 데 사용됩니다. 불산(HF) 기반의 가스들은 실리콘 산화막이나 질화막을 식각하는 데 사용되며, 염소(Cl2)나 브롬(Br2) 계열의 가스들은 실리콘이나 금속 배선을 식각하는 데 사용됩니다. 플라즈마 식각 공정에서는 이러한 할로젠 가스들이 질소(N2), 아르곤(Ar) 등과 함께 사용되어 고에너지 플라즈마를 생성하고, 이를 통해 정밀한 식각을 수행합니다. 둘째, **불활성 가스(Inert Gases)**는 화학적으로 반응하지 않는 특성을 이용하여 공정 환경을 안정화시키거나, 공정 중 발생할 수 있는 오염 물질로부터 웨이퍼를 보호하는 데 사용됩니다. 가장 대표적인 불활성 가스는 **질소(N2, Nitrogen)**와 **아르곤(Ar, Argon)**입니다. 질소는 저렴하고 풍부하며 반응성이 낮아 다양한 공정에서 챔버 내부를 불활성 분위기로 유지하는 데 널리 사용됩니다. 산화나 수분과의 반응을 방지하여 공정 효율을 높이고 웨이퍼 손상을 줄이는 역할을 합니다. 아르곤은 질소보다 더 높은 수준의 불활성도를 가지며, 특히 플라즈마 공정에서 이온화되어 에칭이나 증착 공정에 기여하는 역할을 하기도 합니다. 또한, **헬륨(He, Helium)**도 특정 공정에서 사용되는데, 높은 열전도성을 이용하여 챔버 내부의 온도 제어를 돕거나, 극저온 공정에서 냉각제로 사용되기도 합니다. 셋째, **특수 가스(Specialty Gases)**는 위에서 언급된 일반적인 공정 가스나 불활성 가스와는 달리, 특정 기능이나 매우 까다로운 조건을 충족시키기 위해 사용되는 고부가가치 가스들을 의미합니다. 예를 들어, **수소(H2, Hydrogen)**는 환원 분위기 조성이나 특정 박막 증착 공정에 사용됩니다. **산소(O2, Oxygen)**는 산화 공정이나 플라즈마 공정의 활성화제로 사용될 수 있습니다. 또한, 반도체 메모리 제조의 핵심 공정 중 하나인 **포토 공정**에서는 고순도의 **크립톤(Kr, Krypton)**이나 **아르곤(Ar)** 레이저가 사용되어 미세 패턴을 형성하는 데 기여합니다. 최근에는 **극자외선(EUV, Extreme Ultraviolet)** 리소그래피 기술의 발달로 인해 **주석(Sn, Tin)** 화합물 가스 등이 전구체로 사용되면서 새로운 종류의 특수 가스들이 중요성을 얻고 있습니다. 또한, 초고순도의 **암모니아(NH3)**는 질화막 증착뿐만 아니라, 챔버 클리닝(chamber cleaning) 공정에서도 사용되어 챔버 내부에 쌓인 잔류물을 효과적으로 제거하는 역할을 하기도 합니다. 반도체용 가스의 용도는 앞서 언급한 종류별 특징과 밀접하게 연관되어 있습니다. 각 가스는 특정 공정 단계에서 고유의 역할을 수행합니다. 첫째, **증착(Deposition)** 공정에서 사용되는 가스들은 웨이퍼 표면에 얇은 막을 형성하는 역할을 합니다. **사일란(SiH4)**은 실리콘 산화막이나 다결정 실리콘 박막을 형성하는 데 사용되며, **암모니아(NH3)**와 **디실란(Si2H6)**은 질화 실리콘 박막을 형성하는 데 사용됩니다. **테트라에톡시실란(TEOS)**은 저온에서 고품질의 이산화규소(SiO2) 박막을 증착하는 데 사용됩니다. 금속 배선을 형성하기 위한 **금속 유기 화합물 가스**들은 텅스텐, 구리, 알루미늄 등의 금속 박막을 증착하는 데 필수적입니다. 둘째, **식각(Etching)** 공정에서 사용되는 가스들은 웨이퍼 표면의 불필요한 부분을 선택적으로 제거하는 역할을 합니다. **불산(HF)** 기반 가스들은 미세 회로를 만드는 데 필수적인 산화막 패턴을 정밀하게 식각하는 데 사용됩니다. **염소(Cl2)**, **브롬(Br2)**, **사불화탄소(CF4, Carbon tetrafluoride)** 등의 가스들은 실리콘 기판이나 금속 배선을 높은 선택성과 종횡비로 식각하는 데 사용됩니다. 이러한 식각 공정은 회로의 형상을 결정하는 매우 중요한 단계입니다. 셋째, **세정(Cleaning)** 공정에서도 가스가 사용됩니다. 포토 공정 후 제거되지 않은 감광액 잔여물이나 공정 중 발생한 오염 물질을 제거하기 위해 **산소(O2)** 플라즈마나 특정 **불소계 가스** 등이 사용됩니다. 또한, 챔버 내부에 쌓인 잔류물을 제거하는 **챔버 클리닝**에도 **불소계 가스**나 **암모니아(NH3)** 등이 사용되어 공정 장비의 수명을 연장하고 안정적인 공정 환경을 유지하는 데 기여합니다. 넷째, **환원(Reduction)** 또는 **산화(Oxidation)** 분위기를 조성하는 데도 가스가 사용됩니다. **수소(H2)**는 웨이퍼 표면의 산화물을 환원시키거나 특정 금속 박막을 형성하는 데 사용되며, **산소(O2)**는 웨이퍼 표면에 산화막을 형성하는 데 사용됩니다. 다섯째, **불활성 분위기 유지**는 위에서 언급한 질소나 아르곤과 같이, 공정 중에 발생할 수 있는 불순물과의 반응을 방지하고 공정 안정성을 확보하기 위해 필수적입니다. 반도체용 가스 산업은 첨단 기술 산업의 근간을 이루며, 관련 기술 또한 지속적으로 발전하고 있습니다. **초고순도 정제 기술**은 반도체용 가스의 품질을 결정하는 핵심 기술로, 불순물을 ppb(parts per billion) 또는 ppt(parts per trillion) 수준으로 제거하기 위한 다양한 물리화학적 분리 및 흡착 기술이 개발되고 있습니다. **가스 분석 기술** 또한 매우 중요한데, ppb 또는 ppt 수준의 미량 불순물을 정확하게 검출하고 정량화할 수 있는 고감도 분석 장비 및 기술이 요구됩니다. 이를 통해 원자재의 품질 관리부터 최종 제품의 출하까지 엄격한 품질 검사가 이루어집니다. **안전 관리 기술** 또한 빼놓을 수 없습니다. 독성 또는 인화성 가스를 안전하게 저장, 이송, 사용하기 위한 특수 용기, 파이프라인, 누출 감지 시스템, 비상 차단 장치 등이 개발 및 적용되고 있습니다. 또한, 공정 중 발생하는 폐가스를 안전하게 처리하거나 재활용하는 환경 관련 기술도 중요합니다. 최근에는 미세화 및 새로운 소재의 적용으로 인해 더욱 까다로운 특성을 가진 가스들에 대한 수요가 증가하고 있습니다. 예를 들어, **극자외선(EUV) 리소그래피 기술**은 기존의 광학 시스템으로는 구현하기 어려운 초미세 패턴을 구현하기 위한 기술로, 이 과정에서 특정 파장의 빛을 생성하기 위한 새로운 종류의 가스 또는 플라즈마 생성 기술이 요구됩니다. 또한, **AI 반도체**나 **고성능 컴퓨팅**을 위한 차세대 메모리 및 로직 소자 개발에는 새로운 공정 기술과 함께 새로운 특성을 가진 가스들이 사용될 것으로 예상됩니다. 결론적으로, 반도체용 가스는 단순히 공기를 구성하는 물질들의 기체 상태가 아니라, 반도체 제조의 모든 과정에서 핵심적인 역할을 수행하는 고순도, 고품질의 물질입니다. 각 가스의 고유한 화학적, 물리적 특성을 이해하고 이를 최적으로 활용하는 것이 반도체 산업의 경쟁력을 좌우한다고 해도 과언이 아닙니다. 이러한 가스들의 끊임없는 발전과 혁신은 미래 반도체 기술 발전의 동력이라고 할 수 있습니다. |
| ※본 조사보고서 [글로벌 반도체용 가스 시장 2025-2031] (코드 : LPK23JU0529) 판매에 관한 면책사항을 반드시 확인하세요. |
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