| ■ 영문 제목 : Global Deep Ultraviolet (DUV) Photoresist Market Growth 2025-2031 | |
 | ■ 상품코드 : LPK23JL0815 ■ 조사/발행회사 : LP Information ■ 발행일 : 2025년 3월 ■ 페이지수 : 106 ■ 작성언어 : 영어 ■ 보고서 형태 : PDF ■ 납품 방식 : E메일 ■ 조사대상 지역 : 글로벌 ■ 산업 분야 : 화학&재료 |
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| LPI (LP Information)의 최신 조사 보고서는 심자외선 (DUV) 포토레지스트의 과거 판매실적을 살펴보고 2024년의 심자외선 (DUV) 포토레지스트 판매실적을 검토하여 2025년부터 2031년까지 예상되는 심자외선 (DUV) 포토레지스트 판매에 대한 지역 및 시장 세그먼트별 포괄적인 분석을 제공합니다. 세계의 심자외선 (DUV) 포토레지스트 시장규모는 2024년 xxx백만 달러에서 연평균 xx% 성장하여 2031년에는 xxx백만 달러에 달할 것으로 예측되고 있습니다. 본 보고서의 시장규모 데이터는 무역 전쟁 및 러시아-우크라이나 전쟁의 영향을 반영했습니다. 본 보고서는 심자외선 (DUV) 포토레지스트의 세계시장에 관해서 조사, 분석한 자료로서, 기업별 시장 점유율, 지역별 시장규모 (미주, 미국, 캐나다, 멕시코, 브라질, 아시아, 중국, 일본, 한국, 동남아시아, 인도, 유럽, 독일, 프랑스, 영국, 이탈리아, 러시아, 중동/아프리카, 이집트, 남아프리카, 터키, 중동GCC국 등), 시장동향, 판매/유통업자/고객 리스트, 시장예측 (2026년-2031년), 주요 기업동향 (기업정보, 제품, 판매량, 매출, 가격, 매출총이익) 등의 정보를 포함하고 있습니다. 또한, 주요지역의 종류별 시장규모 (248nm 포토레지스트, 193nm 포토레지스트, 193nm 침지형 포토레지스트)와 용도별 시장규모 (인쇄 회로, 반도체 리소그래피) 데이터도 수록되어 있습니다. ***** 목차 구성 ***** 보고서의 범위 경영자용 요약 - 세계의 심자외선 (DUV) 포토레지스트 시장규모 2020년-2031년 - 지역별 심자외선 (DUV) 포토레지스트 시장분석 - 종류별 심자외선 (DUV) 포토레지스트 시장규모 2020년-2025년 (248nm 포토레지스트, 193nm 포토레지스트, 193nm 침지형 포토레지스트) - 용도별 심자외선 (DUV) 포토레지스트 시장규모 2020년-2025년 (인쇄 회로, 반도체 리소그래피) 기업별 심자외선 (DUV) 포토레지스트 시장분석 - 기업별 심자외선 (DUV) 포토레지스트 판매량 - 기업별 심자외선 (DUV) 포토레지스트 매출액 - 기업별 심자외선 (DUV) 포토레지스트 판매가격 - 주요기업의 심자외선 (DUV) 포토레지스트 생산거점, 판매거점 - 시장 집중도 분석 지역별 분석 - 지역별 심자외선 (DUV) 포토레지스트 판매량 2020년-2025년 - 지역별 심자외선 (DUV) 포토레지스트 매출액 2020년-2025년 미주 시장 - 미주의 심자외선 (DUV) 포토레지스트 시장규모 2020년-2025년 - 미주의 심자외선 (DUV) 포토레지스트 시장규모 : 종류별 - 미주의 심자외선 (DUV) 포토레지스트 시장규모 : 용도별 - 미국 심자외선 (DUV) 포토레지스트 시장규모 - 캐나다 심자외선 (DUV) 포토레지스트 시장규모 - 멕시코 심자외선 (DUV) 포토레지스트 시장규모 - 브라질 심자외선 (DUV) 포토레지스트 시장규모 아시아 시장 - 아시아의 심자외선 (DUV) 포토레지스트 시장규모 2020년-2025년 - 아시아의 심자외선 (DUV) 포토레지스트 시장규모 : 종류별 - 아시아의 심자외선 (DUV) 포토레지스트 시장규모 : 용도별 - 중국 심자외선 (DUV) 포토레지스트 시장규모 - 일본 심자외선 (DUV) 포토레지스트 시장규모 - 한국 심자외선 (DUV) 포토레지스트 시장규모 - 동남아시아 심자외선 (DUV) 포토레지스트 시장규모 - 인도 심자외선 (DUV) 포토레지스트 시장규모 유럽 시장 - 유럽의 심자외선 (DUV) 포토레지스트 시장규모 2020년-2025년 - 유럽의 심자외선 (DUV) 포토레지스트 시장규모 : 종류별 - 유럽의 심자외선 (DUV) 포토레지스트 시장규모 : 용도별 - 독일 심자외선 (DUV) 포토레지스트 시장규모 - 프랑스 심자외선 (DUV) 포토레지스트 시장규모 - 영국 심자외선 (DUV) 포토레지스트 시장규모 중동/아프리카 시장 - 중동/아프리카의 심자외선 (DUV) 포토레지스트 시장규모 2020년-2025년 - 중동/아프리카의 심자외선 (DUV) 포토레지스트 시장규모 : 종류별 - 중동/아프리카의 심자외선 (DUV) 포토레지스트 시장규모 : 용도별 - 이집트 심자외선 (DUV) 포토레지스트 시장규모 - 남아프리카 심자외선 (DUV) 포토레지스트 시장규모 - 중동GCC 심자외선 (DUV) 포토레지스트 시장규모 시장의 성장요인, 과제, 동향 - 시장의 성장요인, 기회 - 시장의 과제, 리스크 - 산업 동향 제조원가 구조 분석 - 원재료 및 공급업체 - 심자외선 (DUV) 포토레지스트의 제조원가 구조 분석 - 심자외선 (DUV) 포토레지스트의 제조 프로세스 분석 - 심자외선 (DUV) 포토레지스트의 산업체인 구조 마케팅, 유통업체, 고객 - 판매채널 - 심자외선 (DUV) 포토레지스트의 유통업체 - 심자외선 (DUV) 포토레지스트의 주요 고객 지역별 심자외선 (DUV) 포토레지스트 시장 예측 - 지역별 심자외선 (DUV) 포토레지스트 시장규모 예측 2026년-2031년 - 미주 지역 예측 - 아시아 지역 예측 - 유럽 지역 예측 - 중동/아프리카 지역 예측 - 심자외선 (DUV) 포토레지스트의 종류별 시장예측 (248nm 포토레지스트, 193nm 포토레지스트, 193nm 침지형 포토레지스트) - 심자외선 (DUV) 포토레지스트의 용도별 시장예측 (인쇄 회로, 반도체 리소그래피) 주요 기업 분석 (기업정보, 제품, 판매량, 매출, 가격, 매출총이익) - Dongjin Semichem, JSR, Sumitomo Chemical, Fujifilm, TOK, Shin-Etsu, DuPont, Inpria, Lam Research, Beijing Kehua Microelectronics Material Co Ltd, Shenzhen RongDa Photosensitive 조사의 결론 |
It Refers To The Corrosion-Resistant Etching Film Material Whose Solubility Changes Through Ultraviolet, Deep Ultraviolet, Electron Beam, Ion Beam, X-Ray And Other Light Or Radiation
LPI (LP Information)’ newest research report, the “Deep Ultraviolet (DUV) Photoresist Industry Forecast” looks at past sales and reviews total world Deep Ultraviolet (DUV) Photoresist sales in 2024, providing a comprehensive analysis by region and market sector of projected Deep Ultraviolet (DUV) Photoresist sales for 2025 through 2031. With Deep Ultraviolet (DUV) Photoresist sales broken down by region, market sector and sub-sector, this report provides a detailed analysis in US$ millions of the world Deep Ultraviolet (DUV) Photoresist industry.
This Insight Report provides a comprehensive analysis of the global Deep Ultraviolet (DUV) Photoresist landscape and highlights key trends related to product segmentation, company formation, revenue, and market share, latest development, and M&A activity. This report also analyzes the strategies of leading global companies with a focus on Deep Ultraviolet (DUV) Photoresist portfolios and capabilities, market entry strategies, market positions, and geographic footprints, to better understand these firms’ unique position in an accelerating global Deep Ultraviolet (DUV) Photoresist market.
This Insight Report evaluates the key market trends, drivers, and affecting factors shaping the global outlook for Deep Ultraviolet (DUV) Photoresist and breaks down the forecast by type, by application, geography, and market size to highlight emerging pockets of opportunity. With a transparent methodology based on hundreds of bottom-up qualitative and quantitative market inputs, this study forecast offers a highly nuanced view of the current state and future trajectory in the global Deep Ultraviolet (DUV) Photoresist.
The global Deep Ultraviolet (DUV) Photoresist market size is projected to grow from US$ million in 2024 to US$ million in 2031; it is expected to grow at a CAGR of % from 2025 to 2031.
United States market for Deep Ultraviolet (DUV) Photoresist is estimated to increase from US$ million in 2024 to US$ million by 2031, at a CAGR of % from 2025 through 2031.
China market for Deep Ultraviolet (DUV) Photoresist is estimated to increase from US$ million in 2024 to US$ million by 2031, at a CAGR of % from 2025 through 2031.
Europe market for Deep Ultraviolet (DUV) Photoresist is estimated to increase from US$ million in 2024 to US$ million by 2031, at a CAGR of % from 2025 through 2031.
Global key Deep Ultraviolet (DUV) Photoresist players cover Dongjin Semichem, JSR, Sumitomo Chemical, Fujifilm, TOK, Shin-Etsu, DuPont, Inpria and Lam Research, etc. In terms of revenue, the global two largest companies occupied for a share nearly % in 2024.
This report presents a comprehensive overview, market shares, and growth opportunities of Deep Ultraviolet (DUV) Photoresist market by product type, application, key manufacturers and key regions and countries.
[Market Segmentation]
Segmentation by type
248nm Photoresist
193nm Photoresist
193nm Immersion Photoresist
Segmentation by application
Printed Circuit
Semiconductor Lithography
This report also splits the market by region:
Americas
United States
Canada
Mexico
Brazil
APAC
China
Japan
Korea
Southeast Asia
India
Australia
Europe
Germany
France
UK
Italy
Russia
Middle East & Africa
Egypt
South Africa
Israel
Turkey
GCC Countries
The below companies that are profiled have been selected based on inputs gathered from primary experts and analyzing the company’s coverage, product portfolio, its market penetration.
Dongjin Semichem
JSR
Sumitomo Chemical
Fujifilm
TOK
Shin-Etsu
DuPont
Inpria
Lam Research
Beijing Kehua Microelectronics Material Co Ltd
Shenzhen RongDa Photosensitive
[Key Questions Addressed in this Report]
What is the 10-year outlook for the global Deep Ultraviolet (DUV) Photoresist market?
What factors are driving Deep Ultraviolet (DUV) Photoresist market growth, globally and by region?
Which technologies are poised for the fastest growth by market and region?
How do Deep Ultraviolet (DUV) Photoresist market opportunities vary by end market size?
How does Deep Ultraviolet (DUV) Photoresist break out type, application?
What are the influences of trade war and Russia-Ukraine war?
1 Scope of the Report |
| ※참고 정보 심자외선 (DUV) 포토레지스트는 반도체 제조 공정에서 매우 중요한 역할을 하는 감광성 물질입니다. 극자외선 (EUV) 이전 세대의 핵심 리소그래피 기술인 심자외선 리소그래피에 사용되며, 웨이퍼 위에 회로 패턴을 정밀하게 형성하는 데 필수적입니다. 이 포토레지스트는 빛에 반응하여 화학적 변화를 일으키고, 현상액에 의해 특정 부분이 제거되거나 남아있게 함으로써 미세한 패턴을 구현하는 기반을 마련합니다. DUV 포토레지스트는 주로 화학증폭형 포토레지스트 (Chemically Amplified Photoresist, CAR)의 형태로 사용됩니다. 화학증폭형 포토레지스트는 빛에 의해 촉매가 생성되고, 이 촉매가 주변의 고분자 수지를 변화시키는 연쇄 반응을 통해 민감도와 해상도를 크게 향상시키는 특징을 지닙니다. 이는 기존의 비화학증폭형 포토레지스트에 비해 훨씬 적은 노광량으로도 원하는 패턴을 구현할 수 있게 하며, 생산성 향상에 크게 기여합니다. DUV 포토레지스트의 핵심적인 특징은 다음과 같습니다. 첫째, 특정 파장의 DUV 광원에 대한 높은 감광성을 가져야 합니다. 현재 주로 사용되는 DUV 파장은 248nm (KrF 레이저), 193nm (ArF 레이저)이며, 각각의 파장에 최적화된 포토레지스트가 개발되었습니다. 둘째, 고해상도 구현 능력이 중요합니다. 반도체 회로의 미세화가 진행됨에 따라, 수십 나노미터 수준의 패턴을 안정적으로 구현할 수 있어야 합니다. 이는 포토레지스트 내의 광산 발생제 (Photo Acid Generator, PAG)의 효율, 용해 조절제 (Dissolution Inhibitor)의 설계, 그리고 고분자 수지의 특성에 의해 결정됩니다. 셋째, 공정 내 안정성 및 신뢰성이 요구됩니다. 포토레지스트는 도포, 노광, 현상, 식각 등 다양한 공정 단계에서 물리적, 화학적 스트레스를 견뎌야 하며, 패턴의 변형이나 손상 없이 안정적인 성능을 유지해야 합니다. 넷째, 잔사(residue) 발생을 최소화해야 합니다. 노광 및 현상 후 웨이퍼 표면에 남는 잔사는 다음 공정 단계에 오류를 유발할 수 있으므로, 잔사가 적고 깨끗하게 제거되는 것이 중요합니다. DUV 포토레지스트는 사용되는 DUV 광원의 종류에 따라 크게 두 가지로 분류할 수 있습니다. 첫 번째는 248nm KrF 엑시머 레이저를 사용하는 포토레지스트입니다. 이 포토레지스트는 주로 방향족 고분자를 기반으로 하며, 비교적 초기에 개발되어 널리 사용되었습니다. 두 번째는 193nm ArF 엑시머 레이저를 사용하는 포토레지스트입니다. 이는 248nm 포토레지스트보다 더 짧은 파장을 사용하므로 더 미세한 패턴을 구현할 수 있습니다. 193nm 포토레지스트는 알리사이클릭 고분자 (alicyclic polymer)를 기반으로 하며, 더 높은 수차 (aberration) 보정 능력과 감도를 갖추도록 설계되었습니다. 193nm 포토레지스트는 다시 액상 화학증폭형 포토레지스트 (Immersion Lithography Photoresist)로 발전하여 더욱 높은 해상도를 달성하게 되었습니다. 이는 193nm 파장이 공기 중에 노출될 때 산란이 심하여 해상도가 저하되는 것을 막기 위해, 렌즈와 웨이퍼 사이에 순수한 물과 같은 높은 굴절률의 액체를 채워 파장의 유효 길이를 늘리는 기술입니다. DUV 포토레지스트의 주요 용도는 반도체 집적회로 (IC) 제조 공정에서 패턴 형성입니다. 특히 DRAM, NAND 플래시 메모리, Logic IC 등 다양한 종류의 반도체 칩 생산에 필수적으로 사용됩니다. DUV 리소그래피 기술은 오랜 기간 동안 반도체 산업의 발전과 함께해 왔으며, 수십 나노미터 공정까지도 성공적으로 구현해왔습니다. DUV 포토레지스트의 성능 향상은 반도체 회로의 집적도를 높이고 성능을 개선하는 데 직접적인 영향을 미칩니다. DUV 포토레지스트와 관련된 주요 기술로는 DUV 리소그래피 기술 자체, 즉 광원 개발, 광학계 설계, 그리고 패턴 전달 방식 등이 있습니다. 특히 포토레지스트 자체의 기술 개발은 핵심적인 부분을 차지합니다. 여기에는 고효율 PAG 개발, 용해 조절제 설계 및 합성, 새로운 고분자 수지 개발 등이 포함됩니다. 또한, 반사 방지 코팅 (Anti-Reflective Coating, ARC) 기술도 중요합니다. 웨이퍼 표면에서의 빛 반사는 패턴의 선명도를 저하시키고 해상도를 감소시킬 수 있으므로, 이를 억제하기 위한 ARC 기술이 필수적입니다. 하부 반사 방지 코팅 (Bottom Anti-Reflective Coating, BARC)과 상부 반사 방지 코팅 (Top Anti-Reflective Coating, TARC) 등이 활용됩니다. 더불어, 포토레지스트의 두께 변화를 제어하고 균일한 박막을 형성하는 코팅 기술 (spin coating), 노광 전후의 열처리 공정 (pre-bake, post-exposure bake, PEB) 등이 포토레지스트의 성능을 최적화하는 데 중요한 영향을 미칩니다. PEB 공정은 화학증폭형 포토레지스트에서 생성된 산의 확산을 제어하여 패턴의 해상도와 모양을 결정하는 데 핵심적인 역할을 합니다. DUV 포토레지스트는 반도체 미세 공정의 발전과 함께 끊임없이 진화해 왔습니다. 초기의 248nm 포토레지스트에서 시작하여, 193nm 포토레지스트의 등장과 액상 리소그래피 기술의 접목으로 해상도는 획기적으로 향상되었습니다. 현재는 극자외선 (EUV) 리소그래피 기술이 차세대 주력 기술로 자리 잡고 있지만, DUV 기술은 여전히 많은 공정에서 중요한 역할을 수행하고 있으며, 특히 193nm 액상 리소그래피는 10나노미터 이하 공정에서도 광범위하게 활용되고 있습니다. 이러한 DUV 포토레지스트 기술의 발전은 반도체 산업의 지속적인 성장을 견인하는 중요한 동력이 되고 있습니다. |
| ※본 조사보고서 [세계의 심자외선 (DUV) 포토레지스트 시장예측 2025년-2031년] (코드 : LPK23JL0815) 판매에 관한 면책사항을 반드시 확인하세요. |
| ※본 조사보고서 [세계의 심자외선 (DUV) 포토레지스트 시장예측 2025년-2031년] 에 대해서 E메일 문의는 여기를 클릭하세요. |
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