| ■ 영문 제목 : Global Light Sources for Lithography Market 2024 by Manufacturers, Regions, Type and Application, Forecast to 2030 | |
 | ■ 상품코드 : GIR2406C6238 ■ 조사/발행회사 : Globalinforesearch ■ 발행일 : 2024년 6월 ■ 페이지수 : 약100 ■ 작성언어 : 영어 ■ 보고서 형태 : PDF ■ 납품 방식 : E메일 (주문후 2-3일 소요) ■ 조사대상 지역 : 글로벌 ■ 산업 분야 : 전자&반도체 |
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조사회사 Global Info Research의 최신 조사에 따르면, 세계의 리소그래피용 광원 시장 규모는 2023년에 XXX백만 달러로 분석되었으며, 검토 기간 동안 xx%의 CAGR로 2030년까지 XXX백만 달러의 재조정된 규모로 성장이 예측됩니다.
Global Info Research 보고서에는 리소그래피용 광원 산업 체인 동향 개요, 종합 반도체 업체 (IDM), 파운드리, 기타 응용분야 및 선진 및 개발 도상국의 주요 기업의 시장 현황, 리소그래피용 광원의 최첨단 기술, 특허, 최신 용도 및 시장 동향을 분석했습니다.
지역별로는 주요 지역의 리소그래피용 광원 시장을 분석합니다. 북미와 유럽은 정부 이니셔티브와 수요자 인식 제고에 힘입어 꾸준한 성장세를 보이고 있습니다. 아시아 태평양, 특히 중국은 탄탄한 내수 수요와 지원 정책, 강력한 제조 기반을 바탕으로 글로벌 리소그래피용 광원 시장을 주도하고 있습니다.
[주요 특징]
본 보고서는 리소그래피용 광원 시장에 대한 포괄적인 이해를 제공합니다. 본 보고서는 산업에 대한 전체적인 관점과 개별 구성 요소 및 이해 관계자에 대한 자세한 통찰력을 제공합니다. 본 보고서는 리소그래피용 광원 산업 내의 시장 역학, 동향, 과제 및 기회를 분석합니다. 또한, 거시적 관점에서 시장을 분석하는 것이 포함됩니다.
시장 규모 및 세분화: 본 보고서는 판매량, 매출 및 종류별 (예 : DUV 광원 (ArF, KrF, i선), EUV 광원)의 시장 점유율을 포함한 전체 시장 규모에 대한 데이터를 수집합니다.
산업 분석: 보고서는 정부 정책 및 규제, 기술 발전, 수요자 선호도, 시장 역학 등 광범위한 산업 동향을 분석합니다. 이 분석은 리소그래피용 광원 시장에 영향을 미치는 주요 동인과 과제를 이해하는데 도움이 됩니다.
지역 분석: 본 보고서에는 지역 또는 국가 단위로 리소그래피용 광원 시장을 조사하는 것이 포함됩니다. 보고서는 정부 인센티브, 인프라 개발, 경제 상황 및 수요자 행동과 같은 지역 요인을 분석하여 다양한 시장 내의 변화와 기회를 식별합니다.
시장 전망: 보고서는 수집된 데이터와 분석을 통해 리소그래피용 광원 시장에 대한 미래 전망 및 예측을 다룹니다. 여기에는 시장 성장률 추정, 시장 수요 예측, 새로운 트렌드 파악 등이 포함될 수 있습니다. 본 보고서에는 리소그래피용 광원에 대한 보다 세분화된 접근 방식도 포함됩니다.
기업 분석: 본 보고서는 리소그래피용 광원 제조업체, 공급업체 및 기타 관련 업계 플레이어를 다룹니다. 이 분석에는 재무 성과, 시장 포지셔닝, 제품 포트폴리오, 파트너십 및 전략에 대한 조사가 포함됩니다.
수요자 분석: 보고서는 리소그래피용 광원에 대한 수요자 행동, 선호도 및 태도에 대한 데이터를 다룹니다. 여기에는 설문 조사, 인터뷰 및 응용 분야별 (종합 반도체 업체 (IDM), 파운드리, 기타)의 다양한 수요자 리뷰 및 피드백 분석이 포함될 수 있습니다.
기술 분석: 리소그래피용 광원과 관련된 특정 기술을 다루는 보고서입니다. 리소그래피용 광원 분야의 현재 상황 및 잠재적 미래 발전 가능성을 평가합니다.
경쟁 환경: 본 보고서는 개별 기업, 공급업체 및 수요업체를 분석하여 리소그래피용 광원 시장의 경쟁 환경에 대한 통찰력을 제공합니다. 이 분석은 시장 점유율, 경쟁 우위 및 업계 플레이어 간의 차별화 가능성을 이해하는 데 도움이 됩니다.
시장 검증: 본 보고서에는 설문 조사, 인터뷰 및 포커스 그룹과 같은 주요 조사를 통해 결과 및 예측을 검증하는 작업이 포함됩니다.
[시장 세분화]
리소그래피용 광원 시장은 종류 및 용도별로 나뉩니다. 2019-2030년 기간 동안 세그먼트 간의 시장규모에 대한 정확한 계산 및 예측을 볼륨 및 금액 측면에서 제공합니다.
종류별 시장 세그먼트
– DUV 광원 (ArF, KrF, i선), EUV 광원
용도별 시장 세그먼트
– 종합 반도체 업체 (IDM), 파운드리, 기타
주요 대상 기업
– Cymer(ASML), Gigaphoton, Beijing RSLaser Opto-Electronics Technology, Optosystems, USHIO
지역 분석은 다음을 포함합니다.
– 북미 (미국, 캐나다, 멕시코)
– 유럽 (독일, 프랑스, 영국, 러시아, 이탈리아)
– 아시아 태평양 (중국, 일본, 한국, 인도, 동남아시아, 호주)
– 남미 (브라질, 아르헨티나, 콜롬비아)
– 중동 및 아프리카 (사우디아라비아, 아랍에미리트, 이집트, 남아프리카공화국)
본 조사 보고서는 아래 항목으로 구성되어 있습니다.
– 리소그래피용 광원 제품 범위, 시장 개요, 시장 추정, 주의 사항 및 기준 연도를 설명합니다.
– 2019년부터 2024년까지 리소그래피용 광원의 가격, 판매량, 매출 및 세계 시장 점유율과 함께 리소그래피용 광원의 주요 제조업체를 프로파일링합니다.
– 리소그래피용 광원 경쟁 상황, 판매량, 매출 및 주요 제조업체의 글로벌 시장 점유율이 상세하게 분석 됩니다.
– 리소그래피용 광원 상세 데이터는 2019년부터 2030년까지 지역별 판매량, 소비금액 및 성장성을 보여주기 위해 지역 레벨로 표시됩니다.
– 2019년부터 2030년까지 판매량 시장 점유율 및 성장률을 종류별, 용도별로 분류합니다.
– 2017년부터 2023년까지 세계 주요 국가의 판매량, 소비금액 및 시장 점유율과 함께 국가 레벨로 판매 데이터를 분류하고, 2025년부터 2030년까지 판매량 및 매출과 함께 지역, 종류 및 용도별로 리소그래피용 광원 시장 예측을 수행합니다.
– 시장 역학, 성장요인, 저해요인, 동향 및 포터의 다섯 가지 힘 분석.
– 주요 원자재 및 주요 공급 업체, 리소그래피용 광원의 산업 체인.
– 리소그래피용 광원 판매 채널, 유통 업체, 고객(수요기업), 조사 결과 및 결론을 설명합니다.
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■ 보고서 목차■ 시장 개요 ■ 제조업체 프로필 Cymer(ASML) Gigaphoton Beijing RSLaser Opto-Electronics Technology ■ 제조업체간 경쟁 환경 ■ 지역별 소비 분석 ■ 종류별 시장 세분화 ■ 용도별 시장 세분화 ■ 북미 ■ 유럽 ■ 아시아 태평양 ■ 남미 ■ 중동 및 아프리카 ■ 시장 역학 ■ 원자재 및 산업 체인 ■ 유통 채널별 출하량 ■ 조사 결과 [그림 목록]- 리소그래피용 광원 이미지 - 종류별 세계의 리소그래피용 광원 소비 금액 (2019 & 2023 & 2030) - 2023년 종류별 세계의 리소그래피용 광원 소비 금액 시장 점유율 - 용도별 세계의 리소그래피용 광원 소비 금액 (2019 & 2023 & 2030) - 2023년 용도별 세계의 리소그래피용 광원 소비 금액 시장 점유율 - 세계의 리소그래피용 광원 소비 금액 (2019 & 2023 & 2030) - 세계의 리소그래피용 광원 소비 금액 및 예측 (2019-2030) - 세계의 리소그래피용 광원 판매량 (2019-2030) - 세계의 리소그래피용 광원 평균 가격 (2019-2030) - 2023년 제조업체별 세계의 리소그래피용 광원 판매량 시장 점유율 - 2023년 제조업체별 세계의 리소그래피용 광원 소비 금액 시장 점유율 - 2023년 상위 3개 리소그래피용 광원 제조업체(소비 금액) 시장 점유율 - 2023년 상위 6개 리소그래피용 광원 제조업체(소비 금액) 시장 점유율 - 지역별 리소그래피용 광원 판매량 시장 점유율 - 지역별 리소그래피용 광원 소비 금액 시장 점유율 - 북미 리소그래피용 광원 소비 금액 - 유럽 리소그래피용 광원 소비 금액 - 아시아 태평양 리소그래피용 광원 소비 금액 - 남미 리소그래피용 광원 소비 금액 - 중동 및 아프리카 리소그래피용 광원 소비 금액 - 세계의 종류별 리소그래피용 광원 판매량 시장 점유율 - 세계의 종류별 리소그래피용 광원 소비 금액 시장 점유율 - 세계의 종류별 리소그래피용 광원 평균 가격 - 세계의 용도별 리소그래피용 광원 판매량 시장 점유율 - 세계의 용도별 리소그래피용 광원 소비 금액 시장 점유율 - 세계의 용도별 리소그래피용 광원 평균 가격 - 북미 리소그래피용 광원 종류별 판매량 시장 점유율 - 북미 리소그래피용 광원 용도별 판매 수량 시장 점유율 - 북미 리소그래피용 광원 국가별 판매 수량 시장 점유율 - 북미 리소그래피용 광원 국가별 소비 금액 시장 점유율 - 미국 리소그래피용 광원 소비 금액 및 성장률 - 캐나다 리소그래피용 광원 소비 금액 및 성장률 - 멕시코 리소그래피용 광원 소비 금액 및 성장률 - 유럽 리소그래피용 광원 종류별 판매량 시장 점유율 - 유럽 리소그래피용 광원 용도별 판매량 시장 점유율 - 유럽 리소그래피용 광원 국가별 판매량 시장 점유율 - 유럽 리소그래피용 광원 국가별 소비 금액 시장 점유율 - 독일 리소그래피용 광원 소비 금액 및 성장률 - 프랑스 리소그래피용 광원 소비 금액 및 성장률 - 영국 리소그래피용 광원 소비 금액 및 성장률 - 러시아 리소그래피용 광원 소비 금액 및 성장률 - 이탈리아 리소그래피용 광원 소비 금액 및 성장률 - 아시아 태평양 리소그래피용 광원 종류별 판매량 시장 점유율 - 아시아 태평양 리소그래피용 광원 용도별 판매량 시장 점유율 - 아시아 태평양 리소그래피용 광원 지역별 판매 수량 시장 점유율 - 아시아 태평양 리소그래피용 광원 지역별 소비 금액 시장 점유율 - 중국 리소그래피용 광원 소비 금액 및 성장률 - 일본 리소그래피용 광원 소비 금액 및 성장률 - 한국 리소그래피용 광원 소비 금액 및 성장률 - 인도 리소그래피용 광원 소비 금액 및 성장률 - 동남아시아 리소그래피용 광원 소비 금액 및 성장률 - 호주 리소그래피용 광원 소비 금액 및 성장률 - 남미 리소그래피용 광원 종류별 판매량 시장 점유율 - 남미 리소그래피용 광원 용도별 판매량 시장 점유율 - 남미 리소그래피용 광원 국가별 판매 수량 시장 점유율 - 남미 리소그래피용 광원 국가별 소비 금액 시장 점유율 - 브라질 리소그래피용 광원 소비 금액 및 성장률 - 아르헨티나 리소그래피용 광원 소비 금액 및 성장률 - 중동 및 아프리카 리소그래피용 광원 종류별 판매량 시장 점유율 - 중동 및 아프리카 리소그래피용 광원 용도별 판매량 시장 점유율 - 중동 및 아프리카 리소그래피용 광원 지역별 판매량 시장 점유율 - 중동 및 아프리카 리소그래피용 광원 지역별 소비 금액 시장 점유율 - 터키 리소그래피용 광원 소비 금액 및 성장률 - 이집트 리소그래피용 광원 소비 금액 및 성장률 - 사우디 아라비아 리소그래피용 광원 소비 금액 및 성장률 - 남아프리카 공화국 리소그래피용 광원 소비 금액 및 성장률 - 리소그래피용 광원 시장 성장 요인 - 리소그래피용 광원 시장 제약 요인 - 리소그래피용 광원 시장 동향 - 포터의 다섯 가지 힘 분석 - 2023년 리소그래피용 광원의 제조 비용 구조 분석 - 리소그래피용 광원의 제조 공정 분석 - 리소그래피용 광원 산업 체인 - 직접 채널 장단점 - 간접 채널 장단점 - 방법론 - 조사 프로세스 및 데이터 소스 ※납품 보고서의 구성항목 및 내용은 본 페이지에 기재된 내용과 다를 수 있습니다. 보고서 주문 전에 당사에 보고서 샘플을 요청해서 구성항목 및 기재 내용을 반드시 확인하시길 바랍니다. 보고서 샘플에 없는 내용은 납품 드리는 보고서에도 포함되지 않습니다. |
| ※참고 정보 리소그래피는 반도체 제조 공정의 핵심 기술로서, 웨이퍼 위에 복잡한 회로 패턴을 정밀하게 새기는 과정입니다. 이러한 패턴 형성은 특정 파장의 빛을 이용하여 마스크에 그려진 회로 패턴을 웨이퍼 표면에 감광된 포토레지스트에 투영하는 방식으로 이루어집니다. 따라서 리소그래피 공정의 성능과 정밀도는 사용되는 광원의 특성에 의해 크게 좌우됩니다. 리소그래피용 광원은 웨이퍼에 회로 패턴을 전달하는 빛을 생성하는 장치이며, 그 종류와 특성은 지속적으로 발전해 왔습니다. 초기 리소그래피 공정에서는 가시광선 영역의 빛, 특히 수은 램프에서 방출되는 빛이 주로 사용되었습니다. 수은 램프는 436 nm (g-선), 365 nm (i-선) 등의 특정 파장에서 강한 빛을 방출하며, 이러한 파장은 당시의 포토레지스트 감도와 렌즈 성능에 적합했습니다. 그러나 반도체 집적도가 높아지고 회로 패턴이 미세화됨에 따라 더 짧은 파장의 빛이 요구되었습니다. 짧은 파장의 빛은 회절 한계를 극복하여 더 미세한 패턴을 형성하는 데 유리하기 때문입니다. 이러한 요구에 부응하여 리소그래피용 광원은 점차 짧은 파장으로 발전해 왔습니다. 자외선(UV) 영역에서 심자외선(DUV)으로, 그리고 현재는 극자외선(EUV)으로 진화했습니다. DUV 리소그래피에서는 주로 불화아르곤(ArF) 엑시머 레이저가 사용됩니다. ArF 엑시머 레이저는 193 nm의 파장을 방출하며, 이는 수은 램프보다 훨씬 짧은 파장으로 미세 패턴 형성에 크게 기여했습니다. DUV 리소그래피는 오랜 기간 동안 반도체 산업의 근간을 이루어 왔으며, 더욱 미세한 공정을 위해 다중 패터닝(multi-patterning)과 같은 복잡한 기법과 함께 활용되었습니다. 다중 패터닝은 한 번의 리소그래피 공정으로 구현하기 어려운 미세 패턴을 여러 번의 리소그래피 및 식각 공정을 통해 단계적으로 형성하는 기술입니다. 이는 193 nm 빛의 회절 한계를 극복하는 효과적인 방법이었지만, 공정 복잡성과 비용 증가라는 단점을 가지고 있었습니다. 최근 반도체 기술의 최전선에서는 극자외선(EUV) 리소그래피가 핵심적인 역할을 수행하고 있습니다. EUV 리소그래피는 약 13.5 nm의 매우 짧은 파장을 사용하여 기존 DUV 리소그래피로는 구현하기 어려운 수 나노미터(nm) 수준의 미세 패턴을 단일 패터닝으로 구현할 수 있습니다. EUV 광원은 기존의 엑시머 레이저와는 전혀 다른 방식으로 생성됩니다. EUV 광원으로는 주로 레이저 유도 플라즈마(Laser-Induced Plasma, LIP) 방식이 사용됩니다. 이 방식은 고출력 레이저를 금속 액체 방울(주로 주석, Sn)에 조사하여 초고온의 플라즈마를 생성하고, 이 플라즈마에서 13.5 nm의 EUV 광이 방출되는 원리를 이용합니다. EUV 광원은 공기 중에서 흡수되는 특성이 강하기 때문에, EUV 리소그래피 장비는 진공 환경에서 작동해야 하며, 반사형 광학계(거울)를 사용하여 빛을 전달합니다. 일반적인 투과형 렌즈는 EUV 파장에서 빛을 거의 투과시키지 못하기 때문입니다. 따라서 EUV 리소그래피에는 매우 정밀하게 제작된 다층막 거울과 진공 시스템이 필수적입니다. EUV 광원의 효율성과 안정성 또한 중요한 기술적 과제이며, 이를 개선하기 위한 연구가 활발히 진행되고 있습니다. 리소그래피용 광원의 종류는 그 파장과 발생 방식에 따라 다양하게 분류될 수 있습니다. 전통적인 광원으로는 수은 램프가 있었고, 그 다음으로 DUV 영역의 불화아르곤(ArF) 및 불화크립톤(KrF) 엑시머 레이저가 주를 이루었습니다. 현재 반도체 미세 공정의 한계를 극복하기 위한 EUV 광원은 13.5 nm 파장의 고출력 광원을 필요로 합니다. 이러한 EUV 광원은 앞서 언급한 레이저 유도 플라즈마 방식 외에도 전자빔(electron beam)을 이용하는 방식 등 다양한 연구가 진행되고 있습니다. 광원의 주요 특징으로는 파장, 출력, 일관성, 스펙트럼 순도 등이 있습니다. 파장이 짧을수록 회절 현상이 줄어들어 더 미세한 패턴을 구현할 수 있습니다. 광원의 출력은 얼마나 많은 수의 웨이퍼를 처리할 수 있는지, 즉 생산성과 직결되는 중요한 요소입니다. 일관성은 광원이 얼마나 안정적으로 균일한 특성을 유지하는지를 나타내며, 패턴의 균일성에 영향을 미칩니다. 스펙트럼 순도는 원하는 파장의 빛 외에 다른 파장의 빛이 얼마나 적게 포함되어 있는지를 의미하며, 이는 패턴의 선명도와 직접적인 관련이 있습니다. 리소그래피용 광원은 반도체 집적회로(IC) 제조뿐만 아니라, 미세 패턴이 필요한 다양한 분야에 응용될 수 있습니다. 예를 들어, 마이크로일렉트로닉스 분야 외에도 마이크로머신(MEMS), 광학 부품, 바이오 센서 등의 제조에도 활용될 수 있습니다. 특히 EUV 리소그래피는 초고밀도 집적회로 제조의 핵심 기술로서 최첨단 스마트폰, 서버, 인공지능(AI) 가속기 등에 사용되는 고성능 반도체 칩 생산에 필수적입니다. 리소그래피용 광원과 관련된 기술은 매우 광범위합니다. 광원의 발생 장치 자체의 기술 개발뿐만 아니라, 생성된 빛을 집속하고 제어하는 광학계 기술, 빛에 반응하는 포토레지스트 재료 기술, 그리고 웨이퍼 위에 정밀하게 패턴을 투영하고 정렬하는 장비 기술 등 모든 요소가 유기적으로 결합되어야 최적의 리소그래피 성능을 달성할 수 있습니다. 특히 EUV 리소그래피의 경우, 고효율의 EUV 광원 개발, EUV 빛을 반사하는 고품질 거울 제작, 그리고 진공 환경을 유지하는 기술 등이 핵심적인 관련 기술이라고 할 수 있습니다. 또한, 패턴의 왜곡을 보정하고 정밀도를 높이기 위한 연산 포토리소그래피 보정(Optical Proximity Correction, OPC) 기술 역시 광원의 특성과 긴밀하게 연관되어 발전하고 있습니다. 결론적으로, 리소그래피용 광원은 반도체 제조 기술 발전의 핵심 동력이며, 끊임없이 더 짧은 파장과 높은 효율을 향해 발전하고 있습니다. 수은 램프에서 DUV 엑시머 레이저를 거쳐 EUV 광원에 이르기까지, 이러한 광원의 발전은 회로 패턴의 미세화와 반도체 칩의 성능 향상을 이끌어왔습니다. 앞으로도 차세대 리소그래피 기술의 발전과 함께 새로운 형태의 광원 기술이 등장할 것으로 예상되며, 이는 미래 반도체 산업의 혁신을 지속적으로 견인할 것입니다. |
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