| ■ 영문 제목 : Global Wafer Spin Rinse Dryers (SRD) Market Growth 2025-2031 | |
 | ■ 상품코드 : LPK23JU1168 ■ 조사/발행회사 : LP Information ■ 발행일 : 2025년 3월 ■ 페이지수 : 107 ■ 작성언어 : 영어 ■ 보고서 형태 : PDF ■ 납품 방식 : E메일 ■ 조사대상 지역 : 글로벌 ■ 산업 분야 : 기계&장치 |
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| LP인포메이션 (LPI) 의 최신 조사 자료는 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD)의 과거 판매실적을 살펴보고 2024년의 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 판매실적을 검토하여 2025년부터 2031년까지 예상되는 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 판매에 대한 지역 및 시장 세그먼트별 포괄적인 분석을 제공합니다. 글로벌 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모는 2024년 xxx백만 달러에서 연평균 xx% 성장하여 2031년에는 xxx백만 달러에 달할 것으로 예측되고 있습니다. 본 보고서의 시장규모 데이터는 무역 전쟁 및 러시아-우크라이나 전쟁의 영향을 반영했습니다. 본 조사 자료는 글로벌 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장에 관해서 조사, 분석한 보고서로서, 기업별 시장 점유율, 지역별 시장규모 (미주, 미국, 캐나다, 멕시코, 브라질, 아시아 태평양, 중국, 일본, 한국, 동남아시아, 인도, 유럽, 독일, 프랑스, 영국, 이탈리아, 러시아, 중동/아프리카, 이집트, 남아프리카, 터키, 중동GCC국 등), 시장동향, 판매/유통업자/고객 리스트, 시장예측 (2026년-2031년), 주요 기업동향 (기업정보, 제품, 판매량, 매출, 가격, 매출총이익) 등의 정보를 수록하고 있습니다. 또한, 주요지역의 종류별 (단일 스택 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD), 더블 스택 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD)) 시장규모와 용도별 (반도체 제조, 반도체 연구, 기타) 시장규모 데이터도 포함되어 있습니다. ***** 목차 구성 ***** 보고서의 범위 경영자용 요약 - 글로벌 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모 2020년-2031년 - 지역별 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장분석 - 종류별 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모 2020년-2025년 (단일 스택 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD), 더블 스택 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD)) - 용도별 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모 2020년-2025년 (반도체 제조, 반도체 연구, 기타) 기업별 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장분석 - 기업별 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 판매량 - 기업별 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 매출액 - 기업별 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 판매가격 - 주요기업의 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 생산거점, 판매거점 - 시장 집중도 분석 지역별 분석 - 지역별 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 판매량 2020년-2025년 - 지역별 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 매출액 2020년-2025년 미주 시장 - 미주의 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모 2020년-2025년 - 미주의 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모 : 종류별 - 미주의 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모 : 용도별 - 미국 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모 - 캐나다 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모 - 멕시코 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모 - 브라질 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모 아시아 태평양 시장 - 아시아 태평양의 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모 2020년-2025년 - 아시아 태평양의 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모 : 종류별 - 아시아 태평양의 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모 : 용도별 - 중국 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모 - 일본 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모 - 한국 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모 - 동남아시아 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모 - 인도 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모 유럽 시장 - 유럽의 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모 2020년-2025년 - 유럽의 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모 : 종류별 - 유럽의 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모 : 용도별 - 독일 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모 - 프랑스 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모 - 영국 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모 중동/아프리카 시장 - 중동/아프리카의 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모 2020년-2025년 - 중동/아프리카의 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모 : 종류별 - 중동/아프리카의 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모 : 용도별 - 이집트 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모 - 남아프리카 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모 - 중동GCC 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모 시장의 성장요인, 과제, 동향 - 시장의 성장요인, 기회 - 시장의 과제, 리스크 - 산업 동향 제조원가 구조 분석 - 원재료 및 공급업체 - 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD)의 제조원가 구조 분석 - 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD)의 제조 프로세스 분석 - 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD)의 산업체인 구조 마케팅, 유통업체, 고객 - 판매채널 - 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD)의 유통업체 - 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD)의 주요 고객 지역별 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장 예측 - 지역별 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모 예측 2026년-2031년 - 미주 시장 예측 - 아시아 태평양 시장 예측 - 유럽 시장 예측 - 중동/아프리카 시장 예측 - 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD)의 종류별 시장예측 (단일 스택 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD), 더블 스택 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD)) - 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD)의 용도별 시장예측 (반도체 제조, 반도체 연구, 기타) 주요 기업 분석 (기업정보, 제품, 판매량, 매출, 가격, 매출총이익) - SHELLBACK Semiconductor Technology, ClassOne Technology, Ramgraber, RENA Technologies North America, Jaesung Engineering, M Tek Corporation, MOT Mikro- und Oberflächentechnik, OHMIYA INDUSTRY, Semitronix Technology, MDS Korea, Ji You Electronic Technology, CALITECH 조사의 결과/결론 |
The job of a spin rinse dryer is to rinse and dry batches of wafers in a cassette. The wafers are usually loaded into a stainless steel drum or chamber then rotated while injecting DI (de-ionised water) to rinse off any particle that might be left over from a previous process step such as etching.
LPI (LP Information)’ newest research report, the “Wafer Spin Rinse Dryers (SRD) Industry Forecast” looks at past sales and reviews total world Wafer Spin Rinse Dryers (SRD) sales in 2024, providing a comprehensive analysis by region and market sector of projected Wafer Spin Rinse Dryers (SRD) sales for 2025 through 2031. With Wafer Spin Rinse Dryers (SRD) sales broken down by region, market sector and sub-sector, this report provides a detailed analysis in US$ millions of the world Wafer Spin Rinse Dryers (SRD) industry.
This Insight Report provides a comprehensive analysis of the global Wafer Spin Rinse Dryers (SRD) landscape and highlights key trends related to product segmentation, company formation, revenue, and market share, latest development, and M&A activity. This report also analyzes the strategies of leading global companies with a focus on Wafer Spin Rinse Dryers (SRD) portfolios and capabilities, market entry strategies, market positions, and geographic footprints, to better understand these firms’ unique position in an accelerating global Wafer Spin Rinse Dryers (SRD) market.
This Insight Report evaluates the key market trends, drivers, and affecting factors shaping the global outlook for Wafer Spin Rinse Dryers (SRD) and breaks down the forecast by type, by application, geography, and market size to highlight emerging pockets of opportunity. With a transparent methodology based on hundreds of bottom-up qualitative and quantitative market inputs, this study forecast offers a highly nuanced view of the current state and future trajectory in the global Wafer Spin Rinse Dryers (SRD).
The global Wafer Spin Rinse Dryers (SRD) market size is projected to grow from US$ million in 2024 to US$ million in 2031; it is expected to grow at a CAGR of % from 2025 to 2031.
United States market for Wafer Spin Rinse Dryers (SRD) is estimated to increase from US$ million in 2024 to US$ million by 2031, at a CAGR of % from 2025 through 2031.
China market for Wafer Spin Rinse Dryers (SRD) is estimated to increase from US$ million in 2024 to US$ million by 2031, at a CAGR of % from 2025 through 2031.
Europe market for Wafer Spin Rinse Dryers (SRD) is estimated to increase from US$ million in 2024 to US$ million by 2031, at a CAGR of % from 2025 through 2031.
Global key Wafer Spin Rinse Dryers (SRD) players cover SHELLBACK Semiconductor Technology, ClassOne Technology, Ramgraber, RENA Technologies North America, Jaesung Engineering, M Tek Corporation, MOT Mikro- und Oberflächentechnik, OHMIYA INDUSTRY and Semitronix Technology, etc. In terms of revenue, the global two largest companies occupied for a share nearly % in 2024.
This report presents a comprehensive overview, market shares, and growth opportunities of Wafer Spin Rinse Dryers (SRD) market by product type, application, key manufacturers and key regions and countries.
[Market Segmentation]
Segmentation by type
Single Stack Wafer Spin Rinse Dryers (SRD)
Double Stack Wafer Spin Rinse Dryers (SRD)
Segmentation by application
Semiconductor Production
Semiconductor Research
Others
This report also splits the market by region:
Americas
United States
Canada
Mexico
Brazil
APAC
China
Japan
Korea
Southeast Asia
India
Australia
Europe
Germany
France
UK
Italy
Russia
Middle East & Africa
Egypt
South Africa
Israel
Turkey
GCC Countries
The below companies that are profiled have been selected based on inputs gathered from primary experts and analyzing the company’s coverage, product portfolio, its market penetration.
SHELLBACK Semiconductor Technology
ClassOne Technology
Ramgraber
RENA Technologies North America
Jaesung Engineering
M Tek Corporation
MOT Mikro- und Oberflächentechnik
OHMIYA INDUSTRY
Semitronix Technology
MDS Korea
Ji You Electronic Technology
CALITECH
[Key Questions Addressed in this Report]
What is the 10-year outlook for the global Wafer Spin Rinse Dryers (SRD) market?
What factors are driving Wafer Spin Rinse Dryers (SRD) market growth, globally and by region?
Which technologies are poised for the fastest growth by market and region?
How do Wafer Spin Rinse Dryers (SRD) market opportunities vary by end market size?
How does Wafer Spin Rinse Dryers (SRD) break out type, application?
What are the influences of trade war and Russia-Ukraine war?
1 Scope of the Report |
| ※참고 정보 웨이퍼 스핀 린스 건조기(Wafer Spin Rinse Dryers, SRD)는 반도체 제조 공정에서 필수적인 장비 중 하나로, 웨이퍼 표면에 잔류하는 불순물과 세정액을 제거하고 건조하는 역할을 수행합니다. 고순도 세정액을 사용하여 웨이퍼를 꼼꼼하게 헹궈낸 후, 고속 회전을 통해 물기를 효과적으로 제거함으로써 웨이퍼의 오염을 최소화하고 다음 공정으로의 진행을 원활하게 합니다. 웨이퍼 표면의 미세한 오염 물질은 반도체 소자의 성능 저하 및 불량률 증가로 직결될 수 있기 때문에, SRD 장비의 성능과 정밀도는 반도체 생산의 효율성과 품질을 좌우하는 중요한 요소입니다. SRD 장비는 기본적으로 세정(Rinse)과 건조(Drying)의 두 가지 주요 기능을 수행합니다. 세정 단계에서는 DI water(초순수)와 같은 고순도 세정액을 웨이퍼 표면에 분사하며 동시에 웨이퍼를 회전시켜 표면에 부착된 파티클(particle)이나 화학적 잔류물을 제거합니다. 이 과정에서 세정액의 종류, 분사 압력, 회전 속도 및 시간 등의 공정 변수를 정밀하게 제어하여 최적의 세정 효과를 얻는 것이 중요합니다. 건조 단계에서는 회전 속도를 더욱 높이거나, 질소와 같은 불활성 가스를 공급하여 웨이퍼 표면에 남아있는 미량의 액체를 신속하고 균일하게 증발시킵니다. 특히, 건조 과정에서 발생하는 미세한 물방울 자국(water mark)은 웨이퍼 표면의 결함으로 이어질 수 있으므로, 효과적인 건조 기술의 적용이 필수적입니다. SRD 장비의 주요 특징으로는 높은 세정 효율성, 정밀한 공정 제어 능력, 그리고 웨이퍼 표면 손상 최소화 등이 있습니다. 최신 SRD 장비들은 나노미터 수준의 미세한 파티클까지 효과적으로 제거할 수 있는 고성능 세정 기술을 갖추고 있으며, 각 공정 단계별로 최적의 조건을 유지하기 위한 자동화된 제어 시스템을 적용하고 있습니다. 또한, 웨이퍼의 민감한 표면을 보호하기 위해 부드러운 세정 및 건조 방식을 채택하고 있으며, 웨이퍼의 물리적인 손상이나 긁힘을 방지하는 설계가 적용됩니다. SRD 장비는 그 구조와 기능에 따라 다양한 종류로 분류될 수 있습니다. 가장 보편적인 형태는 **싱글 웨이퍼 스핀 린스 드라이어(Single Wafer Spin Rinse Dryer, SWSRD)**로, 하나의 웨이퍼를 독립적으로 처리하는 방식입니다. 이 방식은 각 웨이퍼마다 균일하고 정밀한 세정 및 건조가 가능하여 높은 품질을 보장하지만, 처리량이 상대적으로 적다는 단점이 있습니다. 반면, **멀티 웨이퍼 스핀 린스 드라이어(Multi-Wafer Spin Rinse Dryer, MWSRD)**는 여러 개의 웨이퍼를 동시에 처리할 수 있어 생산성을 높일 수 있습니다. 다만, 웨이퍼 간의 세정 균일성을 확보하는 것이 중요하며, 이를 위해 특화된 로딩 및 회전 메커니즘이 적용됩니다. 최근에는 생산성 향상과 웨이퍼 취급의 용이성을 높이기 위해 載置(적재) 및搬送(반송) 시스템과 통합된 형태의 SRD 장비도 개발되고 있습니다. SRD 장비는 주로 반도체 제조 공정의 세정(Cleaning) 및 식각(Etching) 공정 후처리, 포토레지스트 제거 공정 후처리, 이온 주입 공정 후처리 등 다양한 단계에서 활용됩니다. 또한, MEMS(Micro-Electro-Mechanical Systems) 디바이스 제조 공정에서도 정밀한 표면 세정 및 건조를 위해 사용됩니다. 웨이퍼 표면에 남아있는 잔류물이나 오염 물질은 후속 공정의 성능에 치명적인 영향을 미칠 수 있으므로, SRD 공정은 반도체 생산 라인의 핵심적인 부분으로 자리 잡고 있습니다. SRD 장비와 관련된 주요 기술로는 **고순도 DI water 공급 시스템**, **정밀한 회전 제어 기술**, **미세 파티클 제거 기술**, **건조 과정에서의 물방울 자국 방지 기술**, 그리고 **자동화된 공정 제어 및 모니터링 시스템** 등이 있습니다. 고순도 DI water 공급 시스템은 세정액의 순도를 극한까지 유지하여 웨이퍼 오염을 방지하는 데 필수적입니다. 정밀한 회전 제어 기술은 웨이퍼 표면에 가해지는 원심력을 균일하게 유지하여 효과적인 세정 및 건조를 가능하게 합니다. 미세 파티클 제거 기술은 다양한 종류의 분사 노즐과 세정액의 유동 제어를 통해 웨이퍼 표면의 미세 오염 물질을 효과적으로 제거합니다. 특히, 최종 건조 단계에서 웨이퍼 표면에 남는 미세한 물방울이 증발하면서 생기는 얼룩, 즉 물방울 자국(water mark)을 방지하기 위한 기술은 매우 중요합니다. 이를 위해 고속 회전 시 발생하는 원심력뿐만 아니라, 질소 퍼지(N2 purge)와 같은 보조 건조 방식을 함께 사용하거나, 특정 온도 및 습도 조건을 제어하는 기술 등이 적용됩니다. 또한, 최근에는 인공지능(AI) 및 빅데이터 분석 기술을 활용하여 공정 데이터를 실시간으로 분석하고 최적의 공정 조건을 자동으로 조절하는 스마트 SRD 시스템도 개발되어 생산 효율성과 품질을 더욱 향상시키고 있습니다. 이러한 기술들은 SRD 장비가 반도체 기술 발전에 기여하는 핵심적인 역할을 수행하도록 합니다. |
| ※본 조사보고서 [글로벌 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장 2025-2031] (코드 : LPK23JU1168) 판매에 관한 면책사항을 반드시 확인하세요. |
| ※본 조사보고서 [글로벌 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장 2025-2031] 에 대해서 E메일 문의는 여기를 클릭하세요. |
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