| ■ 영문 제목 : Tungsten Telluride Sputtering Target Market, Global Outlook and Forecast 2024-2030 | |
 | ■ 상품코드 : MONT2407F53837 ■ 조사/발행회사 : Market Monitor Global ■ 발행일 : 2024년 3월 ■ 페이지수 : 약100 ■ 작성언어 : 영어 ■ 보고서 형태 : PDF ■ 납품 방식 : E메일 (주문후 2-3일 소요) ■ 조사대상 지역 : 글로벌 ■ 산업 분야 : 부품/재료 |
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본 조사 보고서는 현재 동향, 시장 역학 및 미래 전망에 초점을 맞춰, 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 시장에 대한 포괄적인 분석을 제공합니다. 본 보고서는 북미, 유럽, 아시아 태평양 및 신흥 시장과 같은 주요 지역을 포함한 전 세계 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 시장을 대상으로 합니다. 또한 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟의 성장을 주도하는 주요 요인, 업계가 직면한 과제 및 시장 참여자를 위한 잠재적 기회도 기재합니다.
글로벌 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 시장은 최근 몇 년 동안 환경 문제, 정부 인센티브 및 기술 발전의 증가로 인해 급속한 성장을 목격했습니다. 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 시장은 반도체, 화학 증착, 물리 증착, 기타를 포함한 다양한 이해 관계자에게 기회를 제공합니다. 민간 부문과 정부 간의 협력은 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 시장에 대한 지원 정책, 연구 개발 노력 및 투자를 가속화 할 수 있습니다. 또한 증가하는 소비자 수요는 시장 확장의 길을 제시합니다.
글로벌 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 시장은 2023년에 미화 XXX백만 달러로 조사되었으며 2030년까지 미화 XXX백만 달러에 도달할 것으로 예상되며, 예측 기간 동안 XXX%의 CAGR로 성장할 것으로 예상됩니다.
[주요 특징]
텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 시장에 대한 조사 보고서에는 포괄적인 통찰력을 제공하고 이해 관계자의 의사 결정을 용이하게하는 몇 가지 주요 항목이 포함되어 있습니다.
요약 : 본 보고서는 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 시장의 주요 결과, 시장 동향 및 주요 통찰력에 대한 개요를 제공합니다.
시장 개요: 본 보고서는 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 시장의 정의, 역사적 추이, 현재 시장 규모를 포함한 포괄적인 개요를 제공합니다. 종류(예: 순도 99%, 순도 99.5%, 순도 99.9%, 순도 99.95%, 순도 99.99%, 순도 99.999%, 기타), 지역 및 용도별로 시장을 세분화하여 각 세그먼트 내의 주요 동인, 과제 및 기회를 중점적으로 다룹니다.
시장 역학: 본 보고서는 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 시장의 성장과 발전을 주도하는 시장 역학을 분석합니다. 본 보고서에는 정부 정책 및 규정, 기술 발전, 소비자 동향 및 선호도, 인프라 개발, 업계 협력에 대한 평가가 포함되어 있습니다. 이 분석은 이해 관계자가 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 시장의 궤적에 영향을 미치는 요인을 이해하는데 도움이됩니다.
경쟁 환경: 본 보고서는 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 시장내 경쟁 환경에 대한 심층 분석을 제공합니다. 여기에는 주요 시장 플레이어의 프로필, 시장 점유율, 전략, 제품 포트폴리오 및 최근 동향이 포함됩니다.
시장 세분화 및 예측: 본 보고서는 종류, 지역 및 용도와 같은 다양한 매개 변수를 기반으로 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 시장을 세분화합니다. 정량적 데이터 및 분석을 통해 각 세그먼트의 시장 규모와 성장 예측을 제공합니다. 이를 통해 이해 관계자가 성장 기회를 파악하고 정보에 입각한 투자 결정을 내릴 수 있습니다.
기술 동향: 본 보고서는 주요기술의 발전과 새로운 대체품 등 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 시장을 형성하는 주요 기술 동향을 강조합니다. 이러한 트렌드가 시장 성장, 채택률, 소비자 선호도에 미치는 영향을 분석합니다.
시장 과제와 기회: 본 보고서는 기술적 병목 현상, 비용 제한, 높은 진입 장벽 등 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 시장이 직면한 주요 과제를 파악하고 분석합니다. 또한 정부 인센티브, 신흥 시장, 이해관계자 간의 협업 등 시장 성장의 기회에 대해서도 강조합니다.
규제 및 정책 분석: 본 보고서는 정부 인센티브, 배출 기준, 인프라 개발 계획 등 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟에 대한 규제 및 정책 환경을 평가합니다. 이러한 정책이 시장 성장에 미치는 영향을 분석하고 향후 규제 동향에 대한 인사이트를 제공합니다.
권장 사항 및 결론: 본 보고서는 소비자, 정책 입안자, 투자자, 인프라 제공업체 등 이해관계자를 위한 실행 가능한 권고 사항으로 마무리합니다. 이러한 권장 사항은 조사 결과를 바탕으로 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 시장의 주요 과제와 기회를 해결할 수 있습니다.
참고 데이터 및 부록: 보고서에는 분석 및 조사 결과를 입증하기 위한 보조 데이터, 차트, 그래프가 포함되어 있습니다. 또한 데이터 소스, 설문조사, 상세한 시장 예측과 같은 추가 세부 정보가 담긴 부록도 포함되어 있습니다.
[시장 세분화]
텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 시장은 종류별 및 용도별로 세분화됩니다. 2019-2030년 기간 동안 세그먼트 간의 성장은 종류별 및 용도별로 시장규모에 대한 정확한 계산 및 예측을 볼륨 및 금액 측면에서 제공합니다.
■ 종류별 시장 세그먼트
– 순도 99%, 순도 99.5%, 순도 99.9%, 순도 99.95%, 순도 99.99%, 순도 99.999%, 기타
■ 용도별 시장 세그먼트
– 반도체, 화학 증착, 물리 증착, 기타
■ 지역별 및 국가별 글로벌 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 시장 점유율, 2023년(%)
– 북미 (미국, 캐나다, 멕시코)
– 유럽 (독일, 프랑스, 영국, 이탈리아, 러시아)
– 아시아 (중국, 일본, 한국, 동남아시아, 인도)
– 남미 (브라질, 아르헨티나)
– 중동 및 아프리카 (터키, 이스라엘, 사우디 아라비아, UAE)
■ 주요 업체
– Stanford Advanced Materials, MSE Supplies, Advanced Engineering Materials, Heeger Materials, ALB Materials Inc, QS Advanced Materials, Fushel, Edgetech Industries, XI’AN FUNCTION MATERIAL GROUP, American Elements
[주요 챕터의 개요]
1 장 : 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟의 정의, 시장 개요를 소개
2 장 : 매출 및 판매량을 기준으로한 글로벌 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 시장 규모
3 장 : 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 제조업체 경쟁 환경, 가격, 판매량 및 매출 시장 점유율, 최신 동향, M&A 정보 등에 대한 자세한 분석
4 장 : 종류별 시장 분석을 제공 (각 세그먼트의 시장 규모와 성장 잠재력을 다룸)
5 장 : 용도별 시장 분석을 제공 (각 세그먼트의 시장 규모와 성장 잠재력을 다룸)
6 장 : 지역 및 국가별 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 판매량. 각 지역 및 주요 국가의 시장 규모와 성장 잠재력에 대한 정량적 분석을 제공. 세계 각국의 시장 개발, 향후 개발 전망, 시장 기회을 소개
7 장 : 주요 업체의 프로필을 제공. 제품 판매, 매출, 가격, 총 마진, 제품 소개, 최근 동향 등 시장 내 주요 업체의 기본 상황을 자세히 소개
8 장 : 지역별 및 국가별 글로벌 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 시장규모
9 장 : 시장 역학, 시장의 최신 동향, 시장의 추진 요인 및 제한 요인, 업계내 업체가 직면한 과제 및 리스크, 업계의 관련 정책 분석을 소개
10 장 : 산업의 업 스트림 및 다운 스트림을 포함한 산업 체인 분석
11 장 : 보고서의 주요 요점 및 결론
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■ 보고서 목차1. 조사 및 분석 보고서 소개 2. 글로벌 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 전체 시장 규모 3. 기업 환경 4. 종류별 시장 분석 5. 용도별 시장 분석 6. 지역별 시장 분석 7. 제조업체 및 브랜드 프로필 Stanford Advanced Materials, MSE Supplies, Advanced Engineering Materials, Heeger Materials, ALB Materials Inc, QS Advanced Materials, Fushel, Edgetech Industries, XI’AN FUNCTION MATERIAL GROUP, American Elements Stanford Advanced Materials MSE Supplies Advanced Engineering Materials 8. 글로벌 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 생산 능력 분석 9. 주요 시장 동향, 기회, 동인 및 제약 요인 10. 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 공급망 분석 11. 결론 [그림 목록]- 종류별 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 세그먼트, 2023년 - 용도별 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 세그먼트, 2023년 - 글로벌 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 시장 개요, 2023년 - 글로벌 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 시장 규모: 2023년 VS 2030년 - 글로벌 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 매출, 2019-2030 - 글로벌 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 판매량: 2019-2030 - 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 매출 기준 상위 3개 및 5개 업체 시장 점유율, 2023년 - 글로벌 종류별 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 매출, 2023년 VS 2030년 - 글로벌 종류별 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 매출 시장 점유율 - 글로벌 종류별 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 판매량 시장 점유율 - 글로벌 종류별 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 가격 - 글로벌 용도별 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 매출, 2023년 VS 2030년 - 글로벌 용도별 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 매출 시장 점유율 - 글로벌 용도별 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 판매량 시장 점유율 - 글로벌 용도별 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 가격 - 지역별 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 매출, 2023년 VS 2030년 - 지역별 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 매출 시장 점유율 - 지역별 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 매출 시장 점유율 - 지역별 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 판매량 시장 점유율 - 북미 국가별 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 매출 시장 점유율 - 북미 국가별 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 판매량 시장 점유율 - 미국 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 시장규모 - 캐나다 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 시장규모 - 멕시코 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 시장규모 - 유럽 국가별 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 매출 시장 점유율 - 유럽 국가별 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 판매량 시장 점유율 - 독일 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 시장규모 - 프랑스 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 시장규모 - 영국 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 시장규모 - 이탈리아 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 시장규모 - 러시아 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 시장규모 - 아시아 지역별 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 매출 시장 점유율 - 아시아 지역별 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 판매량 시장 점유율 - 중국 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 시장규모 - 일본 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 시장규모 - 한국 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 시장규모 - 동남아시아 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 시장규모 - 인도 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 시장규모 - 남미 국가별 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 매출 시장 점유율 - 남미 국가별 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 판매량 시장 점유율 - 브라질 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 시장규모 - 아르헨티나 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 시장규모 - 중동 및 아프리카 국가별 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 매출 시장 점유율 - 중동 및 아프리카 국가별 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 판매량 시장 점유율 - 터키 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 시장규모 - 이스라엘 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 시장규모 - 사우디 아라비아 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 시장규모 - 아랍에미리트 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 시장규모 - 글로벌 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 생산 능력 - 지역별 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 생산량 비중, 2023년 VS 2030년 - 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 산업 가치 사슬 - 마케팅 채널 ※납품 보고서의 구성항목 및 내용은 본 페이지에 기재된 내용과 다를 수 있습니다. 보고서 주문 전에 당사에 보고서 샘플을 요청해서 구성항목 및 기재 내용을 반드시 확인하시길 바랍니다. 보고서 샘플에 없는 내용은 납품 드리는 보고서에도 포함되지 않습니다. |
| ※참고 정보 ## 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟의 이해 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟은 물리 증착(Physical Vapor Deposition, PVD) 공정의 핵심 소재 중 하나로, 텅스텐(W)과 텔루륨(Te)이 화학적으로 결합된 화합물입니다. 스퍼터링은 플라즈마 상태의 이온을 타겟 물질에 충돌시켜 원자 단위로 물질을 떼어내어 기판 위에 박막 형태로 증착하는 기술입니다. 이러한 스퍼터링 공정을 통해 텅스텐 텔루라이드 박막은 다양한 전자 소자 및 광학 장치의 제조에 활용됩니다. 텅스텐 텔루라이드는 층상 구조를 가지는 2차원 물질로, 이러한 독특한 결정 구조 덕분에 흥미로운 전기적, 광학적 특성을 나타냅니다. 대표적으로는 반도체적 특성, 뛰어난 열전도성, 그리고 독특한 광학적 흡수 및 투과 특성을 들 수 있습니다. 이러한 특성은 텅스텐 텔루라이드를 차세대 전자 소자, 특히 트랜지스터, 센서, 그리고 에너지 변환 장치 등의 연구 개발에 매우 중요한 소재로 부각시키고 있습니다. 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟은 일반적으로 고순도의 텅스텐 분말과 텔루륨 분말을 혼합하여 소결(sintering) 과정을 거쳐 제작됩니다. 소결 공정은 높은 온도와 압력 하에서 분말 입자들이 서로 결합하여 치밀한 고체 상태의 타겟을 만드는 과정입니다. 타겟의 성능은 원료 분말의 순도, 입자 크기, 혼합 비율, 그리고 소결 온도 및 시간 등 다양한 공정 변수에 의해 크게 영향을 받습니다. 특히 균일한 조성과 미세 구조를 갖는 타겟은 스퍼터링 과정에서 안정적인 증착 속도와 균일한 박막 품질을 보장하는 데 필수적입니다. 텅스텐 텔루라이드는 여러 가지 화학양론적 조성(stoichiometric composition)을 가질 수 있으며, 이에 따라 WTe2, WTe, W3Te4 등 다양한 형태가 존재합니다. 이 중에서 WTe2는 특히 연구가 활발히 진행되고 있으며, 층상 구조를 가지는 반도체로서 독특한 물리적 특성을 나타냅니다. WTe2는 전이 금속 디칼코게나이드(Transition Metal Dichalcogenides, TMDs) 계열에 속하며, 이러한 TMDs 물질들은 최근 2차원 소재 분야에서 graphene 다음으로 많은 주목을 받고 있습니다. WTe2는 벌크 상태에서는 반도체적 성질을 보이다가 박막 형태로 얇아질수록 금속적 성질이 나타나는 독특한 현상을 보이기도 하며, 이러한 특성은 소자 설계에 있어 유연성을 제공합니다. 스퍼터링 타겟으로서 텅스텐 텔루라이드의 주요 특징은 다음과 같습니다. 첫째, **높은 순도**가 요구됩니다. 스퍼터링을 통해 증착되는 박막의 품질은 타겟 물질의 순도에 직접적으로 좌우되기 때문입니다. 불순물이 존재할 경우 박막의 전기적, 광학적 특성에 심각한 영향을 미칠 수 있으며, 소자의 성능 저하를 야기할 수 있습니다. 따라서 텅스텐과 텔루륨 원료 분말 자체의 고순도 확보가 매우 중요합니다. 둘째, **균일한 조성과 미세 구조**를 가져야 합니다. 타겟 전체에 걸쳐 텅스텐과 텔루륨의 비율이 균일해야 스퍼터링 과정에서 일정한 조성의 박막을 증착할 수 있습니다. 또한, 미세 결정립 구조가 균일하면 증착 속도가 일정하게 유지되고, 표면 거칠기가 제어된 박막을 얻을 수 있습니다. 셋째, **기계적 강도**가 중요합니다. 스퍼터링 공정 중 발생하는 물리적인 충격과 열에 견딜 수 있는 충분한 기계적 강도가 필요합니다. 타겟이 쉽게 부서지거나 파손될 경우 공정의 안정성이 저해될 수 있습니다. 넷째, **높은 밀도**를 가지는 것이 이상적입니다. 높은 밀도는 타겟의 증착 효율을 높이고, 동일한 부피에서 더 많은 양의 물질을 증착할 수 있게 하여 타겟의 수명을 연장하는 데 기여합니다. 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟은 주로 다음과 같은 분야에서 활용될 수 있습니다. 첫째, **차세대 반도체 소자**입니다. WTe2는 뛰어난 전하 이동도와 밴드갭 조절 가능성으로 인해 고성능 트랜지스터, 메모리 소자, 그리고 논리 회로 등에 응용될 잠재력을 가지고 있습니다. 특히 2차원 소재로서의 특성을 활용하여 기존 실리콘 기반 소자의 물리적 한계를 극복할 수 있는 가능성을 제시합니다. 둘째, **촉매** 분야입니다. 텅스텐 텔루라이드는 수소 발생 반응(hydrogen evolution reaction) 등 다양한 전기화학적 반응에서 우수한 촉매 활성을 나타낼 수 있습니다. 이는 수소 에너지 생산 및 저장 기술 발전에 기여할 수 있습니다. 셋째, **열전 소자**입니다. 텅스텐 텔루라이드는 높은 제벡 계수와 낮은 열 전도도를 동시에 가질 수 있어 열 에너지를 전기 에너지로 변환하거나 그 반대의 과정을 효율적으로 수행하는 열전 소자의 재료로 주목받고 있습니다. 이는 폐열 회수 및 냉각 시스템 등에 응용될 수 있습니다. 넷째, **광학 소자 및 센서**입니다. WTe2는 넓은 파장 범위에서 독특한 광학적 특성을 보여 광 검출기, 태양 전지, 그리고 투명 전극 등 다양한 광학 응용 분야에 활용될 수 있습니다. 또한, 특정 화학 물질에 대한 민감도를 이용하여 가스 센서와 같은 센서 소자의 제작에도 이용될 수 있습니다. 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟과 관련된 주요 기술로는 **분말 야금 기술(Powder Metallurgy)**이 있습니다. 고순도 텅스텐 및 텔루륨 분말을 정밀하게 혼합하고, 성형, 소결, 그리고 후처리 과정을 통해 고품질의 타겟을 제조하는 핵심 기술입니다. 각 공정 단계에서의 온도, 압력, 시간, 분위기 등의 정밀한 제어가 타겟의 결정 구조, 밀도, 순도, 그리고 기계적 물성을 결정합니다. 또한, **스퍼터링 공정 제어 기술** 또한 중요합니다. RF(Radio Frequency) 또는 DC(Direct Current) 스퍼터링 방식, 스퍼터링 가스(아르곤 등)의 종류 및 압력, 파워, 타겟과 기판 간의 거리, 기판 온도 및 바이어스 전압 등 다양한 공정 변수들을 최적화하여 원하는 특성을 가진 텅스텐 텔루라이드 박막을 안정적으로 증착하는 기술이 요구됩니다. 최근에는 **자기장 강화 스퍼터링(Magnetron Sputtering)** 기술이 스퍼터링 효율 및 증착 속도를 높이기 위해 많이 사용됩니다. 또한, **타겟 표면 처리 기술**은 스퍼터링 시작 시 발생하는 초기 박막 결함을 줄이고 증착 과정의 안정성을 높이는 데 기여할 수 있습니다. 마지막으로, 증착된 박막의 특성을 분석하고 평가하는 **박막 분석 기술** (예: X선 회절(XRD), 주사 전자 현미경(SEM), 원자간 힘 현미경(AFM), 투과 전자 현미경(TEM), X선 광전자 분광법(XPS) 등) 또한 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟의 품질 관리 및 공정 최적화에 필수적인 관련 기술이라 할 수 있습니다. 결론적으로, 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟은 고유의 물리화학적 특성을 바탕으로 차세대 전자 및 광학 소자 분야에서 중요한 역할을 할 잠재력을 가진 첨단 소재입니다. 고품질 타겟의 성공적인 제조 및 활용을 위해서는 정밀한 분말 야금 기술과 스퍼터링 공정 제어 기술의 발전이 필수적이며, 이러한 기술들이 지속적으로 발전함에 따라 텅스텐 텔루라이드는 미래 기술 혁신에 더욱 크게 기여할 것으로 기대됩니다. |
| ※본 조사보고서 [글로벌 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 시장예측 2024-2030] (코드 : MONT2407F53837) 판매에 관한 면책사항을 반드시 확인하세요. |
| ※본 조사보고서 [글로벌 텅스텐 텔루라이드 스퍼터링 타겟 시장예측 2024-2030] 에 대해서 E메일 문의는 여기를 클릭하세요. |
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