| ■ 영문 제목 : Global Remote Plasma Sources Market Growth 2025-2031 | |
 | ■ 상품코드 : LPK23JU0936 ■ 조사/발행회사 : LP Information ■ 발행일 : 2025년 3월 ■ 페이지수 : 92 ■ 작성언어 : 영어 ■ 보고서 형태 : PDF ■ 납품 방식 : E메일 ■ 조사대상 지역 : 글로벌 ■ 산업 분야 : 기계&장치 |
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| LP인포메이션 (LPI) 의 최신 조사 자료는 원격 플라즈마 소스의 과거 판매실적을 살펴보고 2024년의 원격 플라즈마 소스 판매실적을 검토하여 2025년부터 2031년까지 예상되는 원격 플라즈마 소스 판매에 대한 지역 및 시장 세그먼트별 포괄적인 분석을 제공합니다. 글로벌 원격 플라즈마 소스 시장규모는 2024년 xxx백만 달러에서 연평균 xx% 성장하여 2031년에는 xxx백만 달러에 달할 것으로 예측되고 있습니다. 본 보고서의 시장규모 데이터는 무역 전쟁 및 러시아-우크라이나 전쟁의 영향을 반영했습니다. 본 조사 자료는 글로벌 원격 플라즈마 소스 시장에 관해서 조사, 분석한 보고서로서, 기업별 시장 점유율, 지역별 시장규모 (미주, 미국, 캐나다, 멕시코, 브라질, 아시아 태평양, 중국, 일본, 한국, 동남아시아, 인도, 유럽, 독일, 프랑스, 영국, 이탈리아, 러시아, 중동/아프리카, 이집트, 남아프리카, 터키, 중동GCC국 등), 시장동향, 판매/유통업자/고객 리스트, 시장예측 (2026년-2031년), 주요 기업동향 (기업정보, 제품, 판매량, 매출, 가격, 매출총이익) 등의 정보를 수록하고 있습니다. 또한, 주요지역의 종류별 (원격 플라즈마 클리너, 원격 플라즈마 프로세서) 시장규모와 용도별 (전자, 화학, 광학, 기타) 시장규모 데이터도 포함되어 있습니다. ***** 목차 구성 ***** 보고서의 범위 경영자용 요약 - 글로벌 원격 플라즈마 소스 시장규모 2020년-2031년 - 지역별 원격 플라즈마 소스 시장분석 - 종류별 원격 플라즈마 소스 시장규모 2020년-2025년 (원격 플라즈마 클리너, 원격 플라즈마 프로세서) - 용도별 원격 플라즈마 소스 시장규모 2020년-2025년 (전자, 화학, 광학, 기타) 기업별 원격 플라즈마 소스 시장분석 - 기업별 원격 플라즈마 소스 판매량 - 기업별 원격 플라즈마 소스 매출액 - 기업별 원격 플라즈마 소스 판매가격 - 주요기업의 원격 플라즈마 소스 생산거점, 판매거점 - 시장 집중도 분석 지역별 분석 - 지역별 원격 플라즈마 소스 판매량 2020년-2025년 - 지역별 원격 플라즈마 소스 매출액 2020년-2025년 미주 시장 - 미주의 원격 플라즈마 소스 시장규모 2020년-2025년 - 미주의 원격 플라즈마 소스 시장규모 : 종류별 - 미주의 원격 플라즈마 소스 시장규모 : 용도별 - 미국 원격 플라즈마 소스 시장규모 - 캐나다 원격 플라즈마 소스 시장규모 - 멕시코 원격 플라즈마 소스 시장규모 - 브라질 원격 플라즈마 소스 시장규모 아시아 태평양 시장 - 아시아 태평양의 원격 플라즈마 소스 시장규모 2020년-2025년 - 아시아 태평양의 원격 플라즈마 소스 시장규모 : 종류별 - 아시아 태평양의 원격 플라즈마 소스 시장규모 : 용도별 - 중국 원격 플라즈마 소스 시장규모 - 일본 원격 플라즈마 소스 시장규모 - 한국 원격 플라즈마 소스 시장규모 - 동남아시아 원격 플라즈마 소스 시장규모 - 인도 원격 플라즈마 소스 시장규모 유럽 시장 - 유럽의 원격 플라즈마 소스 시장규모 2020년-2025년 - 유럽의 원격 플라즈마 소스 시장규모 : 종류별 - 유럽의 원격 플라즈마 소스 시장규모 : 용도별 - 독일 원격 플라즈마 소스 시장규모 - 프랑스 원격 플라즈마 소스 시장규모 - 영국 원격 플라즈마 소스 시장규모 중동/아프리카 시장 - 중동/아프리카의 원격 플라즈마 소스 시장규모 2020년-2025년 - 중동/아프리카의 원격 플라즈마 소스 시장규모 : 종류별 - 중동/아프리카의 원격 플라즈마 소스 시장규모 : 용도별 - 이집트 원격 플라즈마 소스 시장규모 - 남아프리카 원격 플라즈마 소스 시장규모 - 중동GCC 원격 플라즈마 소스 시장규모 시장의 성장요인, 과제, 동향 - 시장의 성장요인, 기회 - 시장의 과제, 리스크 - 산업 동향 제조원가 구조 분석 - 원재료 및 공급업체 - 원격 플라즈마 소스의 제조원가 구조 분석 - 원격 플라즈마 소스의 제조 프로세스 분석 - 원격 플라즈마 소스의 산업체인 구조 마케팅, 유통업체, 고객 - 판매채널 - 원격 플라즈마 소스의 유통업체 - 원격 플라즈마 소스의 주요 고객 지역별 원격 플라즈마 소스 시장 예측 - 지역별 원격 플라즈마 소스 시장규모 예측 2026년-2031년 - 미주 시장 예측 - 아시아 태평양 시장 예측 - 유럽 시장 예측 - 중동/아프리카 시장 예측 - 원격 플라즈마 소스의 종류별 시장예측 (원격 플라즈마 클리너, 원격 플라즈마 프로세서) - 원격 플라즈마 소스의 용도별 시장예측 (전자, 화학, 광학, 기타) 주요 기업 분석 (기업정보, 제품, 판매량, 매출, 가격, 매출총이익) - Advanced Energy, New Power Plasma, samco-ucp, MKS Instruments., Muegge, PIE Scientific LLC., Rave Scientific 조사의 결과/결론 |
The Remote Plasma Source (Remote Plasma Generator) to improve the productivity of semiconductor and LCD manufacturing is a product generating high-density plasma that supplies F (fluorine) radicals to clean chemically the Si (silicone) accumulated in the chamber after the deposition process in a semiconductor and LCD manufacturing process.
LPI (LP Information)’ newest research report, the “Remote Plasma Sources Industry Forecast” looks at past sales and reviews total world Remote Plasma Sources sales in 2024, providing a comprehensive analysis by region and market sector of projected Remote Plasma Sources sales for 2025 through 2031. With Remote Plasma Sources sales broken down by region, market sector and sub-sector, this report provides a detailed analysis in US$ millions of the world Remote Plasma Sources industry.
This Insight Report provides a comprehensive analysis of the global Remote Plasma Sources landscape and highlights key trends related to product segmentation, company formation, revenue, and market share, latest development, and M&A activity. This report also analyzes the strategies of leading global companies with a focus on Remote Plasma Sources portfolios and capabilities, market entry strategies, market positions, and geographic footprints, to better understand these firms’ unique position in an accelerating global Remote Plasma Sources market.
This Insight Report evaluates the key market trends, drivers, and affecting factors shaping the global outlook for Remote Plasma Sources and breaks down the forecast by type, by application, geography, and market size to highlight emerging pockets of opportunity. With a transparent methodology based on hundreds of bottom-up qualitative and quantitative market inputs, this study forecast offers a highly nuanced view of the current state and future trajectory in the global Remote Plasma Sources.
The global Remote Plasma Sources market size is projected to grow from US$ 206 million in 2024 to US$ 293.5 million in 2031; it is expected to grow at a CAGR of 293.5 from 2025 to 2031.
For the major players of Remote Plasma Sources, Advanced Energy, New Power Plasma, Samco-ucp, MKS Instruments., Muegge GmbH, PIE Scientific LLC., etc. maintained its first place in the ranking, followed by Advanced Energy and New Power Plasma .Top 3 players accounted for 80% of the Global Remote Plasma Sources revenue market share.
In this study, the sales market for Remote Plasma Sources was divided into six geographic regions. North America occupied the largest sales market share with 29%. It is followed by Korea and China with 18% and 16% respectively.
On the basis of product type, Remote Plasma Cleaner segment is projected to account for the largest sales volume market share during the forecast period; this segment was estimated to account for 65% hare in terms of volume.
In the applications, CVD Industry segment was estimated to account for the highest market share of 47% in terms of volume.
This report presents a comprehensive overview, market shares, and growth opportunities of Remote Plasma Sources market by product type, application, key manufacturers and key regions and countries.
[Market Segmentation]
Segmentation by type
Remote Plasma Cleaner
Remote Plasma Processor
Segmentation by application
Electronics
Chemical
Optics
Others
This report also splits the market by region:
Americas
United States
Canada
Mexico
Brazil
APAC
China
Japan
Korea
Southeast Asia
India
Australia
Europe
Germany
France
UK
Italy
Russia
Middle East & Africa
Egypt
South Africa
Israel
Turkey
GCC Countries
The below companies that are profiled have been selected based on inputs gathered from primary experts and analyzing the company’s coverage, product portfolio, its market penetration.
Advanced Energy
New Power Plasma
samco-ucp
MKS Instruments.
Muegge
PIE Scientific LLC.
Rave Scientific
[Key Questions Addressed in this Report]
What is the 10-year outlook for the global Remote Plasma Sources market?
What factors are driving Remote Plasma Sources market growth, globally and by region?
Which technologies are poised for the fastest growth by market and region?
How do Remote Plasma Sources market opportunities vary by end market size?
How does Remote Plasma Sources break out type, application?
What are the influences of trade war and Russia-Ukraine war?
1 Scope of the Report |
| ※참고 정보 원격 플라즈마 소스는 기존의 직접적인 플라즈마 노출 방식과는 달리, 플라즈마가 생성된 영역과 처리 대상이 되는 영역이 물리적으로 분리된 형태의 플라즈마 발생 장치를 의미합니다. 이러한 분리된 구조는 플라즈마 자체의 높은 온도나 에너지가 직접적으로 재료에 가해지는 것을 방지하면서도, 플라즈마에서 생성된 활성종(예: 라디칼, 이온, 여기된 분자 등)만을 효과적으로 활용하여 다양한 표면 처리나 재료 합성 등의 공정을 수행할 수 있게 해줍니다. 원격 플라즈마 소스의 핵심적인 특징은 플라즈마 생성부와 처리 대상부의 공간적 분리에 있습니다. 일반적인 플라즈마 공정에서는 전극이나 고주파 유도 코일 등이 처리 대상물과 매우 근접하게 위치하여 플라즈마 자체가 대상물의 표면을 직접적으로 때리거나 가열하는 경우가 많습니다. 하지만 원격 플라즈마 소스에서는 이러한 직접적인 상호작용을 최소화합니다. 플라즈마는 특정 용기나 챔버 내에서 생성되고, 생성된 플라즈마에서 방출되는 고에너지의 전자는 플라즈마 영역에 갇히도록 설계되거나, 플라즈마에서 분리된 활성종들만이 처리 챔버로 유도되어 처리 대상물의 표면과 반응하게 됩니다. 이러한 방식을 통해 플라즈마 자체의 열적 영향이나 강한 이온 충격에 민감한 재료나 미세 구조를 손상 없이 처리할 수 있다는 장점을 가집니다. 원격 플라즈마 소스는 플라즈마를 생성하는 방식에 따라 매우 다양한 종류로 분류될 수 있습니다. 가장 대표적인 방식으로는 마이크로파를 이용하는 전자 사이클로트론 공명(Electron Cyclotron Resonance, ECR) 플라즈마 소스, 고주파(RF) 또는 초고주파(UHF)를 이용하는 용량성 또는 유도성 결합 플라즈마 소스, 그리고 글로우 방전(Glow Discharge) 기반의 소스 등이 있습니다. ECR 플라즈마 소스는 특정 자기장 하에서 마이크로파 에너지가 전자와 공명하여 효율적으로 플라즈마를 생성하는 방식으로, 비교적 낮은 압력에서도 높은 전자 밀도를 얻을 수 있어 원격 플라즈마 소스의 구현에 유리합니다. RF 또는 UHF를 이용하는 방식은 안테나나 코일을 통해 플라즈마를 생성하며, 플라즈마 생성부와 처리부를 분리하기 위해 복잡한 파이프라인이나 유도 시스템을 사용합니다. 글로우 방전 기반의 원격 플라즈마 소스는 저온의 플라즈마를 생성하는 데 적합하며, 특정 설계 구조를 통해 플라즈마 제트 형태로 활성종을 대상물로 전달하는 방식도 있습니다. 이 외에도 다양한 방식의 플라즈마 생성 기술을 활용하여 원격 플라즈마 소스를 구현할 수 있으며, 각각의 방식은 생성되는 플라즈마의 특성(전자 온도, 전자 밀도, 활성종의 종류 및 농도 등)에 차이를 보입니다. 원격 플라즈마 소스의 가장 큰 장점은 플라즈마의 높은 열이나 에너지가 처리 대상물에 직접적으로 가해지지 않음에도 불구하고, 플라즈마에서 생성된 반응성이 높은 라디칼이나 여기된 분자들과 같은 화학적 활성종을 효과적으로 활용할 수 있다는 점입니다. 이는 민감한 재료, 예를 들어 유기물, 고분자, 나노 구조체, 그리고 정밀 전자 부품 등의 표면을 개질하거나 코팅할 때 매우 유용합니다. 구체적인 용도로는 다음과 같은 것들이 있습니다. 첫째, 표면 개질 및 활성화입니다. 원격 플라즈마는 재료 표면에 대한 화학적 결합을 끊거나 새로운 작용기를 도입하여 표면의 접착력, 친수성/소수성, 생체 적합성 등을 향상시키는 데 사용됩니다. 예를 들어, 고분자 필름의 표면을 플라즈마로 처리하여 다른 물질과의 접착력을 높여 코팅이나 접합 공정에 활용할 수 있습니다. 또한, 의료용 임플란트나 바이오 센서 등의 표면을 처리하여 생체 물질과의 상호작용을 개선하는 데도 사용됩니다. 둘째, 박막 증착입니다. 원격 플라즈마를 이용한 박막 증착은 저온 공정이 가능하다는 큰 장점을 가집니다. 플라즈마 내에서 전구체 가스가 분해되어 생성된 활성종들이 기판 위에 증착되어 박막을 형성합니다. 이는 유기 발광 다이오드(OLED)와 같은 유기 전자 소자나, 유리 표면의 기능성 코팅, 광학 코팅 등 열에 민감한 기판 위에 다양한 종류의 박막을 증착하는 데 매우 효과적입니다. 특히, 고분자 전구체를 사용하여 유연하고 균일한 유기 박막을 증착하는 데 유용합니다. 셋째, 잔류물 제거 및 세정입니다. 반도체 공정이나 디스플레이 패널 제조 공정 등에서 발생하는 미세한 유기물 잔류물이나 오염 물질을 효과적으로 제거하는 데 사용될 수 있습니다. 원격 플라즈마에 의해 생성된 산소 라디칼이나 기타 활성종은 유기물을 분해하고 휘발성 부산물로 만들어 제거함으로써 깨끗한 표면을 얻을 수 있습니다. 이러한 공정은 건식 세정 방식으로서 용매를 사용하지 않아 환경 친화적이며, 매우 미세한 패턴의 세정에도 적합합니다. 넷째, 물질 합성입니다. 특정 전구체 가스와 플라즈마의 반응을 통해 나노 입자나 복합 재료 등을 합성하는 데 활용될 수 있습니다. 플라즈마의 높은 에너지 밀도를 이용하여 전구체 가스를 효과적으로 분해하고 반응을 촉진하며, 이를 통해 제어된 크기와 구조를 가진 나노 입자를 합성할 수 있습니다. 원격 플라즈마 소스의 구현 및 최적화와 관련하여 다양한 기술들이 연구되고 있습니다. 플라즈마 소스 자체의 설계는 플라즈마의 생성 효율, 균일성, 그리고 처리 챔버로의 활성종 전달 효율에 큰 영향을 미칩니다. 마이크로파나 RF 에너지의 주입 방식, 가스 유입 방식, 자기장의 세기 및 분포, 그리고 플라즈마를 유도하는 배관의 설계 등이 모두 중요한 변수로 작용합니다. 또한, 플라즈마에서 생성되는 활성종의 종류와 농도를 제어하는 것도 매우 중요합니다. 이를 위해 다양한 종류의 가스 혼합, 압력 제어, 그리고 플라즈마 생성 파라미터(전력, 주파수, 온도 등)의 정밀한 제어가 요구됩니다. 처리 대상물과의 상호작용을 이해하고 제어하기 위한 진단 기술 또한 중요합니다. OES(Optical Emission Spectrometry)를 통해 플라즈마에서 방출되는 빛을 분석하여 생성된 활성종의 종류와 농도를 파악하거나, 질량 분석기(Mass Spectrometry)를 사용하여 플라즈마 내의 이온 종을 분석하는 등의 방법으로 플라즈마 특성을 이해할 수 있습니다. 더 나아가, 처리 후의 표면 변화를 분석하기 위해 XPS(X-ray Photoelectron Spectroscopy), AFM(Atomic Force Microscopy), SEM(Scanning Electron Microscopy) 등 다양한 표면 분석 기법이 활용됩니다. 원격 플라즈마 소스는 기존의 플라즈마 기술로는 달성하기 어려웠던 미세하고 민감한 재료의 표면 처리 및 합성을 가능하게 함으로써, 첨단 산업 분야에서 그 중요성이 점차 증대되고 있습니다. 반도체, 디스플레이, 바이오 메디컬, 그리고 신소재 개발 등 다양한 분야에서 혁신적인 공정 구현을 위한 핵심 기술로 자리매김하고 있으며, 앞으로도 더욱 발전된 형태의 원격 플라즈마 소스 기술이 개발될 것으로 기대됩니다. |
| ※본 조사보고서 [글로벌 원격 플라즈마 소스 시장 2025-2031] (코드 : LPK23JU0936) 판매에 관한 면책사항을 반드시 확인하세요. |
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