| ■ 영문 제목 : Global Molecular Pumps for Semiconductor Devices Market Growth 2024-2030 | |
 | ■ 상품코드 : LPI2407D34584 ■ 조사/발행회사 : LP Information ■ 발행일 : 2024년 5월 ■ 페이지수 : 약100 ■ 작성언어 : 영어 ■ 보고서 형태 : PDF ■ 납품 방식 : E메일 (주문후 2-3일 소요) ■ 조사대상 지역 : 글로벌 ■ 산업 분야 : IT/전자 |
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LP Information (LPI)사의 최신 조사에 따르면, 글로벌 반도체 장치용 분자 펌프 시장 규모는 2023년에 미화 XXX백만 달러로 산출되었습니다. 다운 스트림 시장의 수요가 증가함에 따라 반도체 장치용 분자 펌프은 조사 대상 기간 동안 XXX%의 CAGR(연평균 성장율)로 2030년까지 미화 XXX백만 달러의 시장규모로 예상됩니다.
본 조사 보고서는 글로벌 반도체 장치용 분자 펌프 시장의 성장 잠재력을 강조합니다. 반도체 장치용 분자 펌프은 향후 시장에서 안정적인 성장을 보일 것으로 예상됩니다. 그러나 제품 차별화, 비용 절감 및 공급망 최적화는 반도체 장치용 분자 펌프의 광범위한 채택을 위해 여전히 중요합니다. 시장 참여자들은 연구 개발에 투자하고, 전략적 파트너십을 구축하고, 진화하는 소비자 선호도에 맞춰 제품을 제공함으로써 반도체 장치용 분자 펌프 시장이 제공하는 막대한 기회를 활용해야 합니다.
[주요 특징]
반도체 장치용 분자 펌프 시장에 대한 보고서는 다양한 측면을 반영하고 업계에 대한 소중한 통찰력을 제공합니다.
시장 규모 및 성장: 본 조사 보고서는 반도체 장치용 분자 펌프 시장의 현재 규모와 성장에 대한 개요를 제공합니다. 여기에는 과거 데이터, 유형별 시장 세분화 (예 : 자기 부상 분자 펌프, 오일 윤활 분자 펌프, 그리스 윤활 분자 펌프) 및 지역 분류가 포함될 수 있습니다.
시장 동인 및 과제: 본 보고서는 정부 규제, 환경 문제, 기술 발전 및 소비자 선호도 변화와 같은 반도체 장치용 분자 펌프 시장의 성장을 주도하는 요인을 식별하고 분석 할 수 있습니다. 또한 인프라 제한, 범위 불안, 높은 초기 비용 등 업계가 직면한 과제를 강조할 수 있습니다.
경쟁 환경: 본 조사 보고서는 반도체 장치용 분자 펌프 시장 내 경쟁 환경에 대한 분석을 제공합니다. 여기에는 주요 업체의 프로필, 시장 점유율, 전략 및 제공 제품이 포함됩니다. 본 보고서는 또한 신흥 플레이어와 시장에 대한 잠재적 영향을 강조할 수 있습니다.
기술 개발: 본 조사 보고서는 반도체 장치용 분자 펌프 산업의 최신 기술 개발에 대해 자세히 살펴볼 수 있습니다. 여기에는 반도체 장치용 분자 펌프 기술의 발전, 반도체 장치용 분자 펌프 신규 진입자, 반도체 장치용 분자 펌프 신규 투자, 그리고 반도체 장치용 분자 펌프의 미래를 형성하는 기타 혁신이 포함됩니다.
다운스트림 고객 선호도: 본 보고서는 반도체 장치용 분자 펌프 시장의 고객 구매 행동 및 채택 동향을 조명할 수 있습니다. 여기에는 고객의 구매 결정에 영향을 미치는 요인, 반도체 장치용 분자 펌프 제품에 대한 선호도가 포함됩니다.
정부 정책 및 인센티브: 본 조사 보고서는 정부 정책 및 인센티브가 반도체 장치용 분자 펌프 시장에 미치는 영향을 분석합니다. 여기에는 규제 프레임워크, 보조금, 세금 인센티브 및 반도체 장치용 분자 펌프 시장을 촉진하기위한 기타 조치에 대한 평가가 포함될 수 있습니다. 본 보고서는 또한 이러한 정책이 시장 성장을 촉진하는데 미치는 효과도 분석합니다.
환경 영향 및 지속 가능성: 조사 보고서는 반도체 장치용 분자 펌프 시장의 환경 영향 및 지속 가능성 측면을 분석합니다.
시장 예측 및 미래 전망: 수행된 분석을 기반으로 본 조사 보고서는 반도체 장치용 분자 펌프 산업에 대한 시장 예측 및 전망을 제공합니다. 여기에는 시장 규모, 성장률, 지역 동향, 기술 발전 및 정책 개발에 대한 예측이 포함됩니다.
권장 사항 및 기회: 본 보고서는 업계 이해 관계자, 정책 입안자, 투자자를 위한 권장 사항으로 마무리됩니다. 본 보고서는 시장 참여자들이 새로운 트렌드를 활용하고, 도전 과제를 극복하며, 반도체 장치용 분자 펌프 시장의 성장과 발전에 기여할 수 있는 잠재적 기회를 강조합니다.
[시장 세분화]
반도체 장치용 분자 펌프 시장은 종류 및 용도별로 나뉩니다. 2019-2030년 기간 동안 세그먼트 간의 성장은 종류별 및 용도별로 시장규모에 대한 정확한 계산 및 예측을 수량 및 금액 측면에서 제공합니다.
*** 종류별 세분화 ***
자기 부상 분자 펌프, 오일 윤활 분자 펌프, 그리스 윤활 분자 펌프
*** 용도별 세분화 ***
리소그래피, 박막 증착 기계, 에칭 기계, 이온 주입 기계, 기타
본 보고서는 또한 시장을 지역별로 분류합니다:
– 미주 (미국, 캐나다, 멕시코, 브라질)
– 아시아 태평양 (중국, 일본, 한국, 동남아시아, 인도, 호주)
– 유럽 (독일, 프랑스, 영국, 이탈리아, 러시아)
– 중동 및 아프리카 (이집트, 남아프리카 공화국, 이스라엘, 터키, GCC 국가)
아래 프로파일링 대상 기업은 주요 전문가로부터 수집한 정보를 바탕으로 해당 기업의 서비스 범위, 제품 포트폴리오, 시장 점유율을 분석하여 선정되었습니다.
Shimadzu, Pfeiffer Vacuum, ULVAC, Edwards, Busch, Leybold
[본 보고서에서 다루는 주요 질문]
– 글로벌 반도체 장치용 분자 펌프 시장의 향후 10년 전망은 어떻게 될까요?
– 전 세계 및 지역별 반도체 장치용 분자 펌프 시장 성장을 주도하는 요인은 무엇입니까?
– 시장과 지역별로 가장 빠르게 성장할 것으로 예상되는 분야는 무엇인가요?
– 최종 시장 규모에 따라 반도체 장치용 분자 펌프 시장 기회는 어떻게 다른가요?
– 반도체 장치용 분자 펌프은 종류, 용도를 어떻게 분류합니까?
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■ 보고서 목차■ 보고서의 범위 ■ 보고서의 요약 ■ 기업별 세계 반도체 장치용 분자 펌프 시장분석 ■ 지역별 반도체 장치용 분자 펌프에 대한 추이 분석 ■ 미주 시장 ■ 아시아 태평양 시장 ■ 유럽 시장 ■ 중동 및 아프리카 시장 ■ 시장 동인, 도전 과제 및 동향 ■ 제조 비용 구조 분석 ■ 마케팅, 유통업체 및 고객 ■ 지역별 반도체 장치용 분자 펌프 시장 예측 ■ 주요 기업 분석 Shimadzu, Pfeiffer Vacuum, ULVAC, Edwards, Busch, Leybold – Shimadzu – Pfeiffer Vacuum – ULVAC ■ 조사 결과 및 결론 [그림 목록]반도체 장치용 분자 펌프 이미지 반도체 장치용 분자 펌프 판매량 성장률 (2019-2030) 글로벌 반도체 장치용 분자 펌프 매출 성장률 (2019-2030) 지역별 반도체 장치용 분자 펌프 매출 (2019, 2023 및 2030) 글로벌 종류별 반도체 장치용 분자 펌프 판매량 시장 점유율 2023 글로벌 종류별 반도체 장치용 분자 펌프 매출 시장 점유율 (2019-2024) 글로벌 용도별 반도체 장치용 분자 펌프 판매량 시장 점유율 2023 글로벌 용도별 반도체 장치용 분자 펌프 매출 시장 점유율 기업별 반도체 장치용 분자 펌프 판매량 시장 2023 기업별 글로벌 반도체 장치용 분자 펌프 판매량 시장 점유율 2023 기업별 반도체 장치용 분자 펌프 매출 시장 2023 기업별 글로벌 반도체 장치용 분자 펌프 매출 시장 점유율 2023 지역별 글로벌 반도체 장치용 분자 펌프 판매량 시장 점유율 (2019-2024) 글로벌 반도체 장치용 분자 펌프 매출 시장 점유율 2023 미주 반도체 장치용 분자 펌프 판매량 (2019-2024) 미주 반도체 장치용 분자 펌프 매출 (2019-2024) 아시아 태평양 반도체 장치용 분자 펌프 판매량 (2019-2024) 아시아 태평양 반도체 장치용 분자 펌프 매출 (2019-2024) 유럽 반도체 장치용 분자 펌프 판매량 (2019-2024) 유럽 반도체 장치용 분자 펌프 매출 (2019-2024) 중동 및 아프리카 반도체 장치용 분자 펌프 판매량 (2019-2024) 중동 및 아프리카 반도체 장치용 분자 펌프 매출 (2019-2024) 미국 반도체 장치용 분자 펌프 시장규모 (2019-2024) 캐나다 반도체 장치용 분자 펌프 시장규모 (2019-2024) 멕시코 반도체 장치용 분자 펌프 시장규모 (2019-2024) 브라질 반도체 장치용 분자 펌프 시장규모 (2019-2024) 중국 반도체 장치용 분자 펌프 시장규모 (2019-2024) 일본 반도체 장치용 분자 펌프 시장규모 (2019-2024) 한국 반도체 장치용 분자 펌프 시장규모 (2019-2024) 동남아시아 반도체 장치용 분자 펌프 시장규모 (2019-2024) 인도 반도체 장치용 분자 펌프 시장규모 (2019-2024) 호주 반도체 장치용 분자 펌프 시장규모 (2019-2024) 독일 반도체 장치용 분자 펌프 시장규모 (2019-2024) 프랑스 반도체 장치용 분자 펌프 시장규모 (2019-2024) 영국 반도체 장치용 분자 펌프 시장규모 (2019-2024) 이탈리아 반도체 장치용 분자 펌프 시장규모 (2019-2024) 러시아 반도체 장치용 분자 펌프 시장규모 (2019-2024) 이집트 반도체 장치용 분자 펌프 시장규모 (2019-2024) 남아프리카 반도체 장치용 분자 펌프 시장규모 (2019-2024) 이스라엘 반도체 장치용 분자 펌프 시장규모 (2019-2024) 터키 반도체 장치용 분자 펌프 시장규모 (2019-2024) GCC 국가 반도체 장치용 분자 펌프 시장규모 (2019-2024) 반도체 장치용 분자 펌프의 제조 원가 구조 분석 반도체 장치용 분자 펌프의 제조 공정 분석 반도체 장치용 분자 펌프의 산업 체인 구조 반도체 장치용 분자 펌프의 유통 채널 글로벌 지역별 반도체 장치용 분자 펌프 판매량 시장 전망 (2025-2030) 글로벌 지역별 반도체 장치용 분자 펌프 매출 시장 점유율 예측 (2025-2030) 글로벌 종류별 반도체 장치용 분자 펌프 판매량 시장 점유율 예측 (2025-2030) 글로벌 종류별 반도체 장치용 분자 펌프 매출 시장 점유율 예측 (2025-2030) 글로벌 용도별 반도체 장치용 분자 펌프 판매량 시장 점유율 예측 (2025-2030) 글로벌 용도별 반도체 장치용 분자 펌프 매출 시장 점유율 예측 (2025-2030) ※납품 보고서의 구성항목 및 내용은 본 페이지에 기재된 내용과 다를 수 있습니다. 보고서 주문 전에 당사에 보고서 샘플을 요청해서 구성항목 및 기재 내용을 반드시 확인하시길 바랍니다. 보고서 샘플에 없는 내용은 납품 드리는 보고서에도 포함되지 않습니다. |
| ※참고 정보 ## 반도체 장치용 분자 펌프 반도체 제조 공정은 극도로 낮은 압력을 요구하는 진공 환경에서 이루어집니다. 이러한 초고진공(Ultra-high Vacuum, UHV) 환경을 조성하고 유지하는 것은 고품질의 반도체 소자를 생산하는 데 필수적입니다. 분자 펌프(Molecular Pump)는 이러한 초고진공 환경을 달성하는 데 핵심적인 역할을 하는 진공 펌프의 한 종류로서, 특히 반도체 장치 제조 공정에서 그 중요성이 매우 높습니다. ### 분자 펌프의 정의 및 원리 분자 펌프는 기체 분자 자체의 운동량을 이용하여 기체를 외부로 배출시키는 방식으로 작동하는 진공 펌프입니다. 다른 종류의 진공 펌프, 예를 들어 증기 제트 펌프나 터보 분자 펌프와 같이 직접적인 운동 에너지 전달을 이용하는 방식과 달리, 분자 펌프는 기체 분자와 펌프 내부의 회전하는 구조물 간의 충돌을 통해 기체 분자의 운동 방향을 조절하여 진공 용기에서 펌프의 출구 방향으로 이동시키는 원리를 사용합니다. 이 과정에서 각 기체 분자는 펌프 내부의 여러 단계의 회전 날개 또는 디스크와 상호작용하며, 점진적으로 진공도가 높아지게 됩니다. 이러한 원리는 특정 압력 범위에서 특히 효과적입니다. 일반적으로 분자 펌프는 전단 펌프(backing pump)라고 불리는 다른 종류의 진공 펌프(예: 로터리 베인 펌프, 스크롤 펌프)와 함께 사용됩니다. 전단 펌프는 펌프의 출구 쪽 대기압을 낮추어, 분자 펌프가 효과적으로 작동할 수 있는 낮은 압력 환경을 조성하는 역할을 합니다. 분자 펌프는 주로 중간 진공(Medium Vacuum)에서 초고진공까지의 압력 범위에서 탁월한 성능을 발휘합니다. ### 분자 펌프의 주요 특징 분자 펌프가 반도체 제조 공정에서 널리 사용되는 이유는 다음과 같은 여러 가지 특징 때문입니다. 첫째, **매우 낮은 압력 달성 능력**입니다. 분자 펌프는 다른 진공 펌프에 비해 훨씬 낮은 압력, 즉 초고진공(UHV) 또는 극초고진공(Extreme High Vacuum, EUHV) 영역까지 도달할 수 있습니다. 반도체 소자의 미세 구조를 형성하고 불순물 오염을 최소화하기 위해서는 이러한 극저압 환경이 필수적입니다. 미세 회로 패턴의 정밀도를 높이고, 웨이퍼 표면의 화학적 결함을 줄이며, 박막 증착 공정에서 균일성과 순도를 보장하기 위해 매우 낮은 압력이 요구됩니다. 둘째, **오일 프리(Oil-free) 작동**입니다. 많은 종류의 분자 펌프는 윤활유나 오일을 사용하지 않고 작동하도록 설계되었습니다. 이는 반도체 제조 공정에서 가장 중요한 고려 사항 중 하나입니다. 오일은 공정 중에 발생하는 기체와 반응하거나 웨이퍼 표면에 증착되어 반도체 소자의 성능을 저하시키는 오염원이 될 수 있습니다. 오일 프리 작동은 이러한 오염 문제를 근본적으로 방지하여 고순도의 웨이퍼를 생산하는 데 기여합니다. 셋째, **높은 배기 속도**입니다. 분자 펌프는 넓은 영역의 압력 범위에서 높은 배기 속도를 제공합니다. 이는 대량의 기체를 빠르고 효율적으로 제거해야 하는 반도체 제조 공정에서 매우 중요합니다. 특히, 증착, 식각, 이온 주입 등의 공정에서는 반응 부산물이나 잔류 가스가 대량으로 발생할 수 있는데, 이를 신속하게 제거함으로써 공정 시간을 단축하고 생산성을 향상시킬 수 있습니다. 넷째, **낮은 진동 및 소음**입니다. 고속으로 회전하는 로터(rotor)를 포함하는 경우가 많지만, 정교하게 설계된 분자 펌프는 진동과 소음을 최소화하도록 제작됩니다. 이는 민감한 반도체 제조 장비의 안정적인 작동을 보장하고, 주변 환경에 미치는 영향을 줄이는 데 중요합니다. 다섯째, **넓은 압력 범위에서의 성능**입니다. 전단 펌프와 함께 사용될 때, 분자 펌프는 대기압에 가까운 압력에서부터 초고진공 영역까지 넓은 압력 범위에서 연속적으로 작동할 수 있습니다. 이는 진공 시스템 구축 및 운영을 단순화하고, 공정 전환 시 압력 변화에 대한 유연성을 제공합니다. ### 분자 펌프의 종류 분자 펌프는 내부 구조 및 작동 원리에 따라 몇 가지 주요 종류로 나눌 수 있습니다. * **터보 분자 펌프 (Turbo-molecular Pump)**: 가장 널리 사용되는 분자 펌프의 한 종류입니다. 고속으로 회전하는 로터에 부착된 회전 날개(rotor blades)와 고정된 날개(stator blades)가 번갈아 배치되어 있습니다. 기체 분자는 회전 날개와 충돌하면서 출구 방향으로 진행하게 됩니다. 터보 분자 펌프는 그 구조의 단순성과 높은 배기 효율성으로 인해 반도체 제조 공정에서 가장 보편적으로 사용되는 진공 펌프 중 하나입니다. * **기동 터보 분자 펌프 (Hybrid Turbo-molecular Pump)**: 기동 터보 분자 펌프는 일반적인 터보 분자 펌프의 효율적인 배기 능력과 함께, 더 낮은 압력에서부터 작동할 수 있는 능력을 갖춘 펌프입니다. 일반적으로 터보 분자 펌프의 앞에 분자 흐름을 더 효율적으로 조절하기 위한 추가적인 단계나 특수 설계된 로터/스테이터 구조를 포함합니다. 이는 전단 펌프의 부하를 줄이고, 더 빠른 진공 달성을 가능하게 합니다. * **축류 터보 분자 펌프 (Axial Turbo-molecular Pump)**: 기체 분자가 펌프 축 방향으로 주로 이동하며 배기되는 방식입니다. 회전 날개와 고정 날개가 원통형으로 쌓여 있으며, 기체 분자는 이러한 단계를 거치면서 점진적으로 낮은 압력으로 이동합니다. * **레이디얼 터보 분자 펌프 (Radial Turbo-molecular Pump)**: 기체 분자가 펌프의 반지름 방향으로 이동하며 배기되는 방식입니다. 디스크 형태의 회전 날개와 고정 날개를 사용하여 기체 분자에 운동량을 전달합니다. 이 외에도 특정 용도나 요구 사항에 맞춰 다양한 변형된 분자 펌프들이 개발되어 사용되고 있습니다. 예를 들어, 자기 베어링을 사용하여 오일 프리 작동을 더욱 강화하거나, 회전 속도 및 날개 설계를 최적화하여 특정 기체에 대한 배기 효율을 높이는 기술들이 적용됩니다. ### 반도체 장치 제조 공정에서의 용도 분자 펌프는 반도체 제조 공정 전반에 걸쳐 매우 광범위하게 사용됩니다. 주요 적용 분야는 다음과 같습니다. * **박막 증착 공정 (Thin Film Deposition)**: 물리 기상 증착(Physical Vapor Deposition, PVD), 화학 기상 증착(Chemical Vapor Deposition, CVD), 원자층 증착(Atomic Layer Deposition, ALD) 등 대부분의 박막 증착 공정은 매우 낮은 압력에서 이루어집니다. 이러한 공정에서 분자 펌프는 반응성 가스, 부산물, 잔류 오염 물질을 효과적으로 제거하여 증착되는 박막의 순도, 균일성, 밀착력을 향상시키는 데 필수적입니다. 특히, 고순도의 절연막이나 전도성 박막을 형성하는 데 있어서 분자 펌프의 역할은 매우 중요합니다. * **식각 공정 (Etching)**: 반도체 웨이퍼 위에 형성된 패턴을 정밀하게 제거하는 식각 공정에서도 분자 펌프가 사용됩니다. 건식 식각 공정에서는 반응 가스, 플라즈마 부산물, 휘발성 물질 등을 신속하게 제거하여 식각 속도를 일정하게 유지하고, 과도한 식각이나 불균일한 식각을 방지하는 데 기여합니다. * **이온 주입 공정 (Ion Implantation)**: 도펀트 이온을 반도체 웨이퍼에 주입하여 전기적 특성을 변화시키는 공정에서도 분자 펌프는 필수적입니다. 이온 소스에서 발생한 잔류 가스나 공정 중 발생하는 불순물을 효과적으로 제거함으로써, 이온 빔의 안정성을 유지하고 웨이퍼 오염을 방지합니다. * **표면 처리 및 세정 공정 (Surface Treatment and Cleaning)**: 플라즈마 처리, 건식 세정 등 웨이퍼 표면을 준비하거나 수정하는 공정에서도 분자 펌프를 사용하여 공정 환경을 제어합니다. * **진공 환경 유지**: 이러한 다양한 공정 챔버뿐만 아니라, 반도체 제조 장비 자체의 전반적인 진공 시스템에서도 분자 펌프는 초고진공 환경을 유지하는 데 핵심적인 역할을 합니다. ### 관련 기술 및 발전 방향 분자 펌프 기술은 반도체 산업의 발전과 함께 끊임없이 진화하고 있습니다. * **자기 베어링 기술**: 기존의 기계식 베어링은 마찰과 마모로 인해 오일 오염의 가능성을 내포하고, 수명에 제한이 있습니다. 자기 베어링 기술은 이러한 문제를 해결하여 완벽한 오일 프리 작동을 보장하고, 펌프의 수명을 연장하며, 유지보수 비용을 절감하는 데 기여합니다. 또한, 자기 베어링은 고속 회전 시 발생하는 진동을 효과적으로 제어하여 장비의 안정성을 높이는 데도 도움이 됩니다. * **고효율 로터 및 날개 설계**: 컴퓨터 시뮬레이션(CFD) 및 고급 재료 과학의 발전을 통해 분자 펌프의 로터와 날개 설계가 최적화되고 있습니다. 이를 통해 특정 기체에 대한 배기 효율을 높이고, 펌프의 크기와 무게를 줄이며, 에너지 소비를 절감하는 연구가 진행되고 있습니다. * **통합 진공 시스템**: 최근에는 분자 펌프와 전단 펌프, 밸브, 센서 등을 하나의 모듈화된 장치로 통합하는 기술이 발전하고 있습니다. 이러한 통합 시스템은 설치 및 유지보수를 용이하게 하고, 진공 시스템의 전체적인 성능과 신뢰성을 향상시킵니다. * **스마트 제어 및 모니터링**: IoT(사물 인터넷) 및 인공지능(AI) 기술을 활용하여 분자 펌프의 작동 상태를 실시간으로 모니터링하고, 예지 보전을 수행하며, 공정 조건에 맞춰 최적의 성능을 발휘하도록 제어하는 기술이 개발되고 있습니다. 이는 반도체 제조 공정의 자동화와 생산성 향상에 기여합니다. * **에너지 효율 증대**: 반도체 공장은 막대한 에너지를 소비합니다. 따라서 분자 펌프의 에너지 효율을 높이는 기술은 매우 중요합니다. 모터 효율 개선, 경량화된 로터 설계, 최적의 회전 속도 제어 등을 통해 에너지 소비를 줄이려는 노력이 계속되고 있습니다. 결론적으로, 반도체 장치용 분자 펌프는 현대 반도체 제조 공정에서 필수 불가결한 핵심 부품입니다. 극저압 환경을 안정적으로 구현하고 유지하는 능력, 오일 오염으로부터 자유로운 작동 방식, 높은 배기 속도 등의 장점을 바탕으로 반도체 소자의 미세화, 고성능화, 집적도 향상에 결정적인 기여를 하고 있습니다. 앞으로도 자기 베어링, 고효율 설계, 스마트 제어 등의 기술 발전과 함께 분자 펌프는 더욱 발전하여 미래 반도체 산업의 혁신을 견인할 것으로 기대됩니다. |
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